1.一种旋转式磁控靶，其特征在于，包括靶材、磁芯和磁铁，磁芯设于靶材中部，磁芯外周设有至少一个磁铁，磁铁朝向靶材的一端呈锥形。
2.根据权利要求1所述一种旋转式磁控靶，其特征在于，所述靶材为中空的圆柱状结构，磁芯和磁铁均位于靶材中部的空间内。
3.根据权利要求1所述一种旋转式磁控靶，其特征在于，所述磁芯为中空的圆柱状结构，磁芯外周设有固定架，磁铁安装于固定架上。
4.根据权利要求3所述一种旋转式磁控靶，其特征在于，所述磁铁相对的两端分别为锥形端和平面端，平面端安装于固定架上，锥形端朝向靶材内壁。
5.根据权利要求4所述一种旋转式磁控靶，其特征在于，在靶材的同一轴向截面中，所述磁铁为一体式结构或分体式结构；
当磁铁为一体式结构时，磁铁为长方体状，磁铁的锥形端呈三棱柱状；
当磁铁为分体式结构时，磁铁由并排分布的多个分块组成，各分块为圆柱状结构或长方体结构；当各分块为圆柱状结构时，各分块的锥形端呈圆锥状；当各分块为长方体结构时，各分块的锥形端呈四棱锥状。
6.根据权利要求3所述一种旋转式磁控靶，其特征在于，所述靶材和磁芯同心设置，磁铁位于靶材和磁芯之间形成的环形空间内；在靶材的同一径向截面中，磁芯外周设有三个磁铁，三个磁铁并排安装于固定架上。
7.一种具有权利要求1～6任一项所述旋转式磁控靶的卧式磁控溅射镀膜设备，其特征在于，按照工件的输送方向，包括依次连接的前预抽室、前粗抽室、前精抽室、前缓冲室、镀膜室、后缓冲室、后精抽室、后粗抽室和后预抽室，镀膜室为一个或多个，各镀膜室中设有旋转式磁控靶，旋转式磁控靶位于工件上方。
8.根据权利要求7所述一种卧式磁控溅射镀膜设备，其特征在于，所述镀膜室中还设有加热器，加热器位于工件下方。
9.根据权利要求8所述一种卧式磁控溅射镀膜设备，其特征在于，所述加热器包括加热管和加热管接头，加热管呈水平放置的U型状，加热管两侧的端部通过接头螺母与加热管接头固定连接，加热管接头与镀膜室的内壁固定连接，加热管与加热管接头的连接处还设有密封圈，加热管的端部外接热源。
10.根据权利要求7所述一种卧式磁控溅射镀膜设备，其特征在于，所述前预抽室和前粗抽室设有第一抽气机组，前精抽室设有第二抽气机组，前缓冲室、镀膜室和后缓冲室设有第三抽气机组，后精抽室设有第四抽气机组，后粗抽室和后预抽室设有第五抽气机组；
第一抽气机组和第二抽气机组结构相同，分别包括预抽阀、粗抽阀、旁路阀、第一罗茨泵和第一机械泵，前预抽室和后预抽室上分别设有预抽管，前粗抽室和后粗抽室上分别设有粗抽管；预抽管上设置预抽阀，粗抽管上设置粗抽阀和第一罗茨泵，预抽管和粗抽管之间还通过旁路管连通，旁路管上设有至少一台第一机械泵；其中，预抽管、预抽阀和第一机械泵组成第一抽气管路，粗抽管、粗抽阀、旁路阀、旁路管、第一罗茨泵和第一机械泵组成第二抽气管路。