用于压铸熔解炉的氧化物去除装置的制作方法

文档序号:17182597发布日期:2019-03-22 21:02阅读:275来源:国知局
用于压铸熔解炉的氧化物去除装置的制作方法

本实用新型涉及一种氧化物去除装置,尤其是涉及一种用于压铸熔解炉的氧化物去除装置。



背景技术:

压铸产品是指将固态的铝料,使用固定的容器,通过高温将固态转变成液态的铝水,再通过专用的设备,成型的模具,得到想要的产品形状。在铝液融化过程中,会在铝液表面形成一层氧化膜,压铸机在取料的时候,会将氧化膜一同带入模腔内部,产品成型后,会出现产品内部有氧化物,等同于产品内部有异物,影响产品的品质。



技术实现要素:

本实用新型的目的就是为了克服上述现有技术存在的缺陷而提供一种用于压铸熔解炉的氧化物去除装置。

本实用新型的目的可以通过以下技术方案来实现:

一种用于压铸熔解炉的氧化物去除装置,安装在溶解炉上,所述的去除装置包括用于去除溶解炉内铝液表面氧化物的刮板,一端与刮板连接的旋转机构,以及与旋转机构另一端连接的驱动气缸。

优选地,所述的刮板上设有用于吸取表面氧化物的磁铁。

优选地,所述的旋转机构包括分别与驱动气缸连接的水平转动支架和竖直运动支架,所述的驱动气缸通过水平转动支架与刮板连接,带动刮板水平转动;所述的竖直运动支架一端与水平转动支架连接,另一端与驱动气缸连接,带动水平转动支架竖直运动。

优选地,所述的刮板为磁性材料制作而成的刮板。

优选地,所述的装置还包括设在溶解炉外侧的废料收集桶、设在刮板上的刮刀、设在刮板上的位移传感器以及分别与刮刀和位移传感器连接的控制器,当所述的位移传感器检测到刮板的位置位于废料收集桶正上方时,所述的控制器控制刮刀对刮板上吸附的氧化物进行刮除后落入废料收集桶内。

优选地,所述的刮板上设有与控制器连接的氧化物厚度检测传感器,所述的控制器与驱动气缸连接,当所述的氧化物厚度检测传感器检测到的氧化物厚度达到设定的阈值时,所述的控制器通过驱动气缸来驱动旋转机构,使刮板到达废料收集桶正上方,进行废料处理。

优选地,所述的控制器采用PLC控制器。

与现有技术相比,本实用新型具有以下优点:

1)氧化物去除更彻底,通过再溶解炉上增加一个水平转动支架,使其产生角度的调节变化,大大提高了氧化物去除的力度。

2)安全性高,采用上下气缸使其产生上下的位置移动。

3)使用磁性材料制成的刮板或在刮板上设置磁铁,将铝液表面的氧化物清除更加便利。

4)自动化程度高,采用设在溶解炉外侧的废料收集桶、设在刮板上的刮刀、设在刮板上的位移传感器以及分别与刮刀和位移传感器连接的控制器,进行废料自动收集,大大提高了生产效率。

5)自动识别能力高,采用氧化物厚度检测传感器和位移传感器进行厚度和位置的检测,大大提高了设备的自动化水平。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本实用新型的一部分实施例,而不是全部实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都应属于本实用新型保护的范围。

如图1所示,一种用于压铸熔解炉的氧化物去除装置,安装在溶解炉上,所述的去除装置包括用于去除溶解炉内铝液表面氧化物的刮板1,一端与刮板连接的旋转机构,以及与旋转机构另一端连接的驱动气缸4。

所述的旋转机构包括分别与驱动气缸4连接的水平转动支架2和竖直运动支架3,所述的驱动气缸4通过水平转动支架与刮板连接,带动刮板水平转动;所述的竖直运动支架一端与水平转动支架连接,另一端与驱动气缸连接,带动水平转动支架竖直运动。

所述的刮板1为磁性材料制作而成的刮板。或者所述的刮板1上设有用于吸取表面氧化物的磁铁11。

所述的装置还包括设在溶解炉外侧的废料收集桶、设在刮板上的刮刀13、设在刮板上的位移传感器12以及分别与刮刀13和位移传感器12连接的控制器,当所述的位移传感器检测到刮板的位置位于废料收集桶正上方时,所述的控制器控制刮刀对刮板上吸附的氧化物进行刮除后落入废料收集桶内。所述的刮板上设有与控制器连接的氧化物厚度检测传感器,所述的控制器与驱动气缸连接,当所述的氧化物厚度检测传感器检测到的氧化物厚度达到设定的阈值时,所述的控制器通过驱动气缸来驱动旋转机构,使刮板到达废料收集桶正上方,进行废料处理。

所述的控制器采用PLC控制器。

本实用新型通过在溶解炉上面增加自动刮除设备,在压铸机取料之前,将铝液表面的氧化物去处,再取料,降低了氧化铝进入产品中,提高产品品质。

以上所述,仅为本实用新型的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,可轻易想到各种等效的修改或替换,这些修改或替换都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此,本实用新型的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

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