1.一种导光板抛光定位机构，其特征在于：包括负压真空吸附系统、工作平台（1）和设于工作平台（1）上的多组抛光定位机构，所述抛光定位机构由抛光平台（11）以及设于抛光平台前后左右四个方位的第一定位机构、第二定位机构、第三定位机构及第四定位机构，所述抛光平台（11）固定于抛光平台底座（5）上，其上设有多组吸气孔，所述吸气孔通过管道与负压真空吸附系统相联通，所述抛光平台底座（5）通过滑块与设于工作平台（1）上的线性轨道（15）滑动连接，所述线性轨道（15）上设有驱动装置，所述驱动装置由丝杆（16）和伺服电机（17）构成，用于驱动抛光平台（11）沿线性轨道（15）来回滑动，所述第一定位机构由固定设于抛光平台底座（5）上并位于抛光平台（11）前侧的两个定位立柱（6）构成，所述第二定位机构固定于抛光平台底座（5）上并位于抛光平台（11）的后侧，由导轮（12）、定位板一（13）和气缸一（14）构成，所述导轮（12）转动连接于定位板一（13）的顶部，所述定位板一（13）固定于气缸一（14）的轴杆上，所述第三定位机构由定位板二（4）、连接板一（3）以及气缸二（2）构成，所述定位板二（4）通过弹簧与连接板一（3）连接，所述连接板一（3）固定于气缸二（2）的轴杆上，所述第三定位机构通过支撑架一固定于工作平台（1）上，并位于抛光平台（11）的左侧，所述第四定位机构包括两组微调定位装置、连接板二（10）、气缸三（9），所述微调定位装置由定位板三（7）和设于定位板三（7）上的千分尺（8）构成，两组所述微调定位装置对称设于连接板二（10）的两侧，所述连接板二（10）固定于气缸三（9）的轴杆上，所述第四定位机构通过支撑架二固定于工作平台（1）上，并位于抛光平台（11）的右侧。