本发明涉及tft-lcd技术领域，具体涉及一种tft-lcd基板玻璃原料组成。
背景技术：
进入21世纪以来，平板显示技术得到迅猛发展，并逐步取代了传统的crt(cathoderaytube，阴极射线管)型显示产品，在众多的新型平板显示技术中，
tft-lcd(thinfilmtransistorliquidcrystaldisplay，薄膜晶体管液晶显示器，又称为am-lcd(activematrixliquidcrystaldisplay，有源矩阵型液晶显示器)成为主流的彩色平板显示技术，tft-lcd因其有效显示尺寸大、清晰度高、重量轻、环保性能好等优势逐步受到消费者的认可，广泛应用于数显手表、手机、数字播放器(如mp4、mp5等)、数码照相机、车载导航仪等小型终端显示设备以及电视、笔记本电脑、台式机显示器等。
tft-lcd基板玻璃是tft-lcd显示器面板的前后两片关键玻璃材料，分别用作薄膜晶体管阵列的底板(tftarraybackplane)和彩色滤光片(cf，colorfilter)，而基板玻璃是tft-lcd显示器面板的重要组成部分，不仅在tft-lcd面板成本中所占比例大(约为18％-20％)，而且对显示器产品性能的影响也十分巨大，显示器的分辨率、透光率、重量及视角等关键技术指标都与基板玻璃密切相关，tft-lcd面板的性能和质量在很大程度上取决于基板玻璃，目前基板玻璃成为tft-lcd发展的主要制约因素。
tft-lcd生产方法主要有溢流下拉法、铂金下拉法、浮法。熔窑规模都很小，熔化量在5～30t/d。熔化方式除采用天然气外，还必须增加电助熔系统。为了减少玻璃中疙瘩、气泡等缺陷，提高玻璃的质量，熔窑配有铂金系统(澄清器、搅拌器、冷却器及供料管等)，经过高温熔制的玻璃液，流入铂金系统经澄清、均化后在成形装置形成玻璃板。
tft-lcd基板玻璃是在硼铝硅酸盐玻璃的基础上发展起来的，加入b2o3调节玻璃的性能，是玻璃组成中不可缺少的组分，但是在玻璃熔制过程中硼、氟，以氟硅酸(h2sif6)、氢氟酸(hf)和氟硼酸盐的形式挥发，硼挥发量在12-15％，不但影响玻璃成分的均一性和玻璃的使用性能，而且会污染环境，可见，降低tft-lcd液晶玻璃基板生产过程中硼挥发，成为人们关注的焦点。
技术实现要素：
本发明旨在提供了一种tft-lcd基板玻璃原料组成。
本发明提供如下技术方案：
一种tft-lcd基板玻璃原料组成，所述基板玻璃中各组分按以下质量百分比组成：二氧化硅52～58％、氧化硼7～11％、氧化铝9～12％、氧化钡3～6％、氧化钙5～8％、氧化锶7～10％、氧化锡6～8％、氧化锌10～14％、氧化镁3～7％、二氧化锆4～12％、稀土金属氧化物3～6％。
所述基板玻璃的光透过率为91％，在100℃～300℃的热膨胀系数为31～39x10-7℃；应变点在640℃以上，密度小于2.6g/cm3，液相温度低于1150℃。
所述稀土金属氧化物为氧化镧、氧化钇、氧化铈、氧化钐、氧化铒或上述五种物质中两种或两种以上的组合物。
所述tft-lcd基板玻璃组分中还增加总质量不大于1％的氧化铍。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：本发明通过加入稀土金属氧化物，硼挥发的问题得到有效控制，硼挥发量从12-15％降低到6-9％，玻璃得率>96％。再者玻璃的性能得到很大改善，100℃～300℃的热膨胀系数为31～39x10-7℃；应变点在640℃以上，熔化温度低于1150℃。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例1一种tft-lcd基板玻璃原料组成，所述基板玻璃中各组分按以下质量百分比组成：二氧化硅52％、氧化硼7％、氧化铝9％、氧化钡3％、氧化钙5％、氧化锶7％、氧化锡6％、氧化锌10％、氧化镁3％、二氧化锆4％、稀土金属氧化物3％。
所述基板玻璃的光透过率为91％，在100℃～300℃的热膨胀系数为31～39x10-7℃；应变点在640℃以上，密度小于2.6g/cm3，液相温度低于1150℃。
所述稀土金属氧化物为氧化镧、氧化钇、氧化铈、氧化钐、氧化铒或上述五种物质中两种或两种以上的组合物。
所述tft-lcd基板玻璃组分中还增加总质量不大于1％的氧化铍。
实施例2一种tft-lcd基板玻璃原料组成，所述基板玻璃中各组分按以下质量百分比组成：二氧化硅58％、氧化硼11％、氧化铝12％、氧化钡6％、氧化钙8％、氧化锶10％、氧化锡8％、氧化锌14％、氧化镁7％、二氧化锆12％、稀土金属氧化物6％。
所述基板玻璃的光透过率为91％，在100℃～300℃的热膨胀系数为31～39x10-7℃；应变点在640℃以上，密度小于2.6g/cm3，液相温度低于1150℃。
所述稀土金属氧化物为氧化镧、氧化钇、氧化铈、氧化钐、氧化铒或上述五种物质中两种或两种以上的组合物。
所述tft-lcd基板玻璃组分中还增加总质量不大于1％的氧化铍。
实施例3一种tft-lcd基板玻璃原料组成，所述基板玻璃中各组分按以下质量百分比组成：二氧化硅55％、氧化硼9％、氧化铝11％、氧化钡5％、氧化钙7％、氧化锶9％、氧化锡7％、氧化锌12％、氧化镁5％、二氧化锆8％、稀土金属氧化物5％。
所述基板玻璃的光透过率为91％，在100℃～300℃的热膨胀系数为31～39x10-7℃；应变点在640℃以上，密度小于2.6g/cm3，液相温度低于1150℃。
所述稀土金属氧化物为氧化镧、氧化钇、氧化铈、氧化钐、氧化铒或上述五种物质中两种或两种以上的组合物。
所述tft-lcd基板玻璃组分中还增加总质量不大于1％的氧化铍。
对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于所述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是所述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。