1.一种层间距可控的氧化石墨烯的制备方法，其特征在于，氧化石墨烯通过化学还原法得到所述层间距可控的氧化石墨烯。
2.根据权利要求1所述的层间距可控的氧化石墨烯的制备方法，其特征在于，所述化学还原法为水合肼还原法、加热还原法或氢碘酸还原法。
3.根据权利要求2所述的层间距可控的氧化石墨烯的制备方法，其特征在于，所述水合肼还原法的反应条件为：水合肼与氧化石墨烯的质量比为10:1～1:1，反应温度为室温，反应时间为1h～6h。
4.根据权利要求2所述的层间距可控的氧化石墨烯的制备方法，其特征在于，所述加热还原法的反应条件为：反应的气氛为空气，反应温度为60℃～150℃，反应时间为0.5h～48h。
5.根据权利要求2所述的层间距可控的氧化石墨烯的制备方法，其特征在于，所述氢碘酸还原法的反应条件为：氢碘酸与氧化石墨烯的质量比为20:1，室温下避光0.5h，反应温度为90℃，反应时间为0.5h～3h。
6.一种层间距可控的氧化石墨烯框架结构材料的制备方法，其特征在于，氧化石墨烯通过双活性分子化合物进行溶剂热反应，所述反应中任选加入催化剂，反应后得到所述层间距可控的氧化石墨烯骨架材料。
7.根据权利要求6所述的层间距可控的氧化石墨烯框架结构材料的制备方法，其特征在于，将氧化石墨烯经权利要求1至5任一所述的层间距可控的氧化石墨烯的制备方法得到层间距可控的氧化石墨烯，所述层间距可控的氧化石墨烯再通过双活性分子化合物进行溶剂热反应，所述反应中任选加入催化剂，反应后得到所述层间距可控的氧化石墨烯骨架材料。
8.根据权利要求6或7所述的层间距可控的氧化石墨烯框架结构材料的制备方法，其特征在于，反应条件为：反应温度为60～180℃，反应时间为0.5h～60h，双活性分子化合物与氧化石墨烯或层间距可控的氧化石墨烯的质量比为1:3-10:1，催化剂与氧化石墨烯质量比为0-30:1。
9.根据权利要求6或7所述的层间距可控的氧化石墨烯框架结构材料的制备方法，其特征在于，双活性分子化合物为乙二硫醇、乙二醇、硫脲、尿素、乙二胺、草酸、丙二醇、1,4-苯二硼酸或1,3-苯二硼酸。
10.根据权利要求6或7所述的层间距可控的氧化石墨烯框架结构材料的制备方法，其特征在于，溶剂为水、甲醇、乙醇、甲苯、N-甲基吡咯烷酮或N，N-二甲基甲酰胺。
11.根据权利要求8所述的层间距可控的氧化石墨烯框架结构材料的制备方法，其特征在于，双活性分子化合物为乙二硫醇、乙二醇或丙二醇，反应条件为：反应温度为70℃～150℃， 反应时间为6h～24h，双活性分子化合物与氧化石墨烯或层间距可控的氧化石墨烯的质量比为1:1～3:1。
12.根据权利要求8所述的层间距可控的氧化石墨烯框架结构材料的制备方法，其特征在于，双活性分子化合物为硫脲、乙二胺或尿素，反应条件为：反应温度为60℃～80℃，反应时间为0.5h～12h，双活性分子化合物与氧化石墨烯或层间距可控的氧化石墨烯的质量比为2:1～1:3，催化剂与氧化石墨烯质量比为0-30:1。
13.根据权利要求8所述的层间距可控的氧化石墨烯框架结构材料的制备方法，其特征在于，双活性分子化合物为1,4-苯二硼酸、1,3-苯二硼酸或草酸，反应条件为：反应温度为60℃～90℃，反应时间为24h～60h，双活性分子化合物与氧化石墨烯或层间距可控的氧化石墨烯的质量比为5:1～10:1。