一种AMOLED显示屏用蚀刻液及其制备方法与流程

文档序号:12855307阅读:875来源:国知局

本发明涉及技术领域,具体涉及一种amoled显示屏用蚀刻液及其制备方法。



背景技术:

amoled中文全称是有源矩阵有机发光二极体或主动矩阵有机发光二极体。amoled屏幕的构造有三层,amoled屏幕+touchscreenpanel(触控屏面板)和外保护玻璃。amoled是oled技术的一种,oled代表着它是自发光显示器,利用多层有机化合物来实现独立r、g、b三色光。am-oled屏幕非常薄,并且可以在屏幕中集成触摸层,做超薄机更有优势。am-oled采用pentile排列,不像传统lcd那样一个像素点等于红绿蓝三个亚像素的合集,大幅强调绿色,使画面看起来更鲜艳。amoled自发光,单个像素在显示黑色时下不工作,显示深色时低功耗。所以amoled在深色下省电,并且具有传统lcd几百倍的对比度,还不会漏光。amoled具有一定的柔韧性,比起玻璃基板的lcd屏幕不宜损坏。

在显示屏的制备工艺过程中,需要使用玻璃基板。由于玻璃基板生产工艺的限制,生产出的玻璃基板较厚。为了进一步减轻显示器件的重量,生产厂家越来越多的采用将玻璃基板进行减薄的方法,随之玻璃基板的蚀刻成为重要的问题。通常使用的减薄方法有两种,一种是物理方法,即使用抛光粉进行抛光研磨,这种方法减薄时间长,精度不好控制,产品良率低;另一种方法为使用蚀刻液的化学蚀刻法,这种方法减薄时间短,设备投入小,产品良率高,且减薄液的成分简单成本低,逐渐成为了玻璃基板减薄的主流技术方法。现有技术的蚀刻液对基板的蚀刻速率较快,蚀刻量不容易控制,不能很好的对基板厚度进行控制,有的无法有效溶解硅酸盐,有的会产生较强的电离作用,生成过多的氢氟酸,会导致蚀刻速率不易控制,有时蚀刻液会产生大量气泡,降低蚀刻速率。



技术实现要素:

本发明旨在提供了一种amoled显示屏用蚀刻液及其制备方法。

本发明提供如下技术方案:

一种amoled显示屏用蚀刻液,所述蚀刻液由以下重量百分比的原料组成:磷酸10-30%、邻氟苯甲酸16-20%、硝酸18-25%、氢氟酸10-16%、有机酸盐6-15%、添加剂3-6%、非离子表面活性剂8-10%、其余为去离子水。

所述非离子表面活性剂为斯盘系列无泡非离子型表面活性剂。

所述添加剂是氯化钾或硝酸钾或者两者混合物。

所述有机酸盐为邻三氟甲基苯甲酸钠,分子式为:

所述蚀刻液中每1000kg颗粒度大于0.2μm的不超过100个。

一种amoled显示屏用蚀刻液的制备方法,包括以下步骤:

(1)将强酸性阳离子交换树脂分别加入到磷酸、邻氟苯甲酸、硝酸、氢氟酸中,搅拌混合,然后滤出强酸性阳离子交换树脂;

(2)先加入所需1/2的去离子水至混合罐,在搅拌下依次加入磷酸、邻氟苯甲酸、硝酸、氢氟酸搅拌混合均匀,再往混匀的混合酸酸中加入添加剂搅拌,然后加入剩下1/3的去离子水,充分搅拌;

(3)向上述混合罐中加入表面活性剂,充分搅拌,最后加入剩下2/3的去离子水,将混合物通入过滤器中过滤,得到所述amoled显示屏用蚀刻液。

所述步骤(1)中强酸性阳离子交换树脂为强酸性苯乙烯系阳离子交换树脂。

所述步骤(3)中过滤的次数至少3次,所述过滤器的微滤膜孔径不大于0.06μm。

一种用于蚀刻amoled显示屏玻璃基板的方法,包括使权利要求1-6制备的amoled显示屏用蚀刻液与玻璃基板接触。

所述接触为将amoled显示屏玻璃基板浸渍在amoled显示屏用蚀刻液中,接触时间为6-15min,并且接触温度为35-42℃,并且amoled显示屏玻璃基板尺寸≤500mm×600mm。

与现有技术相比,本发明的有益效果是:本发明amoled显示屏用蚀刻液与玻璃基板能充分接触并均匀地渗透至光刻胶底部,对不同金属的蚀刻速率基本一致,反应稳定,蚀刻后的基板表面整洁,无残留,无金属间分层现象,剩余线条平整;同时amoled显示屏用蚀刻液在玻璃基板薄化之后对附着在玻璃基板表面的沉淀杂质进行溶解,能有效去除玻璃基板表面杂质,可以提高产品合格率和良率,同时可以对玻璃基板厚度的控制提供有效保证。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。

实施例1一种amoled显示屏用蚀刻液,所述蚀刻液由以下重量百分比的原料组成:磷酸10%、邻氟苯甲酸16%、硝酸18%、氢氟酸10%、有机酸盐6%、添加剂3%、非离子表面活性剂8%、其余为去离子水。

所述非离子表面活性剂为斯盘系列无泡非离子型表面活性剂。

所述添加剂是氯化钾或硝酸钾或者两者混合物。

所述有机酸盐为邻三氟甲基苯甲酸钠,分子式为:

所述蚀刻液中每1000kg颗粒度大于0.2μm的不超过100个。

一种amoled显示屏用蚀刻液的制备方法,包括以下步骤:

(1)将强酸性阳离子交换树脂分别加入到磷酸、邻氟苯甲酸、硝酸、氢氟酸中,搅拌混合,然后滤出强酸性阳离子交换树脂;

(2)先加入所需1/2的去离子水至混合罐,在搅拌下依次加入磷酸、邻氟苯甲酸、硝酸、氢氟酸搅拌混合均匀,再往混匀的混合酸酸中加入添加剂搅拌,然后加入剩下1/3的去离子水,充分搅拌;

(3)向上述混合罐中加入表面活性剂,充分搅拌,最后加入剩下2/3的去离子水,将混合物通入过滤器中过滤,得到所述amoled显示屏用蚀刻液。

所述步骤(1)中强酸性阳离子交换树脂为强酸性苯乙烯系阳离子交换树脂。

所述步骤(3)中过滤的次数至少3次,所述过滤器的微滤膜孔径不大于0.06μm。

一种用于蚀刻amoled显示屏玻璃基板的方法,包括使权利要求1-6制备的amoled显示屏用蚀刻液与玻璃基板接触。

所述接触为将amoled显示屏玻璃基板浸渍在amoled显示屏用蚀刻液中,接触时间为6-15min,并且接触温度为35-42℃,并且amoled显示屏玻璃基板尺寸≤500mm×600mm。

实施例2一种amoled显示屏用蚀刻液,所述蚀刻液由以下重量百分比的原料组成:磷酸30%、邻氟苯甲酸20%、硝酸25%、氢氟酸16%、有机酸盐15%、添加剂6%、非离子表面活性剂10%、其余为去离子水。

所述非离子表面活性剂为斯盘系列无泡非离子型表面活性剂。

所述添加剂是氯化钾或硝酸钾或者两者混合物。

所述有机酸盐为邻三氟甲基苯甲酸钠,分子式为:

所述蚀刻液中每1000kg颗粒度大于0.2μm的不超过100个。

一种amoled显示屏用蚀刻液的制备方法,包括以下步骤:

(1)将强酸性阳离子交换树脂分别加入到磷酸、邻氟苯甲酸、硝酸、氢氟酸中,搅拌混合,然后滤出强酸性阳离子交换树脂;

(2)先加入所需1/2的去离子水至混合罐,在搅拌下依次加入磷酸、邻氟苯甲酸、硝酸、氢氟酸搅拌混合均匀,再往混匀的混合酸酸中加入添加剂搅拌,然后加入剩下1/3的去离子水,充分搅拌;

(3)向上述混合罐中加入表面活性剂,充分搅拌,最后加入剩下2/3的去离子水,将混合物通入过滤器中过滤,得到所述amoled显示屏用蚀刻液。

所述步骤(1)中强酸性阳离子交换树脂为强酸性苯乙烯系阳离子交换树脂。

所述步骤(3)中过滤的次数至少3次,所述过滤器的微滤膜孔径不大于0.06μm。

一种用于蚀刻amoled显示屏玻璃基板的方法,包括使权利要求1-6制备的amoled显示屏用蚀刻液与玻璃基板接触。

所述接触为将amoled显示屏玻璃基板浸渍在amoled显示屏用蚀刻液中,接触时间为6-15min,并且接触温度为35-42℃,并且amoled显示屏玻璃基板尺寸≤500mm×600mm。

实施例3一种amoled显示屏用蚀刻液,所述蚀刻液由以下重量百分比的原料组成:磷酸22%、邻氟苯甲酸18%、硝酸23%、氢氟酸13%、有机酸盐9%、添加剂5%、非离子表面活性剂9%、其余为去离子水。

所述非离子表面活性剂为斯盘系列无泡非离子型表面活性剂。

所述添加剂是氯化钾或硝酸钾或者两者混合物。

所述有机酸盐为邻三氟甲基苯甲酸钠,分子式为:

所述蚀刻液中每1000kg颗粒度大于0.2μm的不超过100个。

一种amoled显示屏用蚀刻液的制备方法,包括以下步骤:

(1)将强酸性阳离子交换树脂分别加入到磷酸、邻氟苯甲酸、硝酸、氢氟酸中,搅拌混合,然后滤出强酸性阳离子交换树脂;

(2)先加入所需1/2的去离子水至混合罐,在搅拌下依次加入磷酸、邻氟苯甲酸、硝酸、氢氟酸搅拌混合均匀,再往混匀的混合酸酸中加入添加剂搅拌,然后加入剩下1/3的去离子水,充分搅拌;

(3)向上述混合罐中加入表面活性剂,充分搅拌,最后加入剩下2/3的去离子水,将混合物通入过滤器中过滤,得到所述amoled显示屏用蚀刻液。

所述步骤(1)中强酸性阳离子交换树脂为强酸性苯乙烯系阳离子交换树脂。

所述步骤(3)中过滤的次数至少3次,所述过滤器的微滤膜孔径不大于0.06μm。

一种用于蚀刻amoled显示屏玻璃基板的方法,包括使权利要求1-6制备的amoled显示屏用蚀刻液与玻璃基板接触。

所述接触为将amoled显示屏玻璃基板浸渍在amoled显示屏用蚀刻液中,接触时间为6-15min,并且接触温度为35-42℃,并且amoled显示屏玻璃基板尺寸≤500mm×600mm。

对于本领域技术人员而言,显然本发明不限于所述示范性实施例的细节,而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本发明。因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本发明的范围由所附权利要求而不是所述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。此外,应当理解,虽然本说明书按照实施方式加以描述,但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案,说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见,本领域技术人员应当将说明书作为一个整体,各实施例中的技术方案也可以经适当组合,形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

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