本发明涉及tft-lcd技术领域，具体涉及一种tft-lcd显示屏基板玻璃高效蚀刻液。
背景技术：
在tft-lcd显示屏的制备工艺过程中，需要使用玻璃基板。由于玻璃基板生产工艺的限制，生产出的玻璃基板较厚。为了进一步减轻显示器件的重量，生产厂家越来越多的采用将玻璃基板进行减薄的方法，随之玻璃基板的蚀刻成为重要的问题。通常使用的减薄方法有两种，一种是物理方法，即使用抛光粉进行抛光研磨，这种方法减薄时间长，精度不好控制，产品良率低；另一种方法为使用蚀刻液的化学蚀刻法，这种方法减薄时间短，设备投入小，产品良率高，且减薄液的成分简单成本低，逐渐成为了玻璃基板减薄的主流技术方法。现有技术的蚀刻液对基板的蚀刻速率较快，蚀刻量不容易控制，不能很好的对基板厚度进行控制，有的无法有效溶解硅酸盐，有的会产生较强的电离作用，生成过多的氢氟酸，会导致蚀刻速率不易控制，有时蚀刻液会产生大量气泡，降低蚀刻速率。
技术实现要素：
本发明旨在提供了一种tft-lcd显示屏基板玻璃高效蚀刻液。
本发明提供如下技术方案：
一种tft-lcd显示屏基板玻璃高效蚀刻液，所述蚀刻液由以下重量百分比的原料组成：磷酸14-18％、含氟化合物16-20％、硝酸9-14％、氢氟酸11-13％、重铬酸钾16-20％、浓硫酸7-15％、磷酸盐6-10％、表面活性剂8-10％、其余为溶剂。
所述含氟化合物为氟化钙和氟化钠的混合物。
所述表面活性剂为聚氧乙烯烷基苯基醚。
所述溶剂为去离子水和乙醇的混合物。
所述蚀刻液中每1000kg颗粒度大于0.4μm的不超过100个。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：本发明的蚀刻液与玻璃基板能充分接触并均匀地渗透至光刻胶底部，对不同金属的蚀刻速率基本一致，反应稳定，蚀刻后的基板表面整洁，无残留，无金属间分层现象，剩余线条平整；同时tft-lcd显示屏用蚀刻液在玻璃基板薄化之后对附着在玻璃基板表面的沉淀杂质进行溶解，能有效去除玻璃基板表面杂质，可以提高产品合格率和良率，同时可以对玻璃基板厚度的控制提供有效保证。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例1一种tft-lcd显示屏基板玻璃高效蚀刻液，所述蚀刻液由以下重量百分比的原料组成：磷酸14％、含氟化合物16％、硝酸9％、氢氟酸11％、重铬酸钾16％、浓硫酸7％、磷酸盐6％、表面活性剂8％、其余为溶剂。
所述含氟化合物为氟化钙和氟化钠的混合物。
所述表面活性剂为聚氧乙烯烷基苯基醚。
所述溶剂为去离子水和乙醇的混合物。
所述蚀刻液中每1000kg颗粒度大于0.4μm的不超过100个。
实施例2一种tft-lcd显示屏基板玻璃高效蚀刻液，所述蚀刻液由以下重量百分比的原料组成：磷酸18％、含氟化合物20％、硝酸14％、氢氟酸13％、重铬酸钾20％、浓硫酸15％、磷酸盐10％、表面活性剂10％、其余为溶剂。
所述含氟化合物为氟化钙和氟化钠的混合物。
所述表面活性剂为聚氧乙烯烷基苯基醚。
所述溶剂为去离子水和乙醇的混合物。
所述蚀刻液中每1000kg颗粒度大于0.4μm的不超过100个。
实施例3一种tft-lcd显示屏基板玻璃高效蚀刻液，所述蚀刻液由以下重量百分比的原料组成：磷酸16％、含氟化合物18％、硝酸13％、氢氟酸12％、重铬酸钾18％、浓硫酸12％、磷酸盐8％、表面活性剂9％、其余为溶剂。
所述含氟化合物为氟化钙和氟化钠的混合物。
所述表面活性剂为聚氧乙烯烷基苯基醚。
所述溶剂为去离子水和乙醇的混合物。
所述蚀刻液中每1000kg颗粒度大于0.4μm的不超过100个。
对于本领域技术人员而言，显然本发明不限于所述示范性实施例的细节，而且在不背离本发明的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本发明。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本发明的范围由所附权利要求而不是所述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本发明内。此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。