一种用于镀膜的衬锅的制作方法
【专利摘要】本实用新型公开了一种用于镀膜的衬锅，具有底部和与所述底部连接的侧壁，所述衬锅的侧壁外侧具有突出于所述侧壁的支撑部，当所述衬锅放置于坩埚内进行加热或冷却时，其侧壁通过所述支撑部与所述坩埚接触，接触面积小于所述衬锅的侧壁的表面积。所述衬锅在周围增加支撑部，在保持体尺寸不变的情况下，减小坩埚与冷却装置的接触面积，使得蒸镀金属在电子束轰击下，获得较好的保温效果。
【专利说明】
一种用于镀膜的衬锅
技术领域
[0001]本实用新型涉及一种真空蒸发装置，具体为一种新型镀膜衬锅。
【背景技术】
[0002]蒸镀法是属于一种物理气相沉积的真空镀膜技术。通常是将蒸镀的材料直接放在坩祸里或者放置于衬锅之中，再将衬锅放在坩祸之中(如图1所示)，通过对材料进行施加热能，使材料从固态转化为气态的原子、原子团或分子，然后凝聚在到待镀膜的基片表面形成薄膜，该技术广泛应用于太阳能薄膜、半导体晶片、平板显示、光学晶片等多个领域。
[0003]在LED芯片键合工艺中，主要使用电子束蒸发法，通过Au-Au将发光外延片与Si片键合在一起。为了增加金属Au与Si片间的粘附性，一般在Si片上制备粘附性较好的Ti金属薄膜，然后制备Pt金属薄膜，阻挡其它金属向键合端迀移，最后制备4K的Au薄膜作为键合层。利用电子束蒸发法在Si片上制备Ti/Pt/Au金属薄膜，是在真空条件下利用电子束进行直接加热金属Ti/Pt/Au蒸发材料，使蒸发材料气化并向基板(Si片)输运，在Si片上凝结形成薄膜的方法。在电子束加热装置中，同时安置多个衬祸，实现分别蒸发，沉积多种不同的物质，从而制备高纯薄膜。
[0004]在电子束蒸发过程中，被加热的物质Ti/Pt/Au放置于水冷的衬锅中。然而，Pt金属熔点1772°C)高于金属Ti的熔点(?1660°C)和Au的熔点(?1063°C)，使得Pt金属在蒸镀时需加大电子枪功率，同时又由于衬锅置于水冷的坩祸中，导致衬锅中的Pt达不到完全熔化的效果，使得蒸镀过程中Pt原子以团聚的形式在Si片上凝结，形成凸点，此问题大大限制了在衬底转移后对提高外量子效率的进一步工艺优化，影响LED器件的光提取效率。
【发明内容】
[0005]针对上述技术问题，本实新型设计了一种新型衬锅，降低冷却水对衬锅的冷却效果，使得Pt金属在电子束轰击下，获得较高的温度，减少Pt凸点形成，降低后续提高外量子效率工艺实施的可行性难度。
[0006]本实用新型所述一种用于镀膜的衬锅，具有底部和与所述底部连接的侧壁，所述衬锅的侧壁外侧具有突出于所述侧壁的支撑部，当所述衬锅放置于坩祸内进行加热或冷却时，其侧壁通过所述支撑部与所述坩祸接触，接触面积小于所述衬锅的侧壁的表面积。
[0007]优选的，所述支撑部呈环形状。
[0008]优选地，所述支撑部位于所述衬底外壁的中部或上部。
[0009]优选地，所述支撑部为一系列离散分布的块状结构。
[0010]优选地，所述支撑部的宽度为I?10mm。
[0011]优选地，所述支撑部的个数为3?10个。
[0012]优选地，所述衬锅的底部设有第二支撑部，所述衬锅的底部通过所述第二支撑部与所述坩祸的底部接触，其接触面积小于所述衬锅底部的表面积。
[0013]优选地，所述第二支撑部为一系列离散分布的块状结构。
[0014]优选地，所述第二支撑部的个数为2-5个。
[0015]优选地，所述衬锅的材料为石英玻璃或钼或妈或无氧铜高恪点金属。
[0016]优选地，所述蒸镀源的材料为铬或铂或钛或银或铝或金或前述组合。
[0017]与现有技术相比，本实用新型具有以下有益效果:于衬锅周围增加支撑部，在保持衬锅整体尺寸不变的情况下，减小坩祸与冷却装置的接触面积，使得蒸镀金属在电子束轰击下，获得较好的保温效果并达到较高的温度。本实用新型部分极易设计，生产过程管控简单，便于产业化生产。
【附图说明】
[0018]图1为现有的光学镀膜容器的结构剖视图。
[0019]图2为本实用新型所述新型衬锅的结构剖视图。
[0020]图示说明:I:坩祸;2:衬锅;20:衬锅的侧壁;21:衬锅的底部;22，23:支持部。
【具体实施方式】
[0021]以下结合实施例来进一步解释本实用新型，但实施例并不对本实用新型做任何限定。
[0022]下面结合附图对本实用新型做进一步的详细说明，以令本领域技术人员参照说明书文字能够据以实施。
[0023]如图2所示，本实用新型公开一种用于新型镀膜衬锅2，包括底部21、与所底部连接的侧壁20，衬锅的侧壁20外侧具有突出于侧壁的支撑部22，当衬锅放置于坩祸内进行加热或冷却时，其侧壁通过所述支撑部与所述坩祸接触，接触面积小于衬锅的侧壁的表面积。
[0024]衬锅选用导热系数较高、耐高温并且不与镀膜材料发生化学反应的材料，可以诸如石英玻璃或钼或钨或无氧铜高熔点金属。
[0025]支撑部22位于衬锅2的侧壁外侧的中部偏位置，可呈环形状或离散的块状，其宽度D为 Imm?I Omm，优选5mm ο
[0026]进一步地，还可在衬锅2的底部设置第二支撑部23，进一步减少衬锅与坩祸的接触面积。该第二支撑部同样可以呈环形状或离散的块状，较佳的，为块状，其个数以2-5为佳。
[0027]在本实施例中，在衬锅2的侧壁20和底部21的外部分别设置三个块状支撑部，每个的宽度为3mm。
[0028]在上述衬锅中，通过在衬锅的外侧设置突出于衬锅侧壁的支撑部，使得坩祸与冷却装置的接触面积大大减小，达到节约能耗的作用。
[0029]本实用新型部分极易设计，生产过程管控简单，便于产业化生产。
[0030]尽管本实用新型的实施方案已公开如上，但其并不仅仅限于说明书和实施方式中所列运用，它完全可以被适用于各种适合本实用新型的领域，对于熟悉本领域的人员而言，可容易地实现另外的修改，因此在不背离权利要求及等同范围所限定的一般概念下，本实用新型并不限于特定的细节和这里示出与描述的图例。
【主权项】
1.一种用于镀膜的衬锅，具有底部、与所述底部连接的侧壁，其特征在于:所述衬锅的侧壁外侧具有突出于所述侧壁的支撑部，当所述衬锅放置于坩祸内进行加热或冷却时，其侧壁通过所述支撑部与所述坩祸接触，接触面积小于所述衬锅侧壁的表面积。2.根据权利要求1所述的一种用于镀膜的衬锅，其特征在于:所述支撑部呈环形状。3.根据权利要求2所述的一种用于镀膜的衬锅，其特征在于:所述支撑部的宽度为Imm?1mm04.根据权利要求1所述的一种用于镀膜的衬锅，其特征在于:所述支撑部位于所述衬锅的侧壁的中部或上部。5.根据权利要求1所述的一种用于镀膜的衬锅，其特征在于:所述支撑部为一系列离散分布的块状结构。6.根据权利要求5所述的一种用于镀膜的衬锅，其特征在于:所述支撑部的宽度为I?1mm07.根据权利要求5所述的一种用于镀膜的衬锅，其特征在于:所述支撑部的个数为3~10个。8.根据权利要求1所述的一种用于镀膜的衬锅，其特征在于:所述衬锅的底部设有第二支撑部，所述衬锅的底部通过所述第二支撑部与所述坩祸的底部接触，其接触面积小于所述衬锅底部的表面积。9.根据权利要求8所述的一种用于镀膜的衬锅，其特征在于:所述第二支撑部为一系列离散分布的块状结构。10.根据权利要求9所述的一种用于镀膜的衬锅，其特征在于:所述第二支撑部的个数为2?5个。
【文档编号】C23C14/24GK205501403SQ201620258964
【公开日】2016年8月24日
【申请日】2016年3月31日
【发明人】王丽萍, 谢创宇, 谢振刚, 王笃祥, 吴超瑜, 马志邦
【申请人】天津三安光电有限公司