技术总结
本发明公开了一种层间距可控的氧化石墨烯及氧化石墨烯框架结构材料的制备方法，氧化石墨烯通过化学还原方法得到层间距可控的氧化石墨烯，如水合肼还原、热还原、氢碘酸还原等调节氧化石墨烯层间距；氧化石墨烯框架结构材料是通过双活性分子化合物对氧化石墨烯进行溶剂热反应，进行锁定氧化石墨烯层和层间距的精确调控，不仅可以增加氧化石墨烯自身的稳定性，减少自身吸水‑脱水过程中膨胀‑收缩对自身的损坏，而且对实现其在膜分离领域针对分离特定体系，提高其分离性能有重大意义。
技术研发人员：曾高峰;李桂花;戚本郁;何晓帆;张延风;孙予罕
受保护的技术使用者：中国科学院上海高等研究院
文档号码：201510939243
技术研发日：2015.12.15
技术公布日：2017.06.23