一种聚噻吩衍生物、复合材料及制备方法与流程

本发明涉及发光材料技术领域，特别是涉及一种聚噻吩衍生物、复合材料及制备方法。

背景技术：

随着显示技术的飞速发展，量子点和有机发光二极管都具有独特的优越性能，被作为下一代显示技术。目前，发展量子点和有机发光二极管技术中，通常采用喷墨打印的方式制作发光层。

本发明的发明人在长期的研发过程中，发现溶解有量子点材料或发光材料的溶液液滴容易滴落在基材上，容易导致相邻不同颜色的量子点或发光材料造成混色，影响色彩纯度。

技术实现要素：

本发明主要解决的技术问题是提供一种聚噻吩衍生物、复合材料及制备方法，能够缓解不同颜色的量子点或发光材料的混淆造成的混色，提高色彩纯度。

为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种聚噻吩衍生物，该聚噻吩衍生物的结构式为下式I；其中，式I中所示的R选自直链烷烃、支链烷烃、支链芳香烃；式I中所示的n代表重复单元数，为1-5000之间的自然数。

本发明采用的另一个技术方案是：提供一种聚噻吩衍生物的制备方法，用于制备上述聚噻吩衍生物，该聚噻吩衍生物的结构式如上述式I，该方法包括：提供化合物II和化合物III，在弱碱性条件下，使化合物II和化合物III在第一极性溶剂中发生反应，制备得到化合物IV；提供化合物IV和化合物V，在脱水剂和第一催化剂的存在下，使化合物IV和化合物V在第二极性溶剂中发生反应，制备得到化合物VI；提供化合物VI和化合物VII，在第二催化剂的存在下，使化合物VI和化合物VII在非极性溶剂中发生反应，制备得到化合物I；其中，化合物II的结构式为下式II，化合物III的结构式为下式III，化合物IV的结构式为下式IV，化合物V的结构式为下式V，化合物VI的结构式为下式VI，化合物VII的结构式为下式VII，其中，式III中所示的R选自直链烷烃、支链烷烃、支链芳香烃。

本发明采用的又一个技术方案是：提供一种复合材料，该复合材料用于量子点和有机发光二极管的基材，复合材料包含上述聚噻吩衍生物和掺加剂。

本发明采用的再一个技术方案是：提供一种复合材料的制备方法，复合材料用于量子点和有机发光二极管的基材，该制备方法包括：按重量份数计，分别提供碳黑18-22份、分散剂3-5份、树脂5-8份、聚噻吩衍生物2-4份、单体1-3份、光引发剂0.5-2份、添加剂1-3份和溶剂50-70份；将碳黑、分散剂、树脂、聚噻吩衍生物、单体、光引发剂、添加剂和溶剂混合，以得到第三混合物；将第三混合物涂覆在玻璃基板上，以形成复合材料层；对复合材料层进行预烘烤；通过预设掩膜对复合材料层进行曝光；显影后，经烘烤得到复合材料。

本发明的有益效果是：区别于现有技术的情况，本发明提供一种聚噻吩衍生物，该聚噻吩衍生物的结构式为上式I；其中，式I中所示的R选自直链烷烃、支链烷烃、支链芳香烃；式I中所示的n代表重复单元数，为1-5000之间的自然数。通过上述方式，本发明得到一种聚噻吩衍生物，该聚噻吩衍生物具有疏水性。如下反应式所示，该聚噻吩衍生物在受到紫外光照射之后，造成聚噻吩衍生物(式I)酯基处发生光解离反应，由于光解离反应产物(下式VIII)中存在两个羧基，因此，光解离反应产物具有亲水性。也就是说，聚噻吩衍生物的性质由疏水性(亲有机溶剂性)变成光解离反应产物的亲水性(疏有机溶剂性)。因此，可以将聚噻吩衍生物作为一种改性材料加入基材中，在喷墨打印的曝光过程中，聚噻吩衍生物受到紫外光的激发发生光解离，此时基材的曝光区域处(上层表面)性质变成亲水性(疏有机溶剂性)。在喷墨打印过程中，由于基材上层表面的疏有机溶剂作用，可以减少溶解有量子点材料或发光材料的溶液液滴停滞在基材中，能够缓解不同颜色的量子点或发光材料的混淆造成的混色，提高色彩纯度。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。其中：

图1是本发明聚噻吩衍生物的制备方法一实施例的流程示意图；

图2是图1中步骤S102的流程示意图；

图3是图1中步骤S103的流程示意图；

图4是本发明复合材料的制备方法一实施例的流程示意图；

图5是图4中的结构示意图；

图6是图5中曝光后的局部结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性的劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

下列实施例中未注明具体条件的实验方法，按照常规方法和条件，或按照商品说明书选择。

本发明实施例提供了一种聚噻吩衍生物，该聚噻吩衍生物具有如下式I所示的结构：

其中，式I中所示的R可以为直链烷烃、支链烷烃或支链芳香烃。

具体地，直链和支链的烷烃链基团，其仅由碳和氢原子组成，不含不饱和，具有1至12个碳原子，且其通过单键与分子的剩余部分连接。本实施例中，烷基可以为甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、正戊基、叔丁基、3-甲基己基、2-甲基己基等。除非在说明书中另外具体规定，烷基可由下列基团之一任选取代：烷基、烯基、卤素、卤代烯基、氰基、硝基、芳基、环烷基、杂环基、杂芳基、氧代、三甲基甲硅烷基、-OR¹、-OC(O)-R¹、-N(R¹)2、-C(O)R¹、-C(O)OR¹、-C(O)N(R¹)2、-N(R¹)C(O)OR²、-N(R¹)C(O)R²、-N(R¹)S(O)tR²(其中t为1至2)、-S(O)tOR²(其中t为1至2)、-S(O)pR²(其中p为0至2)、且-S(O)tN(R1)2(其中t为1至2)，其中每个R¹独立地为氢、烷基、卤代烷基、环烷基、环烷基烷基、芳基、芳烷基、杂环基、杂环烷基、杂芳基或杂芳基烷基；且每个R²为烷基、卤代烷基、环烷基、环烷基烷基、芳基、芳烷基、杂环基、杂环烷基、杂芳基或杂芳基烷基。

支链芳香烃是指与烷基直接相连的包含氢、6至18个碳原子和至少一个芳环的烃环体系基团。本实施例中，支链芳香烃可以为与烷基直接相连的单环、双环、三环或四环体系，其可包括稠环或桥环体系。除非在说明书中另外具体规定，芳基可由下列基团之一任选取代：烷基、烯基、卤素、卤代烯基、氰基、硝基、芳基、环烷基、杂环基、杂芳基、氧代、三甲基甲硅烷基、-OR¹、-OC(O)-R¹、-N(R¹)2、-C(O)R¹、-C(O)OR¹、-C(O)N(R¹)2、-N(R¹)C(O)OR²、-N(R¹)C(O)R²、-N(R¹)S(O)tR²(其中t为1至2)、-S(O)tOR²(其中t为1至2)、-S(O)pR²(其中p为0至2)、且-S(O)tN(R1)2(其中t为1至2)，其中每个R¹独立地为氢、烷基、卤代烷基、环烷基、环烷基烷基、芳基、芳烷基、杂环基、杂环烷基、杂芳基或杂芳基烷基；且每个R²为烷基、卤代烷基、环烷基、环烷基烷基、芳基、芳烷基、杂环基、杂环烷基、杂芳基或杂芳基烷基。

式I中所示的n代表重复单元数，n可以为1-5000之间的自然数。

具体地，在本实施例中，n可以为1000、2000、3000、4000、5000，在此不做限定。

通过上述方式，本实施例得到一种聚噻吩衍生物，该聚噻吩衍生物具有疏水性。如下反应式所示，该聚噻吩衍生物在受到紫外光照射之后，造成聚噻吩衍生物(式I)酯基处发生光解离反应，由于光解离反应产物(下式VIII)中存在两个羧基，因此，光解离反应产物具有亲水性。也就是说，聚噻吩衍生物的性质由疏水性(亲有机溶剂性)变成光解离反应产物的亲水性(疏有机溶剂性)。因此，可以将聚噻吩衍生物作为一种改性材料加入基材中，在喷墨打印的曝光过程中，聚噻吩衍生物受到紫外光的激发发生光解离，此时基材的曝光区域处(上层表面)性质变成亲水性(疏有机溶剂性)。在喷墨打印过程中，由于基材上层表面的疏有机溶剂作用，可以减少溶解有量子点材料或发光材料的溶液液滴停滞在基材中，能够缓解不同颜色的量子点或发光材料的混淆造成的混色，提高色彩纯度。

其中，在一实施例中，聚噻吩衍生物的数均分子量可以为12000-16000。例如，聚噻吩衍生物的数均分子量可以为12000、13000、14000、15000、16000。

参阅图1，图1是本发明聚噻吩衍生物的制备方法一实施例的流程示意图。本发明实施例提供了一种聚噻吩衍生物的制备方法，该制备方法用于制备上述的聚噻吩衍生物。该方法包括：

步骤S101：提供化合物II和化合物III，在弱碱性条件下，使化合物II和化合物III在第一极性溶剂中发生反应，制备得到化合物IV。

其中，化合物II的结构式为下式II，化合物III的结构式为下式III。式III中所示的R选自直链烷烃、支链烷烃或支链芳香烃。

具体地，在本实施方式中，弱碱性条件是指反应体系pH值在8-10之间。弱碱性条件是由碱土金属的C1-C4羧酸盐、碱土金属的C1-C4羧酸盐、碱土金属草酸盐、碱土金属草酸盐、碱土金属的磷酸氢盐、碱土金属的磷酸氢盐、碱土金属的磷酸盐、碱土金属的氟化物、碱土金属的氟化物中的至少一种碱所形成。例如，可以在反应体系中添加碳酸钠、碳酸钾、碳酸氢钠、碳酸氢钾、氢氧化钠、氢氧化钾中的至少一种来控制反应体系pH值至8-10之间。例如，pH值为8、9、10

第一极性溶剂可以为甲酰胺、三氟乙酸、二甲基亚砜、乙腈、二甲基甲酰胺、六甲基磷酰胺、甲醇、乙醇、乙酸、异丙醇、吡啶、四甲基乙二胺、丙酮、三乙胺、正丁醇、二氧六环、四氢呋喃甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、异丁醇、叔丁醇中的至少一种，在此不做限定。

步骤S102：提供化合物IV和化合物V，在脱水剂和第一催化剂的存在下，使化合物IV和化合物V在第二极性溶剂中发生反应，制备得到化合物VI。

其中，化合物IV的结构式为下式IV，化合物V的结构式为下式V。

具体地，在本实施方式中，脱水剂可以为碳二亚胺或碳二亚胺衍生物，例如，碳二亚胺、1-(3-二甲氨基丙基)-3-乙基碳二亚胺盐酸盐、N,N'-二异丙基碳二亚胺或二环己基碳二亚胺中的至少一种。

第一催化剂可以为4-二甲氨基吡啶、浓硫酸、阳离子交换树脂、分子筛中的至少一种。

第二极性溶剂可以为甲酰胺、三氟乙酸、二甲基亚砜、乙腈、二甲基甲酰胺、六甲基磷酰胺、甲醇、乙醇、乙酸、异丙醇、吡啶、四甲基乙二胺、丙酮、三乙胺、正丁醇、二氧六环、四氢呋喃甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、异丁醇、叔丁醇中的至少一种，在此不做限定。

步骤S103：提供化合物VI和化合物VII，在第二催化剂的存在下，使化合物VI和化合物VII在非极性溶剂中发生反应，制备得到化合物I。

其中，化合物VI的结构式为下式VI，化合物VII的结构式为下式VII。

具体地，在本实施方式中，第二催化剂可以为ZnCl2、SnCl2、FeCl2、FeCl3、Pd(dba)2、Pd2(dba)3中的至少一种，在此不做限定。

其中，在一实施例中，脱水剂可以为二环己基碳二亚胺，第一极性溶剂可以为二甲基甲酰胺，第二极性溶剂可以为四氢呋喃，非极性溶剂可以为甲苯，第一催化剂可以为4-二甲氨基吡啶，第二催化剂为Pd2(dba)3。

参阅图2，图2是图1中步骤S102的流程示意图。在本实施例中，步骤S102包括：

子步骤S121：按摩尔份数计，分别提供化合物IV 1-2份、化合物V 1-2份、二环己基碳二亚胺1-4份和4-二甲氨基吡啶2-6份，并将化合物IV、化合物V、二环己基碳二亚胺和4-二甲氨基吡啶混合，以得到第一混合物。

具体地，在本实施方式中，化合物IV可以为1份、2份，化合物V可以为1份、2份，二环己基碳二亚胺可以为1份、2份、3份、4份，和4-二甲氨基吡啶2份、3份、4份、5份、6份。

子步骤S122：将第一混合物在四氢呋喃中回流反应12-48h，以得到化合物IV。

具体地，在本实施方式中，反应时间可以为12h、24h、36h、48h。

参阅图3，图3是图1中步骤S103的流程示意图。在本实施例中，步骤S103包括：

子步骤S131：按摩尔份数计，分别提供化合物VI 1-2份、化合物VII 1-2份和Pd2(dba)3 0.01-0.2份，并将化合物VI、化合物VII和Pd2(dba)3混合，以得到第二混合物。

具体地，在本实施方式中，化合物VI可以为1份、2份，化合物VII可以为1份、2份，Pd2(dba)3可以为0.01份、0.05份、0.1份、0.15份、0.2份。

子步骤S132：将第二混合物在甲苯中反应24-60h，以得到化合物I。

具体地，在本实施方式中，反应时间可以为24h、36h、48h、60h。化合物I的聚合度n可以通过反应的时间来控制。

本发明实施例提供了一种复合材料，该复合材料用于量子点和有机发光二极管的基材，复合材料包含上述实施例中的聚噻吩衍生物和掺加剂。

具体地，在本实施方式中，掺加剂可以为碳黑、分散剂、树脂、聚噻吩衍生物、单体、光引发剂、添加剂和溶剂中的至少一种。

其中，在一实施例中，复合材料的原料按重量份数计包含：碳黑18-22份、分散剂3-5份、树脂5-8份、聚噻吩衍生物2-4份、单体1-3份、光引发剂0.5-2份、添加剂1-3份和溶剂50-70份。

具体地，在本实施方式中，碳黑可以为18份、19份、20份、21份、22份，分散剂可以为3份、4份、5份，树脂5份、6份、7份、8份，聚噻吩衍生物2份、3份、4份，单体1份、2份、3份，光引发剂0.5份、1份、1.5份、2份，添加剂1份、2份、3份和溶剂50份、60份、70份。

其中，在一实施例中，分散剂为失水山梨醇脂肪酸酯、十八胺、十二胺、聚氧乙烯失水山梨醇脂肪酸酯、烷基酚-烷基胺甲醛缩合物中的至少一种。

树脂是碱可溶的树脂类，可以为一元羧酸、二元羧酸树脂和多元酸树脂中的至少一种。树脂可以是甲基丙烯酸树脂、乙基丙烯酸树脂等不同碳链长度的丙烯酸树脂。树脂也可以是马来酸树脂或苯二甲酸树脂等二元羧酸树脂。树脂还可以是均苯三甲酸树脂、双苯四元羧酸树脂等多元酸树脂。

单体为含有不饱和双键的烯烃类衍生物。

具体地，在本实施方式中，烯烃类衍生物含有直链或支链的烃链基团，该直链或支链的烃链基团仅由碳和氢原子组成，包含至少一个双键，具有1至12个碳原子，且其通过单键与分子的剩余部分连接。本实施例中，烯基可以为乙烯基、丙-1-烯基、丁-1-烯基、戊-1-烯基、戊-1，4-二烯基等。除非在说明书中另外具体规定，烯基可由下列基团之一任选取代：烷基、烯基、卤素、卤代烯基、氰基、硝基、芳基、环烷基、杂环基、杂芳基、氧代、三甲基甲硅烷基、-OR¹、-OC(O)-R¹、-N(R¹)2、-C(O)R¹、-C(O)OR¹、-C(O)N(R¹)2、-N(R¹)C(O)OR²、-N(R¹)C(O)R²、-N(R¹)S(O)tR²(其中t为1至2)、-S(O)tOR²(其中t为1至2)、-S(O)pR²(其中p为0至2)、且-S(O)tN(R1)2(其中t为1至2)，其中每个R¹独立地为氢、烷基、卤代烷基、环烷基、环烷基烷基、芳基、芳烷基、杂环基、杂环烷基、杂芳基或杂芳基烷基；且每个R²为烷基、卤代烷基、环烷基、环烷基烷基、芳基、芳烷基、杂环基、杂环烷基、杂芳基或杂芳基烷基。

光引发剂为2,2’-双(邻-甲基苯基)-4,4’，5,5’-四苯基二咪唑、2,2’-双(邻-乙基苯基)-4,4’,5,5’-四苯基二咪唑、α,α-二乙氧基苯乙酮、2-甲基-2-吗啉代-1-(4-甲基苯硫基)丙烷-1-酮中的至少一种。

添加剂为甲基硅氧烷、聚丙烯酸钠中的至少一种。

溶剂为丙二醇单甲基醚酯、乙酸丁酯、3-甲氧基乙酸丁酯中的至少一种。

通过上述方式，该复合材料含有聚噻吩衍生物，其中，聚噻吩衍生物是一种疏水性(亲有机溶剂)的材料。该聚噻吩衍生物在受到紫外光照射之后，造成聚噻吩衍生物(式I)酯基处发生光解离反应，由于光解离反应产物(下式VIII)中存在两个羧基，因此，光解离反应产物具有亲水性。也就是说，聚噻吩衍生物的性质由疏水性(亲有机溶剂性)变成光解离反应产物的亲水性(疏有机溶剂性)。因此，可以将聚噻吩衍生物作为一种改性材料加入基材中。在喷墨打印的曝光过程中，聚噻吩衍生物受到紫外光的激发发生光解离，此时复合材料的曝光区域处(上层表面)性质变成亲水性(疏有机溶剂性)。而由于复合材料侧表面未有受到曝光，并未发生光裂解反应，因此，复合材料侧表面性质仍为亲有机溶剂性。由于基材曝光区域处(上层表面)的疏有机溶剂作用，可以减少溶解有量子点材料或发光材料的溶液液滴停滞在基材中，能够缓解不同颜色的量子点或发光材料的混淆造成的混色，提高色彩纯度。

参阅图4-6，图4是本发明复合材料的制备方法一实施例的流程示意图，图5是图4中的结构示意图，图6是图5中曝光后的局部结构示意图。

本发明实施例提供了一种复合材料的制备方法，复合材料用于量子点和有机发光二极管的基材，该制备方法包括：

步骤S201：按重量份数计，分别提供碳黑18-22份、分散剂3-5份、树脂5-8份、聚噻吩衍生物2-4份、单体1-3份、光引发剂0.5-2份、添加剂1-3份和溶剂50-70份。

具体地，在本实施方式中，碳黑可以为18份、19份、20份、21份、22份，分散剂可以为3份、4份、5份，树脂5份、6份、7份、8份，聚噻吩衍生物2份、3份、4份，单体1份、2份、3份，光引发剂0.5份、1份、1.5份、2份，添加剂1份、2份、3份和溶剂50份、60份、70份。

步骤S202：将上述碳黑、分散剂、树脂、聚噻吩衍生物、单体、光引发剂、添加剂和溶剂混合，以得到第三混合物。

步骤S203：将第三混合物涂覆在玻璃基板102上，以形成复合材料层101。

具体地，在本实施方式中，在玻璃基板102上涂覆第三混合物以形成复合材料层101。

步骤S204：对复合材料层101进行预烘烤。

步骤S205：通过预设掩膜103对复合材料层101进行曝光。

步骤S206：显影。

步骤S207：显影后，经烘烤得到复合材料。

具体地，在本实施方式中所配制的第三混合物用于在可加工的基材(或被加工的基材)上形成复合材料膜。该方法包括在可加工的基材上涂覆第三混合物和预烘烤的步骤。这些步骤可通过已知的技术实现。视特定的目的而定，可形成具有10-2000nm厚度范围的复合材料膜。可通过旋涂和几种其它已知技术进行该涂敷步骤。当所形成的复合材料膜的厚度是约150nm或更低时，最优选旋涂方式以得到均匀的膜厚度。

然后预烘烤如此施加的复合材料涂层以除去在涂层中残存的多余的溶剂。例如，可以在80℃-130℃下，在加热板上加热1-10分钟。具体地，加热温度可以为80℃、90℃、100℃、110℃、120℃、130℃。加热时间可以为1分钟、3分钟、5分钟、7分钟、9分钟、10分钟。

接下来，如此形成的复合材料膜被按图案形式地曝光从而形成所需的图案。通过在复合材料膜上放置具有所需图案的掩膜103、并且辐照高能辐射104(如，紫外，准分子激光或X-射线)或电子束照射来进行曝光。曝光可通过标准光刻技术实施，或如果需要，可通过在投影透镜和复合材料膜之间装满液体的浸入光刻技术实施。其中，在曝光阶段，紫外线光照波长可以为300-380nm，例如，紫外线光照波长为300nm、330nm、360nm、380nm。

曝光后，通过标准技术，如浸泡式、水坑式或喷雾技术，使用碱性水溶液形式的显影剂对复合材料膜显影0.1-3分钟。例如，显影时间可以为0.1分钟、0.5分钟、1分钟、2分钟、3分钟。显影液一般是0.1-5wt％的四甲基氢氧化铵水溶液。例如，显影液为0.1wt％、0.5wt％、2wt％、4wt％、5wt％。由此在基材上形成所需图案。

显影后进一步洗净干燥后，通过烘烤来烧结图案，得到复合材料。显影后热处理可以在90-190℃温度下在热板上加热1到15分钟，具体地，加热温度可以为90℃、110℃、130℃、150℃、170℃、190℃。加热时间可以为1分钟、5分钟、10分钟、15分钟，从而在显影后烧结图案。

通过上述方式，制备得到含有聚噻吩衍生物的复合材料，其中，聚噻吩衍生物是一种疏水性(亲有机溶剂)的材料。该聚噻吩衍生物在受到紫外光照射之后，造成聚噻吩衍生物(式I)酯基处发生光解离反应，由于光解离反应产物(下式VIII)中存在两个羧基，因此，光解离反应产物具有亲水性。也就是说，聚噻吩衍生物的性质由疏水性(亲有机溶剂性)变成光解离反应产物的亲水性(疏有机溶剂性)。因此，可以将聚噻吩衍生物作为一种改性材料加入基材中。在喷墨打印的曝光过程中，聚噻吩衍生物受到紫外光的激发发生光解离，此时复合材料的曝光区域11处(上层表面)性质变成亲水性(疏有机溶剂性)。而由于复合材料侧表面12未有受到曝光，并未发生光裂解反应，因此，复合材料侧表面12性质仍为亲有机溶剂性。由于基材曝光区域11处(上层表面)的疏有机溶剂作用，可以减少溶解有量子点材料或发光材料的溶液液滴停滞在基材中，能够缓解不同颜色的量子点或发光材料的混淆造成的混色，提高色彩纯度。

下面通过具体实施例进一步描述本发明的方法，但并不因此将本发明限制在所述的实施例范围之中，任何未超出本发明构思的改进方案，均在本发明的保护范围之内。

实施例一

分别提供化合物IV 1mmol、化合物V 2mmol、二环己基碳二亚胺2mmol和4-二甲氨基吡啶2mmol，并将化合物IV、化合物V、二环己基碳二亚胺和4-二甲氨基吡啶混合，以得到第一混合物。将第一混合物在50mL四氢呋喃中回流反应36h。

实施例二

分别提供化合物VI 0.5mmol、化合物VII 0.5mmol和Pd2(dba)30.025mmol，并将化合物VI、化合物VII和Pd2(dba)3混合，以得到第二混合物。将第二混合物在甲苯中反应48h，以得到化合物I。

实施例三

复合材料的原料按重量份数计包含：碳黑18份、分散剂3份、树脂5份、聚噻吩衍生物2份、单体1份、光引发剂0.5份、添加剂1份和溶剂50份。

实施例四

复合材料的原料按重量份数计包含：碳黑22份、分散剂5份、树脂8份、聚噻吩衍生物4份、单体3份、光引发剂2份、添加剂3份和溶剂70份。

以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。