分体式多工序真空镀膜装置的制作方法

本发明涉及卷绕镀膜技术领域，具体涉及分体式多工序真空镀膜装置。

背景技术：

传统的镀膜工艺中，单台镀膜设备只能进行一道镀膜工序，例如只能进行一次蒸发镀膜或只能进行一次磁控溅射镀膜，如果要实现不同镀膜或多道镀膜工序，只能转换镀膜设备，在转换的过程中，未完成的膜层暴露在空气中，从而影响涂层的结合力和成分，对镀膜质量造成不利影响。

技术实现要素：

鉴于背景技术的不足，本发明是提供了分体式多工序真空镀膜装置，解决的问题是现有技术中，缺少将多种复杂镀膜工序集成的镀膜设备，导致要实现不同镀膜，只能转换镀膜设备，由于转换的过程中，未完成的膜层暴露在空气中，影响后续的镀膜质量。

为解决以上技术问题，本发明提供了如下技术方案：

分体式多工序真空镀膜装置，包括第一室体、第二室体和第三室体，所述第一室体、所述第二室体和所述第三室体共同构成镀膜室，所述第一室体和所述第三室体分别设置在所述第二室体两侧且均可移动；

所述第二室体朝向所述第一室体的一侧为敞口，所述第二室体朝向所述第三室体的一侧壁板上和所述第二室体的底部分别开设有开口，所述第二室体的两端设有若干抽真空系统；

所述第一室体包括第一移动架，所述第一移动架朝向所述第二室体的一侧固定有用于封闭所述第二室体的敞口的封板，所述封板朝向所述第二室体的一侧设有柔性基材卷绕系统，在所述第一移动架上所述封板背离所述第二室体的一侧设有冷水机组和电机；

所述第三室体包括第三移动架，所述第三移动架朝向所述第二室体的一侧设有若干相同或不同种类的工作源组件，各所述工作源组件分别通过所述第二室体上的开口伸入所述第二室体内并封闭开口。

优选的，所述第二室体内由挡板组件、第二室体的室壁、柔性基材卷绕系统中的辊部件和第一室体的封板构成若干子真空室。

优选的，若干所述工作源组件包括第一工作源组件、第二工作源组件和第三工作源组件，所述第一工作源组件、所述第二工作源组件和所述第三工作源组件分别连接不同的子真空室，所述第一工作源组件和所述第三工作源组件固定在所述第三移动架侧面并通过所述第二室体侧面的开口分别伸入所述第二室体内不同的子真空室内，所述第三移动架朝向所述第二室体的一侧设置支撑架，所述第二工作源组件放置在所述支撑架上且底部设有抬升组件，所述第二工作源组件由抬升组件顶升通过所述第二室体底部的开口伸入所述第二室体内另外的子真空室内并密封。

优选的，所述第一工作源组件前和第三工作源组件后安装预处理装置，使整个系统可以正反转镀膜并进行预处理。

优选的，所述抽真空系统由粗抽泵、增压泵、精抽泵、维持泵、阀门及若干管道连接组成；所述粗抽泵采用旋片泵或滑阀泵，所述增压泵为罗茨泵，所述精抽泵采用扩散泵或分子泵，所述维持泵采用旋片泵。

优选的，所述第二室体朝向所述第三室体的一侧壁板上开设月牙形的开口，所述开口供所述第一工作源组件和第三工作源组件通过，所述第一工作源组件和第三工作源组件分别对应环绕辊部件。

优选的，所述第一工作源组件和所述第三工作源组件分别通过月牙形法兰板封闭所述月牙形的开口。

本发明的工作原理是：柔性基材依次缠绕在柔性卷绕系统的各个辊部件上，第一室体、第三室体从两侧封闭第二室体的敞口和另一侧的开口，构成完整封闭的镀膜室，柔性基材卷绕系统带着待镀柔性基材居于镀膜室内且各卷绕了柔性基材的辊部件处于不同的位置，各工作源也居于镀膜室内的不同位置，由此可以对柔性基材进行连续的镀膜，且各辊部件和挡板组件形成了独立子真空室，各子真空室连接不同的抽真空系统，因此，各子真空室可针对不同的工作源分别调节真空度等条件，也可对不同的子真空室通入不同成分的气体以保证不同工作源的工作，镀制不同膜层，各子真空室内剩余气体可被单独抽走，保证不同工作源工作时的独立性，以达到最佳的镀膜效果。

本发明与现有技术相比至少具有如下有益效果：

1)将不同的镀膜工序集成一个镀膜室内完成，可一次性的、连续的对材料进行不同的镀膜工序，没有转换设备的工作，膜层始终在真空环境下，避免了转换镀膜设备时膜层暴露在空气中对涂层的不利影响，保证了镀膜的质量；

2)可实现不同形式的工作源组件的安装，配合抬升组件，可实现在竖向及水平各个方向的安装与密封；

3)将镀膜室内分成若干独立的子真空室，并分别配以独立的抽真空系统，可对各子真空室分别调节镀膜条件，可实现不同工作源的镀膜工序的同时进行，能够适用于复杂的、多样的镀膜环境，提高了通用性和实用性。

附图说明

本发明有如下附图：

图1为本发明的示意图；

图2为本发明内部示意图。

附图标记说明：1、第一室体，11、封板，12、柔性基材卷绕系统，13、冷水机组，14、第一移动架，15、辊部件，2、第二室体，21、开口，22、子真空室，3、第三室体，31、第三移动架，32、第一工作源组件，33、第二工作源组件，34、第三工作源组件，35、支撑架，36、抬升组件，4、抽真空系统。

具体实施方式

现在结合附图对本发明作进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图，仅以示意方式说明本发明的基本结构，因此其仅显示与本发明有关的构成。

如图1和图2所示，分体式多工序真空镀膜装置，包括第一室体1、第二室体2和第三室体3，第一室体1、第二室体2和第三室体3共同构成镀膜室，第一室体1和第三室体3分别设置在第二室体2两侧且均可移动；

第二室体2朝向第一室体1的一侧为敞口，第二室体2朝向第三室体3的一侧壁板上和第二室体2的底部分别开设有开口21，第二室体2的两端设有若干抽真空系统4；

第一室体1包括第一移动架14，第一移动架14朝向第二室体2的一侧固定有用于封闭第二室体2的敞口的封板11，封板11朝向第二室体2的一侧设有柔性基材卷绕系统12，在第一移动架14上封板11背离第二室体2的一侧设有冷水机组13和电机；

第三室体3包括第三移动架31，第三移动架31朝向第二室体2的一侧设有若干不同种类的工作源组件，各工作源组件分别通过第二室体2上的开口21伸入第二室体2内并封闭开口21，通常，第二室体2固定，第一室体1和第三室体3推向第二室体2并封闭第二室体2上的敞口和侧面、底面的开口21，即构成了完整密闭的镀膜室，配合抽真空系统4，可为镀膜提供必要的真空环境。

第二室体2内由挡板组件、第二室体2的内壁、柔性基材卷绕系统12中的辊部件15和第一室体1的封板11构成若干子真空室22，这样设计，将镀膜室内分隔成若干独立的子真空室22，可进一步的对各子真空室22内的条件分别调节，如分别调节各子真空室22内的真空度，以适应不同的镀膜要求。

工作源组件分别为第一工作源组件32、第二工作源组件33和第三工作源组件34，其中第一工作源组件32和第三工作源组件34均为磁控溅射源，第二工作源组件33为蒸发镀膜源，柔性基材卷绕系统12中分别对应各工作源组件具有辊部件15，第一工作源组件32、第二工作源组件33和第三工作源组件34分别连接不同的子真空室22，第一工作源组件32和第三工作源组件34固定在第三移动架31侧面并通过第二室体2侧面的开口21分别伸入第二室体2内不同的子真空室22内，第一工作源组件32和第三工作源组件34分别环绕对应的辊部件15，第二工作源组件33位于对应的辊部件15下方，第三移动架31朝向第二室体2的一侧设置支撑架35，第二工作源组件33放置在支撑架35上且底部设有抬升组件36，第二工作源组件33由抬升组件36顶升通过第二室体2底部的开口21伸入第二室体2内另外的子真空室22内并密封。

这样的结构下，可实现不同类型的工作源组件安装于一个镀膜室内，配合抬升组件36，实现了在竖直和水平两个方向对工作源的安装及密封，在移动第三移动架31时，第一工作源组件32和第三工作源组件34直接通过侧面的开口21伸入第二室体2内，而第二工作源组件33则随着支撑架35伸入第二室体2的底部，再由抬升组件36顶升、通过底部的开口21伸入第二室体2内并封闭第二室体2的底部开口，抬升组件36可采用气缸或螺旋升降机构，基于该结构，两侧的子真空室22内可对柔性基材进行磁控溅射镀膜，中间的子真空室22内可对柔性基材进行蒸发镀膜，基于磁控溅射镀膜和蒸发镀膜的性质及优点，柔性基材依次进行磁控溅射镀膜、蒸发镀膜、再次磁控溅射镀膜，可于首次磁控溅射镀膜获良好的结合力，再蒸发加厚膜层，再次磁控溅射镀膜可在表面加保护层防止腐蚀或氧化，使柔性基材获得前所未有的在结合力、质量等方面均优良的多层镀膜；也可以对柔性基材先经过磁控溅射镀第一种膜、再经过蒸发镀第二种膜、再经过磁控溅射镀第三种膜，如先磁控镀钛、再蒸发镀铜、再磁控镀镍，当然也可以镀其他膜，不限于上述种类的膜；上述镀膜完成后还可以再反转镀膜，通过不同组合达到镀制需要膜系的需求。

第一工作源组件32前和第三工作源组件34后均安装预处理装置，使得整个系统可以正反转镀膜并进行预处理，可完全在密闭情况下多次、多层镀膜，避免转换设备或退出设备而使半成品膜暴露在空气中影响镀膜质量。

抽真空系统4由粗抽泵、增压泵、精抽泵、维持泵、阀门及若干管道连接组成；粗抽泵可采用旋片泵或滑阀泵，增压泵可采用罗茨泵，精抽泵采用扩散泵或分子泵，维持泵采用旋片泵，当然，也可以采用其他适合条件的泵。

第二室体2朝向第三室体3的一侧壁板上开设月牙形的开口。

第一工作源组件32和第三工作源组件34分别通过月牙形法兰板封闭月牙形的开口。

本实施例中，第一室体1、和第三室体3从两侧封闭第二室体2的敞口和另一侧的开口21，构成完整封闭的镀膜室，柔性基材依次缠绕在柔性卷绕系统12的各个辊部件15上，柔性基材卷绕系统12带着待镀柔性基材分别居于各子真空室22内，针对不同的工作源，分别调节真空度等条件，也可对不同的子真空室22通入不同成分的气体以保证不同工作源的工作，镀制不同的膜层，各子真空室22内剩余气体可被单独抽走，保证不同工作源工作时的独立性，以达到最佳的镀膜效果。

上述依据本发明为启示，通过上述的说明内容，相关工作人员完全可以在不偏离本项发明技术思想的范围内，进行多样的变更以及修改。本项发明的技术性范围并不局限于说明书上的内容，必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。