1.一种应用于氯碱工业的盐水精制装置，包括：
a）除阳离子杂质装置（1），用于去除盐水中的阳离子杂质；
b）纳滤膜（5），用于对去除了阳离子杂质的盐水过滤处理；
c) 离子膜电解装置（6），用于对纳滤膜（5）过滤后的盐水进行电解处理；纳滤膜（5）与离子膜电解装置（6）连接；
所述的除阳离子杂质装置（1），包括有：
沉淀剂加入装置（3），用于在盐水中加入沉淀剂使阳离子杂质沉淀；所述的沉淀剂加入装置（3）连接于反应槽（2）；
反应槽（2），用于沉淀剂与阳离子杂质发生沉淀反应；反应槽（2）与分离膜（4）连接；
分离膜（4），用于去除反应生成的沉淀；分离膜（4）与纳滤膜（5）连接；所述的分离膜（4）是陶瓷膜。
2.根据权利要求1所述的应用于氯碱工业的盐水精制装置，其特征在于：所述的陶瓷膜是陶瓷超滤膜或者陶瓷微滤膜。
3.根据权利要求2所述的应用于氯碱工业的盐水精制装置，其特征在于：微滤膜为平均孔径是0.05μm～5μm。
4.根据权利要求2所述的应用于氯碱工业的盐水精制装置，其特征在于：超滤膜平均孔径是0.005μm～0.05μm，或者截留分子量是1000～200000Da。
5.根据权利要求1所述的应用于氯碱工业的盐水精制装置，其特征在于：沉淀剂加入装置（3）中装填的是含有CO32-和/或OH-离子的沉淀剂。
6.根据权利要求1所述的应用于氯碱工业的盐水精制装置，其特征在于：所述的盐水是指主要含有NaCl或KCl的粗盐水。
7.根据权利要求1所述的应用于氯碱工业的盐水精制装置，其特征在于：所述的盐水中的COD范围是1～2000ppm。
8.根据权利要求7所述的应用于氯碱工业的盐水精制装置，其特征在于：所述的盐水中的COD范围1～200ppm。