技术总结
本实用新型公开一种旋转式磁控靶及卧式磁控溅射镀膜设备，旋转式磁控靶包括靶材、磁芯和磁铁，磁芯设于靶材中部，磁芯外周设有至少一个磁铁，磁铁朝向靶材的一端呈锥形。卧式磁控溅射镀膜设备包括依次连接的前预抽室、前粗抽室、前精抽室、前缓冲室、镀膜室、后缓冲室、后精抽室、后粗抽室和后预抽室，镀膜室为一个或多个，各镀膜室中设有旋转式磁控靶，旋转式磁控靶位于工件上方。本旋转式磁控靶通过将磁铁末端设计为尖端，增强了磁力线在靶材表面的分布密度，可加大溅射出来的靶材粒子数量，从而提高了工件表面的镀膜效率。将其应用于卧式磁控溅射镀膜设备中，可有效提高工件的镀膜效率，缩短整个工艺线的生产周期，从而提高生产效率。
技术研发人员：朱建明;李金清;张闰华
受保护的技术使用者：肇庆市科润真空设备有限公司
文档号码：201620688645
技术研发日：2016.06.30
技术公布日：2017.01.25