一种高透低反阳光控制镀膜玻璃的制作方法

文档序号:12758762阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种高透低反阳光控制镀膜玻璃,包括玻璃基板(1),其特征在于,所述玻璃基板表面从内到外通过磁控溅射依次镀有第一介质层(2)、第一阻挡层(3)、第一过渡层(4)、金属层(5)、第二过渡层(6)、第二阻挡层(7)、第二介质层(8)及减反层(9),所述第一介质层为TiO2层,所述第一阻挡层、第二阻挡层均为NiCrOx层,所述第一过渡层、第二过渡层均为Ti层,所述金属层为Ag层,所述第二介质层为Si3N4层,所述减反层为SiO2层,所述减反层表面设为毛面,减反层表面的晶体颗粒粒径为1.3~1.4nm,减反层表面通过腐蚀形成有散射槽(10),所述散射槽纵横交叉呈网格结构。

2.根据权利要求1所述的一种高透低反阳光控制镀膜玻璃,其特征在于,所述散射槽为V型槽,V型槽槽底的夹角为60°。

3.根据权利要求2所述的一种高透低反阳光控制镀膜玻璃,其特征在于,所述散射槽深度为0.2~0.4mm,相邻散射槽之间的间隔为1~3mm。

4.根据权利要求1所述的一种高透低反阳光控制镀膜玻璃,其特征在于,所述第一介质层厚度为50~55nm。

5.根据权利要求1所述的一种高透低反阳光控制镀膜玻璃,其特征在于,所述第一阻挡层、第二阻挡层厚度为2~3nm。

6.根据权利要求1所述的一种高透低反阳光控制镀膜玻璃,其特征在于,所述第一过渡层、第二过渡层厚度为3~5nm。

7.根据权利要求1所述的一种高透低反阳光控制镀膜玻璃,其特征在于,所述金属层厚度为10~15nm。

8.根据权利要求1所述的一种高透低反阳光控制镀膜玻璃,其特征在于,所述第二介质层厚度为50~55nm。

9.根据权利要求1所述的一种高透低反阳光控制镀膜玻璃,其特征在于,所述减反层厚度为20~30nm。

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