缩点釉及其制备方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及一种缩点釉及其制备方法，属于釉料制备技术领域。
【背景技术】
[0002]目前，在陶瓷行业中，瓷坯的造型是优质产品的基础釉料的调配使瓷器更加的耀眼夺目，同一造型的瓷坯，往往因釉面不同，而使消费者的视觉产生不同的影响，如果使其釉面收缩成点状的釉，其表面状态似人们日常食用的蔬菜“苦瓜”，这种缩点釉有的亚光，有的具有光泽，装饰于花瓶类、杯碟类陶瓷产品，美观别致，有良好的艺术效果，产品极具收藏价值。
【发明内容】
[0003]本发明所要解决的技术问题是克服现有技术的缺陷，提供一种缩点釉，它的釉层收缩成点状效果，美观别致，有良好的艺术效果，产品极具收藏价值。
[0004]为了解决上述技术问题，本发明的技术方案是:一种缩点釉，它的组份和各组份质量份如下:
[0005]基础釉料:100份；气象硅:15份-25份。
[0006]基础釉料的组份和各组份质量份如下:钾长石:40份-45份；石英:15份-20份；方解石:8份-10份；碳酸锶:3份-5份；氧化锌:1份-2份；碳酸钡:3份-5份；高岭土:6份_8份；滑石:4份-5份；娃酸错:12份-15份。
[0007]在100%的基础釉料中还含有质量百分比为万分之五到千分之一的羧甲基纤维素。
[0008]基础釉料中还含有质量份为2份的氧化铝和质量份为I份的石英。
[0009]本发明还提供了一种缩点釉的制备方法，该方法的步骤如下:
[0010](a)按照各组份和各组份质量份备料；
[0011](b)将备好的料倒入球磨机中加入球磨介质和水进行球磨；其中，料:水的质量比=I: (0.5-0.6)，并且加入的球磨介质的体积为球磨机容积的1/3-1/2 ；
[0012](c)球磨结束后，卸放釉浆，测定釉浆细度，釉浆细度控制在325目筛余:0.02% -0.10% ;再调成37-38波美度的釉浆，取外表光洁的坯体进行施釉，经氧化气氛下烧制成品。
[0013]进一步，在步骤(b)中，球磨介质采用高销球石，按照大:中:小=1:2:1质量比的级配加入。
[0014]进一步，在所述的步骤(b)中，球磨时间、球磨转速和装载量的条件如下:采用1kg球磨机，球磨转速为60-62转/分，球磨时间在12小时，球磨机的装载量为6kg的原料；采用500kg球磨机:球磨转速为21转/分，球磨时间14小时，球磨机的装载量为300kg原料。
[0015]进一步，在所述的步骤(C)中，取外表光洁的坯体进行施釉，施釉厚度在2.0-3.0mm0
[0016]采用了上述技术方案后，通过在基础釉料中引入气象硅(碳酸镁)15份-25份，缩釉效果很好，形成大小均匀点状，制备出了极具艺术价值的缩点釉陶瓷制品，而且具有防滑作用。
【具体实施方式】
[0017]为了使本发明的内容更容易被清楚地理解，下面根据具体实施例，对本发明作进一步详细的说明。
[0018]实施例一
[0019]一种缩点釉，它的组份和各组份质量份如下:
[0020]基础釉料:100份；气象硅:15份。
[0021]基础釉料的组份和各组份质量份如下:钾长石:40份；石英:15份；方解石:8份；碳酸锶:3份；氧化锌:1份；碳酸钡:3份；高岭土:6份；滑石:4份；硅酸锆:12份。
[0022]在100%的基础釉料中还含有质量百分比为万分之五的羧甲基纤维素。
[0023]基础釉料中还含有质量份为2份的氧化铝和质量份为I份的石英。
[0024]该缩点釉的制备方法的步骤如下:
[0025](a)按照各组份和各组份质量份备料；
[0026](b)将备好的料倒入球磨机中加入球磨介质和水进行球磨；其中，料:水的质量比=I: (0.5-0.6)，并且加入的球磨介质的体积为球磨机容积的1/3-1/2 ；
[0027](c)球磨结束后，卸放釉浆，测定釉浆细度，釉浆细度控制在325目筛余:0.02% -0.10% ;再调成37-38波美度的釉浆，取外表光洁的坯体进行施釉，经氧化气氛下烧制成品。
[0028]在步骤(b)中，球磨介质采用高铝球石，按照大:中:小=1:2:1质量比的级配加入。
[0029]在步骤(b)中，球磨时间、球磨转速和装载量的条件如下:采用1kg球磨机，球磨转速为60-62转/分，球磨时间在12小时，球磨机的装载量为6kg的原料。
[0030]在所述的步骤(c)中，取外表光洁的坯体进行施釉，施釉厚度在2.0-3.0mm。
[0031]实施例二
[0032]一种缩点釉，它的组份和各组份质量份如下:
[0033]基础釉料:100份；气象硅:25份。
[0034]基础釉料的组份和各组份质量份如下:钾长石:45份；石英:20份；方解石:10份；碳酸锶:5份；氧化锌'2份；碳酸钡:5份；高岭土:8份；滑石:5份；硅酸锆:15份。
[0035]在100%的基础釉料中还含有质量百分比为千分之一的羧甲基纤维素。
[0036]基础釉料中还含有质量份为2份的氧化铝和质量份为I份的石英。
[0037]该缩点釉的制备方法的步骤如下:
[0038](a)按照各组份和各组份质量份备料；
[0039](b)将备好的料倒入球磨机中加入球磨介质和水进行球磨；其中，料:水的质量比=1:(0.5-0.6)，并且加入的球磨介质的体积为球磨机容积的(1/3-1/2)；
[0040](c)球磨结束后，卸放釉浆，测定釉浆细度，釉浆细度控制在325目筛余:0.02% -0.10% ;再调成37-38波美度的釉浆，取外表光洁的坯体进行施釉，经氧化气氛下烧制成品。
[0041]在步骤(b)中，球磨介质采用高铝球石，按照大:中:小=1:2:1质量比的级配加入。
[0042]在步骤(b)中，球磨时间、球磨转速和装载量的条件如下:采用500kg球磨机:球磨转速为21转/分，球磨时间14小时，球磨机的装载量为300kg原料。
[0043]在所述的步骤(C)中，取外表光洁的坯体进行施釉，施釉厚度在2.0-3.0_。
[0044]实施例三
[0045]一种缩点釉，它的组份和各组份质量份如下:
[0046]基础釉料:100份；气象硅:20份。
[0047]基础釉料的组份和各组份质量份如下:钾长石:42份；石英:18份；方解石:9份；碳酸锶:4份；氧化锌:1份；碳酸钡:4份；高岭土:7份；滑石:4份；硅酸锆:12份。
[0048]在100%的基础釉料中还含有质量百分比为千分之一的羧甲基纤维素。
[0049]基础釉料中还含有质量份为2份的氧化铝和质量份为I份的石英。
[0050]该缩点釉的制备方法的步骤如下:
[0051](a)按照各组份和各组份质量份备料；
[0052](b)将备好的料倒入球磨机中加入球磨介质和水进行球磨；其中，料:水的质量比=I: (0.5-0.6)，并且加入的球磨介质的体积为球磨机容积的1/3-1/2 ；
[0053](c)球磨结束后，卸放釉浆，测定釉浆细度，釉浆细度控制在325目筛余:
0.02% -0.10% ;再调成37-38波美度的釉浆，取外表光洁的坯体进行施釉，经氧化气氛下烧制成品。
[0054]在步骤(b)中，球磨介质采用高销球石，按照大:中:小=1:2:1质量比的级配加入。
[0055]在步骤(b)中，球磨时间、球磨转速和装载量的条件如下:采用1kg球磨机，球磨转速为60-62转/分，球磨时间在12小时，球磨机的装载量为6kg的原料。
[0056]在所述的步骤(C)中，取外表光洁的坯体进行施釉，施釉厚度在2.0-3.0_。
[0057]以上三个实施例所制备的缩点釉缩釉效果很好，形成大小均匀点状，制备出了极具艺术价值的缩点釉陶瓷制品，而且具有防滑作用。
[0058]以上所述的具体实施例，对本发明解决的技术问题、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本发明的具体实施例而已，并不用于限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
【主权项】
1.一种缩点釉，其特征在于它的组份和各组份质量份如下: 基础釉料:100份；气象硅:15份-25份。2.根据权利要求1所述的缩点釉，其特征在于:所述的基础釉料的组份和各组份质量份如下:钾长石:40份-45份；石英:15份-20份；方解石:8份-10份；碳酸锶:3份-5份；氧化锌份-2份；碳酸钡:3份-5份；高岭土:6份-8份；滑石:4份-5份；硅酸锆:12份-15份。3.根据权利要求2所述的缩点釉，其特征在于:在100%的基础釉料中还含有质量百分比为万分之五到千分之一的羧甲基纤维素。4.根据权利要求2所述的缩点釉，其特征在于:所述的基础釉料中还含有质量份为2份的氧化铝和质量份为I份的石英。5.—种如权利要求1至4中任一项所述的缩点釉的制备方法，其特征在于该方法的步骤如下: (a)按照各组份和各组份质量份备料； (b)将备好的料倒入球磨机中加入球磨介质和水进行球磨；其中，料:水的质量比=I:(0.5-0.6)，并且加入的球磨介质的体积为球磨机容积的1/3-1/2 ； (c)球磨结束后，卸放釉浆，测定釉浆细度，釉浆细度控制在325目筛余:0.02% -0.10% ;再调成37-38波美度的釉浆，取外表光洁的坯体进行施釉，经氧化气氛下烧制成品。6.根据权利要求5所述的缩点釉的制备方法，其特征在于:在步骤(b)中，球磨介质采用高铝球石，按照大:中:小=1:2:1质量比的级配加入。7.根据权利要求5所述的缩点釉的制备方法:其特征在于:在所述的步骤(b)中，球磨时间、球磨转速和装载量的条件如下:采用1kg球磨机，球磨转速为60-62转/分，球磨时间在12小时，球磨机的装载量为6kg的原料；采用500kg球磨机:球磨转速为21转/分，球磨时间14小时，球磨机的装载量为300kg原料。8.根据权利要求5所述的缩点釉的制备方法:其特征在于:在所述的步骤(c)中，取外表光洁的还体进行施釉，施釉厚度在2.0-3.0mm。
【专利摘要】本发明公开了一种缩点釉，它的组份和各组份质量份如下：基础釉料：100份；气象硅：15份-25份，基础釉料的组份和各组份质量份如下：钾长石：40份-45份；石英：15份-20份；方解石：8份-10份；碳酸锶：3份-5份；氧化锌：1份-2份；碳酸钡：3份-5份；高岭土：6份-8份；滑石：4份-5份；硅酸锆：12份-15份。本发明的釉层收缩成点状效果，美观别致，有良好的艺术效果，产品极具收藏价值。
【IPC分类】C04B41/86
【公开号】CN104909833
【申请号】CN201510236232
【发明人】林迪辉
【申请人】湖南仙凤瓷业有限公司
【公开日】2015年9月16日
【申请日】2015年5月11日