一种溅射镀膜装置的制作方法

本实用新型涉及薄膜制备技术领域，具体涉及一种溅射镀膜装置。

背景技术：

溅射镀膜是通过在真空腔体内通入溅射气体(通常为氩气)，利用溅射气体来轰击溅射靶材，将溅射靶材表面上的物质溅射到被镀基体上，在被镀基体上形成镀膜膜层。然而，现有的溅射镀膜装置只有其真空腔体的侧壁上有一个向真空腔体内通入溅射气体的进气孔，这使得溅射靶材表面上受到溅射气体轰击的程度会因溅射靶材表面上各部位与进气孔之间的距离的不同而不同，即溅射靶材表面受到的轰击将会很不均匀，从而使得被镀基体上的镀膜膜层的厚度不均匀，同时也导致溅射靶材的消耗不均匀。

技术实现要素：

本实用新型的目的是提供一种溅射镀膜装置，以解决现有技术中溅射靶材表面受到的轰击很不均匀的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供了如下技术方案：

一种溅射镀膜装置，其包括真空腔体，所述真空腔体内设置有溅射靶材、与所述溅射靶材相对的被镀基体，所述真空腔体的侧壁上设置有用于向所述真空腔体内通入溅射气体的进气孔，其还包括出气装置，所述出气装置上设置有与所述进气孔相连的气体入口，所述出气装置上还设置有至少两个与所述气体入口相连通的气体出口，各所述气体出口分布在所述溅射靶材的至少一侧。

优选地，各所述气体出口均匀分布在所述溅射靶材的至少一侧。

优选地，所述气体出口的个数为多个，所述溅射靶材的周边均分布有所述气体出口。

优选地，所述出气装置为框架结构，所述溅射靶材位于所述框架结构中。

优选地，所述框架结构由多个依次相连的导管围成，各所述导管的管孔相连通；各所述气体出口设置在所述导管上。

优选地，所述框架结构为矩形框架，所述矩形框架由依次相连的第一导管、第二导管、第三导管以及第四导管围成，所述溅射靶材位于所述矩形框架中；所述气体入口设置在所述第一导管上，所述第一导管、所述第二导管、所述第三导管以及所述第四导管中的至少一个设置有至少两个所述气体出口。

优选地，所述第二导管、所述第三导管以及所述第四导管上分别均匀分布有至少两个所述气体出口。

优选地，所述溅射靶材设置在所述矩形框架的中部位置。

优选地，所述气体入口中设置有连接套管，所述连接套管的中心孔与所述气体入口相连通。

优选地，所述气体出口中设置有出气管，所述出气管的中心孔与所述气体出口相连通。

本实用新型的有益效果在于：

本实用新型的溅射镀膜装置，其具有出气装置，该出气装置上设置有与真空腔体侧壁上的进气孔相连的气体入口，以及至少两个与气体入口相连通的气体出口，各气体出口分布在溅射靶材的至少一侧，这使得溅射气体经过进气孔、气体入口进入出气装置后能够经至少两个气体出口流出溅射气体提供给溅射靶材，有效地增加了向溅射靶材提供溅射气体的气体出口的数量，从而能够使得现有技术中溅射靶材表面受到的轰击很不均匀的现象得到较好地缓解，进而使得被镀基体上的镀膜膜层的均匀性得到提高，也会使得溅射靶材消耗的均匀性得到提高。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，并将结合附图对本实用新型的具体实施例作进一步的详细说明，其中

图1为本实用新型实施例提供的溅射镀膜装置的真空腔体的示意图；

图2为本实用新型实施例提供的出气装置的示意图。

附图中标记：

11、真空腔体 12、侧壁 21、出气装置 22、第一导管

23、第二导管 24、第三导管 25、第四导管 26、连接套管

27、出气管 31、溅射靶材

具体实施方式

为了使本领域技术人员更好地理解本实用新型的技术方案，下面将结合具体实施例对本方案作进一步地详细介绍。

如图1所示，本实用新型实施例提供了一种溅射镀膜装置，其包括真空腔体11，真空腔体11内设置有溅射靶材31、与溅射靶材31相对的被镀基体，真空腔体11的侧壁12上设置有用于向真空腔体11内通入溅射气体的进气孔，其还包括出气装置21，出气装置21上设置有与进气孔相连的气体入口，出气装置21上还设置有至少两个与气体入口相连通的气体出口，各气体出口分布在溅射靶材31的至少一侧。可以理解的是，图中未示出进气孔、气体入口、气体出口以及连接气体入口与进气孔的管路；气体入口可以通过管路与进气孔相连；各气体出口可以分别通过不同的通道与气体入口相连通，各气体出口也可以通过同一管路与气体入口相连通，只要能实现气体出口与气体入口的连通即可；溅射镀膜装置的其它部件以及工作原理与现有技术中的溅射镀膜装置相同，此处不再赘述。

本实用新型实施例提供的溅射镀膜装置，其具有出气装置21，该出气装置21上设置有与真空腔体侧壁上的进气孔相连的气体入口，以及至少两个与气体入口相连通的气体出口，各气体出口分布在溅射靶材的至少一侧，这使得溅射气体经过进气孔、气体入口进入出气装置21后能够经至少两个气体出口流出溅射气体提供给溅射靶材31，有效地增加了向溅射靶材31 提供溅射气体的气体出口的数量，从而能够使得现有技术中溅射靶材表面受到的轰击很不均匀的现象得到较好地缓解，进而使得被镀基体上的镀膜膜层的均匀性得到提高，也会使得溅射靶材31消耗的均匀性得到提高。

为了能够使得溅射靶材31表面受到的轰击较为均匀，各气体出口可以均匀分布在溅射靶材31的至少一侧。

为了进一步提高溅射靶材表面受到的轰击的均匀性，气体出口的个数可以为多个，溅射靶材31的周边均分布有气体出口。可以理解的是，溅射靶材31的周边均分布有气体出口即溅射靶材的每一侧均分布有气体出口，可以优选溅射靶材31的每一侧均匀分布有多个气体出口，以使得溅射靶材 31表面受到的轰击的均匀性得到大大地提高，从而使得被镀基体上的镀膜膜层的厚度较为均匀，同时溅射靶材31的消耗较为均匀，避免了溅射靶材 31因某一部分消耗过多而失效，提高了溅射靶材31的利用率。

在本实用新型提供的一个实施例中，出气装置21可以为框架结构，溅射靶材31位于框架结构中，此时各气体出口将位于溅射靶材31的周边，有利于溅射靶材31的表面受到较为均匀的轰击，同时框架结构的出气装置结构稳定、可靠性较高。可以理解的是，框架结构的形状可以为圆形、椭圆形、三角形、矩形等，只要使得框架结构能够将溅射靶材31围在其中即可；可以优选框架结构的形状与溅射靶材31的形状相一致，从而能够较好地保证溅射靶材31表面受到的轰击较为均匀，同时也较为节省材料，并可以优选，气体出口均匀分布在框架结构上，溅射靶材31位于框架结构的中部位置，以使得被镀基体上镀膜膜层的均匀性较好，溅射靶材31的利用率较高。

进一步地，框架结构可以由多个依次相连的导管围成，各导管的管孔相连通；各气体出口设置在导管上，从而较好地实现了各气体出口通过同一通道与气体入口相连通，有效地简化了结构，使得出气装置21的结构较为简单。可以理解的是，各导管可以为耐热金属管，如钢管、铝管等，各导管之间可以焊接连接，以保证连接强度和密封性；各导管也可以为耐热胶管，如聚氯乙烯管即PVC管。

如图1和图2所示，框架结构可以为矩形框架，矩形框架由依次相连的第一导管22、第二导管23、第三导管24以及第四导管25围成，溅射靶材31位于矩形框架中；气体入口设置在第一导管22上，第一导管22、第二导管23、第三导管24以及第四导管25中的至少一个设置有至少两个气体出口，从而能够较好地适用于现有常用的矩形溅射靶材，同时保证矩形溅射靶材受到的轰击较为均匀。可以理解的是，此时第一导管22、第二导管23、第三导管24以及第四导管25的管孔相连通。

为了能够使得矩形溅射靶材的周边分布的气体出口较多，以提高矩形溅射靶材表面受到轰击的均匀性，第二导管23、第三导管24以及第四导管25上可以分别均匀分布有至少两个气体出口。

进一步地，溅射靶材31可以设置在矩形框架的中部位置，从而使得矩形的溅射靶材31表面受到的轰击更为均匀。

具体地，气体入口中可以设置有连接套管26，连接套管26的中心孔与气体入口相连通，从而通过连接套管26能够方便地与管路相连，然后使管路与进气孔相连，进而便于实现气体入口与进气孔的连通。

在本实用新型提供的另一实施例中，气体出口中可以设置有出气管27，出气管27的中心孔与气体出口相连通。采用该方案，通过出气管27的设置，能够有效地避免了在各导管上直接开设气体出口时，过多的溅射气体从离气体入口较近的气体出口中流出的现象发生，使得各气体出口中流出的气体量较为一致，从而能够较好地保证溅射靶材表面受到均匀的轰击，有利于提高被镀基体上镀膜膜层的均匀性和溅射靶材的利用率；同时也使得该出气装置21较为美观。

以上仅是本实用新型的优选实施方式，需要指出的是，这些实施例仅用于说明本实用新型而不用于限制本实用新型的范围，而且，在阅读了本实用新型的内容之后，本领域相关技术人员可以对本实用新型做出各种改动或修改，这些等价形式同样落入本申请所附权利要求书所限定的范围。