专利名称：化合物和含有该化合物的光致抗蚀剂组合物的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种新的化合物和含有该化合物的光致抗蚀剂组合物。
背景技术：
用于采用光刻法的半导体微型制造的光致抗蚀剂组合物含有酸生成剂，该酸生成 剂包含通过辐照产生酸的化合物。US 2003/0194639A1公开了一种包含2，6_ 二异丙基苯胺或氢氧化四丁基铵的光 致抗蚀剂组合物。
发明内容
本发明的目的是提供一种新的化合物和含有该化合物的光致抗蚀剂组合物。本发明涉及下列内容<1> 一种由式(Cl)表示的化合物
权利要求
1. 一种由式(Cl)表示的化合物
2.根据权利要求1所述的化合物，其中Rc"是硝基苯基。
3.根据权利要求1所述的化合物，其中栌是由式(3-1)表示的基团。
4.根据权利要求1所述的化合物，其中Rca是由式(1-1)或(1-2)表示的基团
5.根据权利要求1所述的化合物，其中所述由式(Cl)表示的化合物是由式(C1-1)， (Cl-2)，(C1-3)或(C1-4)表示的化合物
6.一种光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物包含树脂、酸生成剂和根据权利要 求1所述的化合物。
7.一种用于制备由式(Cl)表示的化合物的方法，
全文摘要
本发明提供一种由式(C1)表示的化合物和一种包含树脂、酸生成剂和由式(C1)表示的化合物的光致抗蚀剂组合物，在所述式(C1)中，Rc2表示具有至少一个硝基的C6-C10芳族烃基，并且Rc1表示由式(1)表示的基团，在所述式(1)中，Rc4表示氢原子等，Rc5表示C1-C30二价烃基，并且Rc3表示由式(3-1)，(3-2)或(3-3)表示的基团，在所述式(3-1)，(3-2)或(3-3)中，Rc6，Rc7，Rc8，Rc9，Rc10，Rc11，Rc12，Rc13和Rc14各自独立地表示C1-C30烃基。
文档编号C07D211/60GK101993395SQ201010249208
公开日2011年3月30日 申请日期2010年8月6日 优先权日2009年8月11日
发明者增山达郎, 畑光宏 申请人:住友化学株式会社