针对膜系统二氧化硅结垢的清洗剂及其制备和使用的制作方法

技术特征：

1.针对膜系统二氧化硅结垢的清洗剂，其特征在于，由如下质量百分比的物质制备而成：

2.如权利要求1所述的针对膜系统二氧化硅结垢的清洗剂，其特征在于：

所述含氟铵盐选自含氟有机铵盐或含氟无机铵盐中的一种或多种。

3.如权利要求1所述的针对膜系统二氧化硅结垢的清洗剂，其特征在于：

所述含氟铵盐选自氟化氢铵。

4.如权利要求1所述的针对膜系统二氧化硅结垢的清洗剂，其特征在于：

所述含氟酸选自含氟有机酸或含氟无机酸中的一种或多种。

5.如权利要求1所述的针对膜系统二氧化硅结垢的清洗剂，其特征在于：

所述含氟酸选自氢氟酸。

6.如权利要求1所述的针对膜系统二氧化硅结垢的清洗剂，其特征在于，由如下质量百分比的物质制备而成：

7.如权利要求1所述的针对膜系统二氧化硅结垢的清洗剂，其特征在于，由如下质量百分比的物质制备而成：

8.如权利要求1-7任一所述的针对膜系统二氧化硅结垢的清洗剂的制备方法，其特征在于：于反应釜中依次加入水、含氟铵盐、含氟酸和多胺基多醚基亚甲基磷酸，于10-60℃的温度下，缓慢搅拌至其完全混合均匀。

9.如权利要求1-7任一所述的针对膜系统二氧化硅结垢的清洗剂的使用备方法，其特征在于：

将清洗剂用水稀释至1-5％的浓度后进行使用。