本发明属于镀膜玻璃生产技术领域，涉及一种香槟金色双银低辐射镀膜玻璃及制备方法。
背景技术：
现有技术中的Low-E玻璃的生产工艺是在优质浮法基片上镀制以Ag为功能层，包含介质层和其它金属层的多层膜系。若按照功能层银的层数来进行划分，Low-E玻璃可以分为单银Low-E玻璃、双银Low-E玻璃、三银Low-E玻璃。目前，单银、双银都是建筑玻璃领域比较成熟的节能方案,三银节能玻璃节能效果优于双银和单银，但三银玻璃膜层结构复杂，工艺控制难度大，因而成本较高。近年来市场上真正能够量产三银的厂家不多，且可供选择的三银品种也不如双银、单银丰富。
随着市场逐渐成熟，同质化竞争日趋明显，客户对幕墙的外观颜色呈多样化需求，如何开发出迎合市场需求的产品十分关键，最近几年金色作为一种外观靓丽，代表着尊贵、奢华、大气的色彩而受到了人们的追捧，市场上涌现出一系列各具特色的金色基调色彩(特别是在手机行业，各种精心调制的色彩成为吸引人眼球的一大亮点)，针对这一特点本发明在原有金色双银基础上进行细致的膜层调试，在双银膜系的色彩中注入了典雅的新元素——香槟金双银。
现有的低辐射镀膜玻璃存在如下缺陷：
1)现有的金色双银色彩单一，反射率/亮度高容易形成视觉疲劳。
2)现有的金色双银膜系普遍透过率较低，遮阳系数较低，影响室内采光。
技术实现要素：
本发明的目的是针对现有的技术存在的上述问题，提供一种香槟金色双银低辐射镀膜玻璃及制备方法，本发明所要解决的技术问题是如何降低玻璃的反射率、提高透过率。
本发明的目的可通过下列技术方案来实现：一种香槟金色双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述镀膜玻璃包括玻璃基片层和镀膜层，所述镀膜层自所述玻璃基片层向外依次复合有十一个膜层，其中第一层为ZnO层，第二层为SiNx层,第三层为ZnO层，第四层为Ag层，第五层为NiCr层,第六层为AZO层,第七层为SiNx层,第八层为ZnO层，第九层为Ag层，第十层为NiCr层，第十一层为SiNx层。
其中第一层、第二层和第三层为第一电介质组合层，第四层为低辐射功能层，第五层为第一阻挡保护层，第六层为晶床介质层，第七层和第八层为第二电介质组合层，第九层为低辐射功能层，第十层为第二阻挡保护层，第十一层为第三电介质层。通过通过设置第五层和第十层，即第一阻挡保护层和第二阻挡保护层来降低镀膜玻璃的反射率，通过设置的第六层，即晶床介质层来提高镀膜玻璃的透光性。
一种香槟金色双银低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，本加工方法包括如下步骤：
1)、磁控溅射镀膜层；
A、磁控溅射第一层：
靶材数量：交流旋转靶1个；靶材料为ZnAl；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为：5～10nm；
B、磁控溅射第二层：
靶材数量：交流旋转靶2～3个；靶材料为SiAl；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1.28:1，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为：10～15nm；
C、磁控溅射第三层：
靶材数量：交流旋转靶1个；靶材料为ZnAl；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1：2，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为:8～12nm；
D、磁控溅射第四层：
靶材数量：直流平面靶1个；靶材料为Ag；工艺气体比例：纯氩气，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为：5～10nm；
E、磁控溅射第五层：
靶材数量：交流旋转靶1个；靶材料为NiCr；工艺气体比例：纯氩气，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为：1.0～3.0nm；作为第一阻挡保护层，用来降低镀膜玻璃的反射率。
F、磁控溅射第六层：
靶材数量：交流旋转靶1个；靶材料为AZO；工艺气体比例：纯氩气，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为：1～4nm；通过设置的第六层，即晶床介质层来提高镀膜玻璃的透光性。
G、磁控溅射第七层：
靶材数量：交流旋转靶2～4个；靶材料为SiAl；工艺气体比例：氩气和氮气，氩气和氮气的比例为1.28:1，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为：15～25nm；
H、磁控溅射第八层：
靶材数量：交流旋转靶3～5个；靶材料为ZnAl；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气比例为1:2，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为：30～35nm；
I、磁控溅射第九层：
靶材数量：交流旋转靶1个；靶材料为Ag；工艺气体比例：纯氩气，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为：1～2nm；
直流旋转靶1个；靶材料为Ag；工艺气体比例：纯氩气，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为：5～8nm；
J、磁控溅射第十层：
靶材数量：交流旋转靶1个；靶材料为NiCr；工艺气体比例：纯氩气；溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为：2～4nm；作为第二阻挡保护层，用来降低镀膜玻璃的反射率。
K、磁控溅射第十一层：
靶材数量：交流旋转靶4～5个；靶材料为SiAl；工艺气体比例：氩气和氮气，氩气和氮气的比例为1.28:1；溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为：35～40nm；
2)、镀膜层总厚度控制在140～150nm之间。
与现有技术相比，本发明具有以下优点：
1、通过通过设置第五层和第十层，即第一阻挡保护层和第二阻挡保护层来降低镀膜玻璃的反射率；
2、通过设置的第六层，即晶床介质层来提高镀膜玻璃的透光性。
附图说明
图1是本发明中镀膜玻璃的结构示意图。
图中，a、玻璃基片层1、第一层；2、第二层；3、第三层；4、第四层；5、第五层；6、第六层；7、第七层；8、第八层；9、第九层；10、第十层；11、第十一层。
具体实施方式
以下是本发明的具体实施例并结合附图，对本发明的技术方案作进一步的描述，但本发明并不限于这些实施例。
如图1所示，香槟金色双银低辐射镀膜玻璃包括玻璃基片层a和镀膜层，所述镀膜层自所述玻璃基片层向外依次复合有十一个膜层，其中第一层1为ZnO层，第二层2为SiNx层,第三层3ZnO层，第四层4为Ag层，第五层5为NiCr层,第六层6为AZO层,第七层7为SiNx层,第八层8为ZnO层，第九层9为Ag层，第十层10为NiCr层，第十一层11为SiNx层。
其中第一层1、第二层2和第三层3为第一电介质组合层，第四层4为低辐射功能层，第五层5为第一阻挡保护层，第六层6为晶床介质层，第七层7和第八层8为第二电介质组合层，第九层9为低辐射功能层，第十层10为第二阻挡保护层，第十一层11为第三电介质层。通过通过设置第五层5和第十层10，即第一阻挡保护层和第二阻挡保护层来降低镀膜玻璃的反射率，通过设置的第六层6，即晶床介质层来提高镀膜玻璃的透光性。
一种高清中性色双银低辐射玻璃的制备方法，其特征在于，本加工方法包括如下步骤：
1)、磁控溅射镀膜层；
A、磁控溅射第一层1：
靶材数量：交流旋转靶1个；靶材料为ZnAl；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为：5～10nm；
B、磁控溅射第二层2：
靶材数量：交流旋转靶2～3个；靶材料为SiAl；工艺气体比例：氩气和氮气，氩气和氮气的比例为1.28:1，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为：10～15nm；
C、磁控溅射第三层3：
靶材数量：交流旋转靶1个；靶材料为ZnAl；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1：2，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为:8～12nm；
D、磁控溅射第四层4：
靶材数量：直流旋转靶1个；靶材料为Ag；工艺气体比例：纯氩气，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为：5～10nm；
E、磁控溅射第五层5：
靶材数量：交流旋转靶1个；靶材料为NiCr；工艺气体比例：纯氩气，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为：1.0～3.0nm；作为第一阻挡保护层，用来降低镀膜玻璃的反射率。
F、磁控溅射第六层6：
靶材数量：交流旋转靶1个；靶材料为AZO；工艺气体比例：纯氩气，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为：1～4nm；通过设置的第六层，即晶床介质层来提高镀膜玻璃的透光性。
G、磁控溅射第七层7：
靶材数量：交流旋转靶2～4个；靶材料为AiAl；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1.28:1，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为：15～25nm；
H、磁控溅射第八层8：
靶材数量：交流旋转靶3～5个；靶材料为ZnAl；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气比例为1:2，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为：30～35nm；
I、磁控溅射第九层9：
交流旋转靶1个；靶材料为Ag；工艺气体比例：纯氩气，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为：1～2nm；
直流旋转靶1个；靶材料为Ag；工艺气体比例：纯氩气，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为：5～8nm；
J、磁控溅射第十层10：
靶材数量：交流旋转靶1个；靶材料为NiCr；工艺气体比例：纯氩气；溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为：2～4nm；作为第二阻挡保护层，用来降低镀膜玻璃的反射率。
K、磁控溅射第十一层11：
靶材数量：交流旋转靶4～5个；靶材料为SiAl；工艺气体比例：氩气和氮气，氩气和氮气的比例为1.28:1；溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为：35～40nm；
2)、镀膜层厚度控制在140～150nm之间。
通过软件设计、工艺调试及实验确定的各膜层厚度、参数；2、通过反复实验确定的较稳定各靶材工艺气体比例及对应气体比例条件下的软件模拟参数；
6mm单片透过率＞45％，玻面外观颜色典雅靓丽；2、产品6mm单片透过色a*∈[-4，-5]，b*∈[-1.5，-4]；3、玻面颜色L∈[45,48]，a*∈[2,2.5]，b*∈[7，8]，玻面小角度60°和正面10°对比，△a*＜1.0。
本文中所描述的具体实施例仅仅是对本发明精神作举例说明。本发明所属技术领域的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代，但并不会偏离本发明的精神或者超越所附权利要求书所定义的范围。