涂布装置的制作方法

文档序号:3808662阅读:158来源:国知局
专利名称:涂布装置的制作方法
技术领域
本发明涉及使渗碳及/或渗氮(以下有时称为渗碳·渗氮)防止用粉状体及泥状体(悬浮液)附着在被处理物上时所使用的涂布装置。又,作为适用于该涂布装置的上述粉状体、泥状体等,除了上述渗碳、渗氮防止用的物质以外,同样也适用脱碳、去氮、氧化防止用的物质等。以下,作为代表以防止渗碳及渗氮等的场合为例进行说明。
背景技术
对于使用于汽车及船舶等的凸轮、轴、活塞、销或各种齿轮及切削工具等之类的金属机械零件,作为零件整体要求强韧性,另一方面对经受摩擦的部分要求高度的耐磨耗性。作为取得兼具这样的强韧性和耐磨耗性的机械零件的方法,有一种方法是,使用强韧的钢材制造所需形状的零件后对要求耐磨耗性的部分进行渗碳·渗氮处理使其硬化。这种场合,采用这样的方法,即对应该进行硬化处理的部分以外的部分进行掩蔽防止渗碳·渗氮,以保持该掩蔽部分的强韧性。
作为此种掩蔽剂,通常所知有形成气体屏蔽性被膜的涂料型的掩蔽剂。使用该涂料型的掩蔽剂时,首先在进行渗碳·渗氮的热处理之前,预先在钢材的特定部位涂上该涂料,然后将其投入装入有渗碳·渗氮剂或保持有渗碳·渗氮性气体环境的炉中加热至300~1000℃。这样在加热作用下涂料中的树脂发生热分解、消失,与此同时渗碳·渗氮防止成分在钢材表面烧结形成渗碳·渗氮防止被膜,从而阻止与渗碳·渗氮成分的接触,其结果该涂布部分的渗碳·渗氮得到防止。
此时,因为如果渗碳·渗氮防止被膜中存在涂布不匀、或小孔等缺陷,则不能达到防止渗碳·渗氮的目的,如何形成没有缺陷的均匀的渗碳·渗氮防止被膜成为最大的关键点。
然而,该涂料缺乏流动性,从而为了形成均匀的涂膜必须将溶剂稀释,并重复涂覆多次该稀释液。因此要求用笔及毛刷等进行细致的作业,从而需要庞大的人手和劳力。又,这种涂布方法以下有时称为毛刷涂布方式。
此外对于具有曲面及凹凸形状的被处理物,难以在该凹凸部位上以充分的厚度没有遗漏地使渗碳·渗氮涂料厚度均匀地进行涂布,不能避免局部地发生渗碳·渗氮防止不良的现象。
此处,作为掩蔽剂使用渗碳·渗氮防止用粉状体以解决上述问题的渗碳、渗氮防止法得到提案(日本专利公开特开平9-59757号公报)。该防止法所使用的粉状体,作为必需成分含有具有渗碳·渗氮防止作用的硼系无机化合物、和在渗碳或渗氮条件下发生热分解的热熔融性树脂。掩蔽方法为,对被处理金属零件上不应进行渗碳·渗氮的部位(以下有时称为掩蔽部位)进行加热,使上述渗碳·渗氮防止用粉状体接触该掩蔽部位(加热部)而熔融。
作为使渗碳·渗氮防止用粉状体接触该掩蔽部位的手法,有以下的方法①将上述渗碳·渗氮防止用粉状体装入上面开放的容器内,将被处理金属零件的掩蔽部位插入上述粉状体内的手法(以下有时称为插入方式);②将上述渗碳·渗氮防止用粉状体载置于气体(空气等)能够透过的筛子上,通过从该筛子下侧以适当的速度喷出气体将上述粉状体保持为流动状态,从上部向该流动状态的粉状体插入被处理金属零件的掩蔽部位的手法(以下有时称为流动床方式);③一边使被处理金属零件的掩蔽部位自转,一边使渗碳·渗氮防止用粉状体从上方向该掩蔽部位落下而与其接触的方法(以下有时称为撒洒方式)。又作为使该粉状体从上方落下的手法,具体地有将粉状体载置于槽或板材上、振动该槽或板材使其落下的方法。
上述流动床方式及上述撒洒方式中由于渗碳·渗氮防止用粉状体发生扩散,不能明瞭地区分掩蔽部位与非掩蔽部位的分界线,与此相对,上述插入方式具有能够明瞭地区分分界线的优点。但是存在以下问题即进行插入操作后上述粉状体出现凹陷,进行下次插入操作时出现粉状体高度不同的现象,从而难以对被处理金属零件在一定位置进行掩蔽。
这里,解决了该问题的插入方式用涂布装置在日本专利公开特开2000-212719号公报中得到提案。图31是示出该涂布装置50的立体图,图32(a)是用于对该涂布装置50进行说明的概略剖视图,图32(b)是粉状体涂布后的被处理金属零件的立体图。
该涂布装置50为在底近旁连通的双重容器(内容器12、外容器11),将内容器12内的粉状体向上推起(箭头C)使其从溢流缘12a溢出(箭头J),同时由外容器11接收溢出的粉状体,再将其从上述底近旁的连通孔16送回上述内容器11(箭头E、F)内,由此粉状体的上表面始终保持为一定。又图中,17R、17L是搬运粉状体等的螺杆,19是用于驱动这些螺杆17R、17L旋转的外部电动机,15是为用于将上述粉状体等引导至连通孔16的倾斜引导体。
使用上述涂布装置50,则即便进行被处理金属零件(被处理物)51的插入操作,也不会发生粉状体高度的变化,能在一定的位置进行掩蔽,而且能明瞭地区分掩蔽部位51a与非掩蔽部位51b。

发明内容
然而,用如图31、32所示的涂布装置,不能将内容器12内的流体(粉状体)良好地向上推起,屡屡产生例如位于内容器上方的粉状体等绷紧、不能顺利地插入被处理物、或产生粉状体结块的现象。
此处本发明者进行锐意研究后,发现内容器12的容器内径与深度的关系对容器12内的粉状体等的流动状态产生影响,例如如图31、32所示涂布装置的内容器中容器内径与深度之比约为1∶1,发现如果是这样的比例则容器太深、粉状体等会绷紧的现象。然后根据只要将内容器(浸渍容器)12的深度与容器内径调整为适当的范围、就能良好地将粉状体等向上推起的观点,完成了本发明。
即,本发明的涂布装置是在被处理物上涂布粉状体或泥状体等流体的涂布装置,其要旨在于具有流体循环系统,使在浸渍容器内上升的所述流体从上部的溢流缘溢流、流入溢流体流入容器、再将其从该溢流体流入容器下部送回所述浸渍容器内,所述浸渍容器的深度对内径之比为1/3~2/3。
如果浸渍容器的深度过深,则如前所述不能保持上层部分流体的柔软性,并且流体会结块而不能顺利地从溢流缘溢出,因此被处理零件难以插入,又掩蔽部位与非掩蔽部位的分界线可能变得不明瞭。另一方面,如果浸渍容器的深度太深,则流体表面产生波浪,而难以将流体表面的线保持为一定。
这一点上只要是如上所述深度对内径之比为1/3~2/3的浸渍容器,则能够良好地将粉状体等的流体向上推起,并在上层部分保持流体的柔软性,而又能在浸渍容器(上升区域部)和溢流体流入容器(下降区域部)之间实现流体的顺利循环。其结果,可以将被处理物顺利地插入浸渍容器内的流体中。这样涌上溢出的流体的上表面不产生波浪而能保持为一定,能够明瞭地区分掩蔽部位与非掩蔽部位的分界线。
上述内径当浸渍容器内的形状为圆形的场合指的是其直径,当浸渍容器内的形状为椭圆形的场合指的是其长轴和短轴长度的平均值,正方形形状的场合则为一边的长度,长方形的场合则为长边和短边长度的平均值。
作为上述浸渍容器,理想地,上述深度对内径之比为40~60%,更理想地为45~55%。
进一步本发明中,理想地应构成为,所述浸渍容器及所述溢流体流入容器分别为圆筒状,且所述浸渍容器配置在所述溢流体流入容器内。
上述浸渍容器为例如四边形的场合,其角部流体有可能停滞,如上所述做成圆筒状则没有流体停滞的地方,流体可顺利地进行循环。
并且本发明中,作为所述流体理想地应使用安息角为50度以下的流体。
这是因为,安息角超过50度的场合,则该流体难以流动,难以使其在浸渍容器和溢流体流入容器之间进行循环。又理想地流体安息角的上限应为30度。
进一步本发明中,理想地应构成为,使至少所述浸渍容器进行微振动。
这样使浸渍容器进行微振动,就能使粉状体等(流体)从溢流缘的溢出更为顺利地进行。另外能将浸渍容器内粉状体等的高度高精度地设定为溢流缘的高度,从而不必考虑粉状体等的上涌情况设定被处理物的插入程度。
作为上述浸渍容器的微振动,理想地振幅应为0.2~2.0mm,振动频率为2~33次/秒,更理想的振幅应为0.8mm以上、1.2mm以下,更理想的振动频率为17次/秒以上,25次/秒以下。
并且本发明中,理想地应在所述浸渍容器内设置从所述浸渍容器下方向所述溢流缘搬运所述流体的螺杆。
通过这样设置螺杆,能够良好地将所述流体向上推起使其进行循环,并且用螺杆构成流体推上机构的做法成本低。
又本发明中,理想地,所述浸渍容器应在筒状体上部设置具有狭窄排出口的狭窄排出部件,以所述排出口为流体涂布部,能够在所述被处理物表面的任意选择面上进行涂布。
由于利用上述日本专利公开特开2000-212719号公报所公开涂布装置的掩蔽方法是在一定高度的粉状体上表面插入被处理物的手法,因此尽管适用于对如棒状被处理零件51的前端(掩蔽部位51a[图32的(b)])的突出部分全体进行掩蔽的场合,却不能利用于例如要想单单对棒状被处理零件的中央部分进行掩蔽处理的场合[图30的(a)显示在中央部分进行掩蔽处理后的棒状被处理金属零件52的立体图]、及要想对平板状的被处理零件局部地进行掩蔽处理的场合[图30的(b)显示在平面的中央局部地进行掩蔽处理后的板状被处理金属零件53的立体图]等。即如图30所示,如果在同一平面上(同一高度)夹着两个掩蔽部位52a、53a存在两处以上的非掩蔽部位52b、53b,则不能利用将被处理物插入粉状体内的涂布方法,其结果不得不采取历来的用毛刷涂布方式进行掩蔽的方法。
这一点如上述的设有狭窄排出口的涂布装置,由上述流体循环系统在浸渍容器和溢流体流入容器之间循环的流体,流体始终处于从浸渍容器上部的狭窄排出口溢出的状态,从该狭窄排出口溢出的流体上表面所占的范围较小,只比上述狭窄排出口稍大(较狭窄排出口大出溢出部分),且为一定。从而如果使被处理物向该溢出的流体上表面接近,则能够单单对与流体接触的部分、即上述溢出流体范围部分进行掩蔽。这样对被处理物没有突出的部分也能进行局部地掩蔽,并且通过将上述狭窄排出口的大小及形状等做成适合于被处理物的涂布形状,能够指定种种形状及大小的掩蔽部位。
又作为上述狭窄排出口的大小及形状等,也没有必要做成与被处理物的掩蔽部位相同,例如也可做成对应被处理物掩蔽部位形状宽度的细长孔,在该狭窄排出口上使被处理零件平行移动、转动等对掩蔽部位全体进行涂布。
进一步本发明中,理想地,在上方具有狭窄排出口的所述狭窄排出部件应装脱自如地连接于所述筒状体上部。
通过准备狭窄排出口大小及形状等不同的多个狭窄排出部件、并适当地交换这些狭窄排出部件,则能够以一个涂布装置对应种种的掩蔽形状。
又本发明中,理想地,具有所述狭窄排出口的所述狭窄排出部件应设为不与所述筒状体连接。
换言之,所述浸渍容器中作为溢流缘至少具有筒状体上缘(以下有时称为第1溢流缘)和狭窄排出口(以下有时称为第2溢流缘)的两处,理想地该第2溢流缘在设置于所述浸渍容器内部的狭窄排出部件(例如流体上升引导体)上部形成,应处于较所述第1溢流缘较高的位置。
对于粉状体及泥状体等的流体,如果施加使其上升的力,则与液体不同,该流体的各个粒子不在横向移动而直接上升。从而即使如上所述第1、第2溢流缘具有高度差,也将发生从两个溢流缘都有流体溢出的情形。
本发明中由上述流体循环系统在浸渍容器和溢流体流入容器之间使流体循环,从上述第1、第2溢流缘始终有流体溢出。从该第2溢流缘溢出的流体上表面所占的范围是较第2溢流缘稍大范围(较第2溢流缘大出溢出部分)程度的较小范围,且为一定。从而如果与前述同样使被处理物向该溢出的流体上表面接近,则能够单单对与流体接触的部分,即上述溢出流体范围部分进行掩蔽。这样对被处理物不突出的部位也能进行局部掩蔽,并且通过将上述第2溢流缘的大小及形状等做成适合于被处理物的涂布形状,能够指定种种形状及大小的掩蔽部位。
作为上述流体上升引导体例如可以是筒状体,进一步,理想地上述流体上升引导体应该是笔直沿前述流体上升方向的形状。若为笔直形状,则与上述向上方排出口收拢的场合不同,因为在横向不受力,所以几乎不用担心粉状体等会结块。
又本发明中作为上述第2溢流缘的大小及形状等,也没有必要做成与被处理物的掩蔽部位形状相同,例如也可做成较被处理物掩蔽部位形状稍小,在该第2溢流缘上使被处理零件平行移动、转动等对掩蔽部位全体进行涂布。
还有所述流体上升引导体,理想地应做成装脱自如的构成。
通过准备流体溢流缘大小及形状等不同的多个流体上升引导体、并适当地交换这些流体上升引导体,则能够以一个涂布装置对应种种的掩蔽形状。
又本发明中,理想地所述狭窄排出部件应由所述溢流体流入容器保持。
并且本发明中,理想地所述狭窄排出口应在所述狭窄排出部件的上端形成。这种情况由于进行涂布的流体向上方突出、溢出,对被处理物的涂布操作变得容易。
又本发明中,理想地所述狭窄排出口应由在所述狭窄排出部件侧面设置开口而形成。使被处理物接触从该开口溢出的流体进行涂布。
或者本发明中,理想地,所述狭窄排出部件在其侧面有开口,有槽部件连接于该开口,以该槽部件的上方开放部为狭窄排出口。流体从上述开口流出到达上述槽部件,再从该槽部件的上缘溢出。涂布时,使被处理物接触从上述槽部件上溢出的流体的上表面。
关于该槽部件上溢出流体上表面所占的范围,其宽度比槽部件的宽度稍大(大出溢出部分),其长度由槽部件的长度、槽的倾斜角度及深度等决定,这样可以任意设定槽部件的大小,以使其适合于被处理零件的涂布区域。
并且本发明中,理想地,所述狭窄排出口为多个。
被处理物存在多个各自分开的掩蔽部位的场合,如果使用如上所述的具有多个狭窄排出口的涂布装置,则能同时进行多处的掩蔽。
又作为具有多个第2溢流缘的涂布装置,可能是在一个流体上升引导体上设置两个以上第2溢流缘的情况,也可能是在两个以上流体上升引导体上设置一个或两个以上第2溢流缘的情况。
进一步本发明中,理想地,所述多个狭窄排出口形成于不同的高度。
在被处理物的凹凸不平处存在掩蔽部位的场合,如果使用具有对应于该掩蔽部位高度的不同高度狭窄排出口的涂布装置,则能够一次性地进行涂布。
又本发明的涂布装置理想地还应具有将上升至所述浸渍容器内的所述流体的一部分进一步提扬、使其向被处理物的外表面侧所定部表面移动的移动装置,该移动装置具有所定厚度的能转动的圆板体,该圆板体的转动轴配置在与收容于浸渍容器内的流体上表面平行或大致平行的方向上,该圆板体的一部分埋入所述浸渍容器内上部的流体内。
使渗碳·渗氮防止用粉状体附着在筒状被处理零件的端部近旁外侧的场合,上述以往的插入方式及流动床方式等中,因为是将被处理零件的端部向粉状体插入的方式,存在筒内侧与筒外侧一起粘上粉状体的问题。又同样地,不欲使粉状体附着在圆柱状被处理零件端面上的场合,上述插入方式及流动床方式等中,也会发生圆柱端面粘上粉状体的情况。
这一点,如果用上述撒洒方式从筒(或圆柱)的侧方撒洒粉状体,则粉状体几乎不会进入筒内侧(或粉状体几乎不会到达圆柱端面),从而能够使粉状体仅附着于外侧。但是由于撒洒方式如前所述使槽及板材等发生振动而将其上的粉状体振落,因此粉状体的飞散范围广,连被处理零件的不欲掩蔽的部分也粘上粉体。
然而本发明中,通过转动上述圆板体(例如齿轮),浸渍容器内的粉状体等被上述圆板体的周面(侧面)捕捉提升,被抛向与该提升相反的一侧等而移动至被处理物的表面,如此粉状体被涂布。
而且本发明中如后所述,与作为收容粉状体等的容器使用单单上端开放的容器的场合不同,能良好地在被处理物上涂布粉状体。
即,作为容器使用单单上端开放的容器的场合,随着时间的经过粉状体收缩,在这个地方那个地方结块,或者在容器内产生粉状体不存在的空洞,由此由圆板体所飞扬的粉状体量及飞扬宽度等发生变动,从而存在这样的问题即在被处理物上产生粉状体过厚地或过薄地,或者是过大地或过小地附着的地方,即粉状体的附着产生斑点。又存在这样的问题,即容器内单单上述圆板体提扬粉状体的地方渐渐产生凹陷,因此提升的量减少即飞扬的粉状体的量减少,直至对被处理零件的涂布不能进行的地步。
然而本发明中,因为在所述流体循环系统作用下浸渍容器内的粉状体等始终处于流动的状态,所以该粉状体等不会固化(结块),也不会产生空洞,而始终以一定量的流动状态存在于上述圆板体的埋入部分,从而能够使粉状体等稳定地附着在被处理物上。
在上述圆板体的旋转作用下的粉状体的移动量,可以根据圆板体周面的状态(形状、平滑性等)及圆板体的旋转速度能够变更,可以根据对被处理零件涂布的量进行适宜的设定。又这样由圆板体的旋转将粉状体等飞扬而使粉状体附着在被处理零件上的方式,与上述撒洒方式相比在粉状体宽度方向上的散开程度小,基本上能以所定宽度进行粉状体涂布。对被处理零件的涂布宽度的变更,可以通过变更上述圆板体周围厚度(宽度)来实现,又也可以用薄的圆板体来飞扬窄的粉状体、并移动被处理零件来进行涂布。又作为本发明的上述移动手段,除了通过由圆板体周面捕捉粉状体(提扬)将其飞扬来对被处理零件进行粉状体涂布的构成以外,还有使被处理零件表面接近圆板体周面、使该圆板体周面捕捉的粉状体移动至被处理零件表面的构成等。
又因为在上述流体循环系统作用下浸渍容器内的粉状体等始终在上升,即使用上述圆板体将浸渍容器上方的粉状体等提扬(提起),马上又有粉状体等供给于该被提扬的部分,不易产生凹陷。再有由于上升的粉状体始终从溢流缘溢出,因此粉状体等的上表面能保持为一定的高度,从而能将上述圆板体埋入至一定的深度而将圆板体的提扬量保持为一定。
还有,理想地涂布装置应构成为使所述浸渍容器发生微振动,如上所述在流体循环系统作用下能防止粉状体的凹陷,进一步通过使所述浸渍容器发生微振动,能将粉状体上表面做成更为均匀的平面使凹陷极难产生。
又如果仅仅只是使浸渍容器发生微振动,则助长粉状体等收拢结块的倾向,但因为如上所述在循环系统的作用下粉状体一直被搅拌,收拢结块的现象得到防止。
并且本发明中,所述圆板体以齿轮为佳。这样在上述齿轮的齿部分(周面)作用下粉状体被提扬移动(飞扬)。又作为本发明中的所述圆板体并不限定于上述齿轮,也可以是没有周面的未经加工状的圆板。
进一步本发明中,理想地,沿所述圆板体的两面(两圆板面)或一面应设有流体移动引导板。
由圆板体的旋转将粉状体等提上飞扬的场合,粉状体在比圆板体周围厚度大若干的宽度上飞散,又被处理零件上涂布有粉状体的部分和没有涂布粉状体的部分的分界线容易变成稍稍不明瞭的状态。然而通过如上所述设置引导板,则能阻止向宽度方向飞散的粉状体,而以所定的涂布宽度将粉状体飞扬。
又上述引导板除了与上述圆板体的圆板面平行地配置的场合以外,也可配置成下部稍稍变窄的样子。
又本发明的涂布装置在具有开口部的被处理物外侧涂布所述流体,理想地,该涂布装置具有开口部封止装置,该开口部封止装置在所述浸渍容器上方配备封闭被处理物开口部的封止部件,所述封止部件随着所述被处理物被插入所述流体而被所述开口部按压、沉降至所述流体内。即理想地当所述被处理物被插入到所述浸渍容器内的流体中时,所述封止部件应按压所述开口部以封闭之。
该发明也适用于例如对如筒状被处理零件似的具有开口部(穴、孔)的被处理零件、在防止粉状体对该开口内侧的附着的状态下在外侧涂布粉状体的场合等。
进行掩蔽处理操作时,将上述被处理物插入上述浸渍容器内的流体(插进)进行流体(粉状体等)的涂布,此时具有开口的被处理物的场合上述封止部件抵接其开口部封闭开口,进一步随着被处理物的插入动作上述封止部件被按压向所述开口部而该抵接状态被保持。从而上述流体不会进入被处理物的开口内,而外侧面被涂布流体。
还有撒洒方式的场合,一个个粉状体即便与被处理零件接触但还没等熔融结合就落下的现象多有发生,即一个个的粉状体与被处理物接触的时间不充分,即使撒洒多量的粉状体其熔融结合的量也少,从而为了使粉状体充分地熔融结合在被处理物上,有必要将被处理物长时间地暴露于撒洒的粉状体中,因而屡屡发生掩蔽操作需要花费时间的问题,上述本发明中,因为能够将被处理物插入流体内保持一定时间,所以能够使一个个粉状体等(流体)以充分的时间接触并熔融结合在被处理物外表面上。从而不会如同上述撒洒方式发生掩蔽操作需要花费长时间的现象。
又因为在上述流体循环系统作用下流体(粉状体)在上述浸渍容器(上升区域部)和上述溢流体流入容器(下降区域部)之间循环,始终处于流动状态(不是使一个个粉状体几乎与被处理物没有接触、熔融结合时间程度的激烈的流动,而是对于接触、熔融结合充分缓慢的流动),即使上述封止部件被插入至浸渍容器的流体中,由该插入所产生的凹陷马上被填埋,几乎不会发生对被处理物的流体的涂布带来影响的情况。并且由于在上述流体循环系统作用下上述流体始终从溢流缘溢出,因此上述流体的上表面始终保持为一定,能够在所定位置明瞭地区分掩蔽部位与非掩蔽部位的分界线。
又作为封止部件可以选择适合上述被处理物开口部形状、大小的部件。例如被处理物是圆筒状的场合,如果作为封止部件使用球形的封止部件,则能够在对该圆筒状被处理物的筒内侧面不涂布粉状体的状态下在一端近旁的外侧面及该端的端面上涂布流体。
或者本发明中,所述涂布装置理想地应具有被覆装置,该被覆装置在所述浸渍容器上方配备有被覆所述被处理物的至少一部分的被覆部件,所述被覆部件随着所述被处理物被插入所述流体而被所述被处理物的端面按压而沉降至所述流体内。即理想地当所述被处理物被插入到所述浸渍容器内的流体中时,所述被覆部件应按压、被覆所述被处理物插入至所述流体中部分的至少一部分。又作为上述被处理零件可以是圆柱状的及角柱状的等、或者是U字状的及J字状的等种种的形状。
本发明也适合于此种场合等,即对于具有开口部(穴、孔)的被处理零件,在防止粉状体附着在开口内侧的状态下在外侧面上涂布粉状体。
与具有上述封止部件的场合同样,适用上述被覆部件的场合,也是将上述被覆部件抵接被处理物的至少一部分(例如棒状被处理零件的一端端面)被覆该部分(例如上述一端端面),进一步随着被处理物的插入动作上述被覆部件按压所述被覆部分(上述一端端面)而该抵接状态被保持。从而被处理物的上述被覆部分(上述一端端面)不会暴露于上述流体中,而仅仅对其他插入部分涂布流体。
又与上述同样,因为能够将被处理物插入流体内保持一定时间,所以能够使一个个粉状体等(流体)接触充分的时间并熔融结合在被处理物外表面上。从而不会发生掩蔽操作需要花费长时间的现象。
还有与上述同样,因为在上述流体循环系统作用下流体在上述浸渍容器和上述溢流体流入容器之间循环,始终处于流动状态,由上述被覆部件插入所产生的凹陷马上被填埋,几乎不会发生对被处理物的流体的涂布带来影响的情况。并且由于在上述流体循环系统作用下上述流体始终从溢流缘溢出,因此上述流体的上表面始终保持为一定,能够在所定位置明瞭地区分掩蔽部位与非掩蔽部位的分界线。
又作为上述被覆部件可以选择适合上述被处理物非掩蔽部位形状及大小等的部件。例如被处理物是棒状的场合,作为被覆部件可以是被覆棒状被处理零件一端端面的一部分的,或者是被覆棒状被处理零件一端端面全部的,进一步不仅是单单被覆棒状被处理零件一端端面的一部分的,也可是被覆从该一端端面起连续的周面的一部分的部件。又被处理物是U字状的棒状零件、将该U字的弯曲部分插入流体的场合,可以是被覆该弯曲部分的外周侧形状的被覆部件。
并且本发明中,理想地所述开口部封止装置或所述被覆装置应在较所述浸渍容器内的流体更上方在与该流体上表面大致平行地延伸设置的棒状体的前端或者端部近旁具有所述封止部件或所述被覆部件。
作为该棒状体,可以是棒状弹性体或没有弹性的棒状部件等。上述棒状弹性体的场合可以是将其一端固定于固定部、将另一端(或另一端近旁)做成安装有上述封止部件(或上述被覆部件)的构成的开口部封止装置(或被覆装置)。又上述没有弹性的棒状部件的场合,在该棒状部件的尾部安装有锤,所述封止装置或所述被覆装置可以构成为由支持部在锤的与尾部相反的一侧支持,以该支持点为支点由上述锤作用将棒状部件的前端侧(安装封止部件或被覆部件的一侧)提起。
如上所述通过使上述被处理物沿插入方向前进、使上述封止部件抵接该开口部而使上述开口部被盖住(或是被处理物的一部分被被覆部件被覆),进一步将被处理物插入上述流体内并在被处理物的外侧面涂布流体。此时随着被处理物被插入,与上述封止部件(或被覆部件)一起,上述棒状体的前端侧(安装上述封止部件或被覆部件的一侧)插入流体内(此时例如上述棒状弹性体弯曲变形、或者上述棒状部件尾部的锤被向上推起),在上述开口部被上述封止部件所关闭的状态下(或者是被处理物的一部分被被覆的状态下)被处理物被推至流体深部。
作为所述封止装置及被覆装置等使用如同如后所述的在浸渍容器内竖立设置的弹性体部件的场合,根据该弹性体部件的构造及配置等有时可能发生妨碍浸渍容器内流体上升的情形,但使用“在流体上方延伸设置的棒状体”的场合,由于在被处理物没有插入流体的状态时,上述棒状体及封止部件(或被覆部件)等对浸渍容器内的流体完全没有影响,所以完全不用担心流体中会产生结块。
又本发明中,理想地,所述开口部封止装置或所述被覆装置应在竖立设置于所述浸渍容器内的弹性体部件的前端安装有所述封止部件或被覆部件。
上述封止部件与被处理物的开口部抵接以关闭该开口(或者是上述被覆部件与被处理物的一部分抵接被覆该部分),进一步随着被处理物插入而上述弹性体部件逐渐收缩,上述被处理物插入流体内时,在该被处理物的外侧面涂布流体。
将被处理物深深地插入上述浸渍容器内(上升区域部)的流体中的场合,对向正下方插入的被处理物,如果是大致与上述流体上表面平行地延伸设置的棒状体,则由于连接于上述棒状体的封止部件(或被覆部件)沿一个圆弧状的轨迹插入,因此可能会在被处理物开口部封止处(或被处理物被覆处)产生空隙,而如果是上述竖立设置的弹性体,则因为上述封止部件(或被覆部件)朝与被处理物的插入方向相同的方向沉降,所以不用担心会产生空隙。
又即便是上述大致与上述流体上表面平行地延伸设置的棒状体的场合,只要是不是很深地插入的情形,则不用担心会产生如上所述的空隙。
进一步本发明中,理想地所述开口部封止装置或所述被覆装置应具有两个以上所述封止部件或被覆部件。
作为其形态,可以是(1)具有多个单元、该单元中对一个棒状体或弹性体部件有一个封止部件(或被覆部件)与之连接、的涂布装置;(2)具有一个单元、该单元中对一个棒状体或弹性体部件有两个以上封止部件(或被覆部件)与之连接、的涂布装置;(3)具有多个单元、该单元中对一个棒状体或弹性体部件有两个以上封止部件(或被覆部件)与之连接、的涂布装置。又以下,有时将由上述棒状体(或弹性体部件)和封止部件(或被覆部件)构成的一组称为开口封止单元。
上述(1)、(3)形态的涂布装置中,可以同时使用各开口封止单元进行掩蔽操作,但也可顺序使用各开口封止单元进行掩蔽操作,对于没有使用的上述开口封止单元,进行清扫(除去)操作将附着的粉状体等清扫(除去),如此则为高效率。
又这样如果具有两个以上封止部件(或被覆部件),则通过同时使用该两个以上封止部件(或被覆部件)能够一次性对两个以上被处理物同时进行掩蔽。
又本发明中,也可以是对一个封止部件(或被覆部件)连接有两个以上棒状体或弹性体部件的涂布装置。


图1是示出本发明实施形态1涂布装置的剖视图(显示棒状被处理物插入收容于涂布装置的粉状体内的情形)。
图2是显示本发明实施形态2涂布装置的立体图。
图3是图2所示涂布装置的分解立体图。
图4是用于说明图2所示涂布装置的使用状态的概略剖视图。
图5是显示使用图2所示涂布装置局部地涂布粉状体的一例情形的立体图。
图6是显示使用图2所示涂布装置局部地涂布粉状体的另一例情形的立体图。
图7是显示使用图2所示涂布装置局部地涂布粉状体的又一例情形的立体图。
图8是示出本发明实施形态3涂布装置的溢流部件和被处理金属零件的图。
图9是用于说明使用实施形态3涂布装置的另一涂布例的截面图。
图10是显示使用实施形态3涂布装置的又一例涂布例的图。
图11是用于说明对图10所示被处理金属零件的掩蔽部位进一步进行加热的情况的截面图。
图12显示本发明实施形态4涂布装置的溢流部件截面和棒状被处理金属零件的侧面。
图13是显示使用实施形态4涂布装置的另一涂布例的立体图。
图14显示本发明实施形态5涂布装置的溢流部件截面和棒状被处理金属零件的侧面。
图15是用于说明本发明实施形态6涂布装置的使用状态的概略剖视图。
图16是表示使用实施形态6涂布装置对棒状被处理金属零件进行局部涂布情形的立体图。
图17是用于说明本发明实施形态7涂布装置的使用状态的局部立体图。
图18是用于说明本发明实施形态8涂布装置的使用状态的局部立体图。
图19是显示本发明实施形态9涂布装置的立体图。
图20是本发明实施形态9涂布装置的纵剖视图。
图21是用于说明使用本发明实施形态9涂布装置的掩蔽方法的立体图。
图22是显示本发明实施形态10涂布装置的局部及被处理金属零件的立体图。
图23是显示本发明实施形态11的涂布装置及被处理金属零件的立体图。
图24是用于说明使用实施形态11涂布装置的掩蔽操作的剖视图。
图25是显示圆筒状被处理零件的掩蔽状态的立体图。
图26是显示本发明实施形态12的涂布装置及圆筒状被处理零件的剖视图。
图27是显示本发明实施形态13的涂布装置及圆筒状被处理零件的剖视图。
图28是显示本发明实施形态14涂布装置的俯视图。
图29是显示本发明实施形态15涂布装置及圆筒状被处理零件的剖视图。
图30(a)是显示在中央部分进行了掩蔽处理的棒状被处理零件52的立体图,(b)是显示在平面中央部分进行了局部掩蔽处理的板状被处理零件的立体图。
图31是显示以往涂布装置的立体图。
图32(a)是用于说明图30所示涂布装置的使用方法的概略剖视图,(b)是涂布粉状体后被处理金属零件的立体图。
具体实施例方式
<实施例1>
图1是显示本发明实施例1的涂布装置100的剖视图,显示将棒状被处理物101插入该涂布装置100所收容的粉状体(流体)内的情形。
涂布装置100具有圆筒形的外容器(溢流体溢入容器)111和装入该外容器111内部的圆筒形的内容器(浸渍容器)112,这些外容器111的上端及内容器112的上端是开放的,且内容器112上端较外容器111上端的高度为低。该内容器112的上端周长全部形成溢流缘112a。
内容器112的内径Q为200mm、深度T为100mm,这样深度对内径之比为1/2。
又上述外容器111和上述内容器112之间形成有间隙114,该间隙114中设有倾斜引导体(未图示)。又上述内容器112底部近旁的侧壁上,在夹着内容器112中心轴的相对位置上形成有两个连通孔16。上述倾斜引导体设有四个,以较上述溢流缘112a稍下侧的位置为起点,使流体朝上述连通孔16下降。
又在横跨上述两个连通孔16的转动轴18上,设有螺杆17R、17L(向上推起机构),使其分别贯穿连通孔16内。该螺杆17R为右螺旋,17L为左螺旋,当由外部电动机使转动轴18向左旋转时,螺杆17R、17L两方均向内容器112中心轴方向发挥搬运力。
内容器112及外容器111的底部,设置有微振动装置125,通过启动该微振动装置125则内容器112及外容器111发生振动。
接着对用上述实施例1的涂布装置使粉状体掩蔽剂接触被处理金属零件(被处理物)101的方法进行说明。又上述掩蔽剂(粉状体)的安息角为大约39~44度。
收容在内容器112中的粉状体,在螺杆17R、17L的转动作用下如箭头C所示被向上推起,然后从溢流缘112a溢出,到达间隙114(箭头J)。接着沿着倾斜引导体下滑降落(箭头E),到达连通孔16。然后再由螺杆17R、17L的旋转作用粉状体从间歇14被搬运至内容器112内(箭头F),在内容器112内被推向上方。接着如上所述被向上推(箭头C),再从溢流缘112a溢出。又作为上述螺杆17R、17L(直径20mm)的转速以8~16转/分为佳,以9~12转/分为更佳,但也可根据螺杆的直径适宜改变转速。
这样从内容器112溢出的粉状体被其与外容器111之间的间隙114回收,从连通孔16再回到内容器112内,如此循环往复。
由于上述内容器112的内径Q∶深度T=2∶1,因此上述内容器112内的粉状体在其上方保持为柔软,又粉状体上表面不起波浪而为一定。又因为如上所述粉状体由循环受到搅拌作用,所以能保持均匀性。
又此时通过启动上述微振动装置125、使内容器112以振幅约1.0mm、频率2次/分振动,使粉状体非常顺利地进行循环,并且将粉状体上表面精确地保持为溢流缘112a的一定的高度。
然后向上述内容器112内的粉状体插入被处理金属零件101的掩蔽部位,使粉状体接触该掩蔽部位。该掩蔽部位事先被加热,由于上述接触粉状体被熔融结合。
如上所述使用实施例1的涂布装置100的场合,上述粉状体上表面精确地保持为溢流缘112a的一定的高度,且粉状体处于柔软状态。从而被处理金属零件101(被处理物)的插入没有障碍且能对一定位置进行精确的掩蔽。
<实施例2>
图2是显示本发明实施例2涂布装置210的立体图,图3是该涂布装置210的分解立体图,又图4是用于说明该涂布装置210的使用状态的概略剖视图。
涂布装置210具有圆筒形外容器(溢流体溢入容器)211和装入该外容器211内部的圆筒形内容器(浸渍容器)212,该内容器212内为上升区域部213,内容器212外壁和外容器211内壁所夹的间隙为下降区域部214。上述外容器211固定在振动盘225上,又内容器212通过固定销224安装在外容器211上。还设置有防尘罩226,使其覆盖外容器211上方的周缘部分。
上述内容器212由内容器本体(筒状体)222、和装脱自如地设置在该内容器本体222上的溢流部件(狭窄排出部件)223构成。该溢流部件223突出为从内容器本体222隆起的样子,且越向上方越小、在其顶部形成缩小的排出口(狭窄排出口)227。又该排出口227的外缘的宽度较被处理物的涂布尺寸小若干。
又从排出口227至内容器本体222底部的深度T为内容器本体222的内径(内侧直径)Q的大约一半的深度。
内容器本体212下部(底部近旁)的侧壁上,在夹着内容器212中心轴的相对位置上形成有两个连通孔16。又内容器本体212的外壁设有倾斜引导体15,从起点S向上述连通孔16下降。
上述连通孔16内,在横跨两者的转动轴18上,设有螺杆217R、217L,使其分别贯通连通孔16内。该螺杆217R为右螺旋,螺杆217L为左螺旋,当由外部电动机使转动轴18向左旋转时,螺杆217R、217L两方均向内容器212中心轴方向发挥搬运力。
又内容器212中央设有纵向螺杆229。该纵向螺杆229的下端介以齿轮(未图示)连接在上述转动轴218上,由该转动轴218的转动纵向螺杆229随之转动。由该纵向螺杆229的转动作用产生向排出口227的搬运力。
接下来关于用上述实施例2的涂布装置将粉体状掩蔽剂对被处理金属零件(被处理物)进行涂布的方法进行说明。又图5显示对被处理金属零件252局部涂布粉状体228的情形,是上述涂布装置210的上述溢流部件223局部和被处理金属零件252的立体图。
如图4所示,下降区域部214的粉状体,在螺杆217R、217L的旋转作用下从连通孔16被搬运至上升区域部213(内容器212内)(箭头F),又通过不断从连通孔16内供给粉状体228,上升区域部213内的粉状体228被推向上侧(箭头C),再在纵向螺杆229的转动作用下向上的推力得到加强(箭头C),粉状体228从排出口227溢出(箭头D)。该溢出的粉状体228到达下降区域部214,沿着倾斜引导体15下滑降落而被导向连通孔16(箭头E)。然后再返送至上升区域部213(箭头F),在该上升区域部213内上升(箭头C),从排出口227溢出(箭头D)。这样从上升区域部213溢出的粉状体228被下降区域部214回收,从连通孔16再回到上升区域部213内,如此循环往复(流体循环系统)。
如上所述粉状体228由于保持循环,因而始终从排出口227溢出从而存在于排出口227上,而且不会发生如上述流动床方式场合中的飞散现象,以溢出的一定形状存在。而且该排出口227上的粉状体228上表面所占的范围较小,只比上述排出口227的外缘尺寸稍大,且以突出的状态存在,通过将被处理金属零件(被处理物)252对从该上述排出口227溢出的流体228接近、接触,能够局部地且使掩蔽部位与非掩蔽部位的分界线明瞭地涂布(掩蔽)粉状体(图5)。又进行掩蔽时,可预先将掩蔽部位252a加热,与粉状体228接触时粉状体228熔融结合。
作为上述排出口227的外缘尺寸可以做成较被处理金属零件252的涂布尺寸小若干,使溢出的粉状体所占范围正好与被处理金属零件的涂布尺寸相同。图5所示例中作为排出口227的短边宽度W0采用较被处理金属零件252的涂布宽度W1小若干的溢流部件223,使溢出粉状体228的宽度WA正好为W1。又本例中将棒状被处理金属零件252以其轴为中心转动(箭头A),在棒周围涂布粉状体228。
又在使粉状体228循环进行掩蔽操作时,如果驱动振动盘225使上升区域部213发生微振动,则粉状体228从排出口227的溢出能更为顺利地进行。又同样如果使下降区域部214发生微振动,则倾斜引导体15上的粉状体的下降也能更为顺利地进行。
图6显示在棒状被处理金属零件252的中央部以较大宽度涂布粉状体的情形,是上述涂布装置210的上述溢流部件223局部和被处理金属零件252的立体图。
被处理金属零件252的涂布宽度W2比溢出的粉状体228的宽度WA更大,但是通过将被处理金属零件252在其轴方向(箭头B方向)移动,就能够对涂布宽度W2全体涂布粉状体228。
图7用于对板状被处理金属零件253的平面中央进行局部涂布的方法进行说明,是显示上述涂布装置210的上述溢流部件223局部和被处理金属零件253的立体图。
通过一边使板状被处理金属零件253的掩蔽部位253a接触从排出口227溢出的粉状体228、一边使板状被处理金属零件253向箭头B方向移动,能够以较排出口227的长边宽度WE大若干的溢出粉状体宽度WB的宽度,对被处理金属零件253的平面中央进行掩蔽。
又实施例2中,由于粉状体228随着上升被压缩而从上述狭窄排出口227溢出,在上升期间对粉状体228施加有横向的力,容易使粉状体228起块,从而对从狭窄排出口227的溢流带来影响,但本实施例2中因为设有从上升区域部213下方向狭窄排出口227搬运粉状体(流体)228的螺杆229,从而能够顺利地将粉状体228向排出口227引导。
以上由实施例2的涂布装置,由于流体(粉状体等)存在于所定小范围内且突出,因此只要使被处理物接触其突出流体部分,就能单单对该部分进行掩蔽,从而即使被处理物的掩蔽部位是不突出部位,也能够在明瞭地区分掩蔽部位与非掩蔽部位的状态下进行局部掩蔽。
<实施例3>
接下来关于本发明实施例3的涂布装置和使用该实施例3的装置的局部涂布例进行说明。图8是显示该局部涂布例的图,(a)是显示实施例3涂布装置的溢流部件233局部和被处理金属零件254的立体图,(b)显示该溢流部件233的截面和被处理金属零件254的侧面。
上述实施例2的溢流部件223的外观为向排出口227渐渐收拢的形状,而本实施例3的溢流部件是在向上方呈锥状收拢的下方部235的上表面形成笔直竖立的上方部234而形成,排出口227设置在该上方部234的顶部。从该排出口227溢出的粉状体228(箭头D),沿溢流部件233上方部234的外壁面下降(箭头G)。又可以将上述实施例2涂布装置210的溢流部件223与本实施例3的溢流部件233交换使用。
上述被处理金属零件254是直径较小的圆柱256突出在粗圆柱255的一个端面257上的形状,使用上述溢流部件233,就能同时使被处理金属零件254的小直径圆柱256的侧面和上述端面257接近上述排出口227上和上方部234的外壁面,由此使其接触溢出的粉状体228对该部分同时进行掩蔽。
图9是用于说明利用本实施例3涂布装置的另一涂布例的截面图,显示在具有凹陷的被处理金属零件258的凹陷内涂布粉状体228的情形。
只要将上述溢流部件233的上方部234插入上述被处理金属零件258的凹陷内(图9中以双点划线表示),就能在凹陷内底部258b和凹陷内侧壁258s上涂布粉状体228。
此外图10是显示又一涂布例的图,(a)是涂布后的齿轮状被处理金属零件261的立体图,(b)是其H-H线截面图。
通过使被处理金属零件261的中空内壁261s对上述溢流部件233的上方部234的外壁面接近、接触粉状体228,能够掩蔽上述中空内壁261s;又通过使被处理金属零件261的中空近旁261n接近上述溢流部件的排出口227、接触粉状体228,能够掩蔽上述中空近旁261n。又图中,261b为非掩蔽部位,如图所示齿轮部分没有被粉状体228所掩蔽。
<实施例4>
图12显示本发明实施例4涂布装置的溢流部件243的截面和棒状被处理金属零件259的侧面。又与上述同样可以将上述实施例2涂布装置210的溢流部件223与本实施例4的溢流部件243交换使用。
本实施例4的溢流部件243具有两个隆起部244、245,该隆起部244、245上分别设有狭窄排出口247、248。
棒状被处理金属零件259的掩蔽部位259a具有互相隔开的两处,通过使上述掩蔽部位259a定位于上述溢流部件243的狭窄排出口247、248、一边使被处理金属零件259转动(箭头A)一边使其接触粉状体228,就能对具有一定间隔的两处同时涂布粉状体228。
图13是用于说明使用上述实施例4涂布装置的另一涂布例的立体图,显示在板状被处理金属零件264开有两处孔的内壁265、266上涂布粉状体的情形。使上述溢流部件243的狭窄排出口247、248分别接近被处理金属零件264的两处孔,在孔内壁265、266上涂布粉状体228。
<实施例5>
图14显示本发明实施例5涂布装置的溢流部件273的截面和棒状被处理金属零件267的侧面。
本实施例5的溢流部件273具有高度不同的两处隆起部274、275,该隆起部274、275上分别设有狭窄排出口276、277。即狭窄排出口276的溢流缘的高度与狭窄排出口277的溢流缘的高度不同,为不同高度。
被处理金属零件267是较细的圆柱269突出在粗圆柱268的一个端面上的形状,掩蔽部位267a分别位于粗圆柱268和细圆柱269并具有一定间隔,通过使上述掩蔽部位267a接近上述溢流部件273的排出口276、277、接触粉状体228,能够对高度不同的两处同时进行掩蔽。
<实施例6)图15是用于说明本发明实施例6涂布装置280的使用状态的概略剖视图,图16是表示用该涂布装置280对棒状被处理金属零件252进行局部涂布情形的立体图。又关于与图2~6相同构成的部分,本说明书赋予同一符号以避免重复说明。
实施例6的内容器(筒状体)212为上下一般粗的筒状,其上部开放其上缘成为第1溢流缘,收容于内部(上升区域部213)的粉状体228在这里溢出。
又该内容器212中央设有内筒(流体上升引导体)281,该内筒281为上下一般粗的筒状,其下端281b埋没在收容于内容器212内的粉状体228中,上端(第2溢流缘)281a位于较内容器上端212a更高的位置。又该内筒上端281a的外缘宽度较被处理物的涂布尺寸小若干。该内筒281通过安装棒282装脱自如地固定在外容器211上。又安装棒282的前端282a夹住外容器211的侧壁而得到固定。
接下来关于利用本实施例6的涂布装置280、在被处理金属零件(被处理物)上涂布粉状体状的掩蔽剂的方法进行说明。
与上述实施例2同样,下降区域部214的粉状体228在螺杆217R、217L的旋转作用下从连通孔16被搬运至上升区域部213(内容器212内)(箭头F),又通过不断从连通孔16内供给粉状体228,上升区域部213内的粉状体228被推向上侧(箭头C)。又本实施例6的涂布装置280中,没有设置纵向螺杆229,如上所述单单由从连通孔16的粉状体228供给力作用产生上升力。
该上升的粉状体228中流向内筒281外的,从内容器上端212a(第1溢流缘)溢出(箭头J);另一方面,流向内筒218内的粉状体228从内筒上端281a(第2溢流缘)溢出(箭头K)。从内容器上端212a溢出的粉状体228到达下降区域部214,又从内筒上端281a溢出的粉状体228落到内容器212内粉状体228的上表面,再从内容器212溢出到达下降区域部214。然后沿着倾斜引导体15下滑降落而被导向连通孔16(箭头E)。之后再返送至上升区域部213(箭头F),在该上升区域部213内上升(箭头C),从内容器上端212a及内筒上端281a溢出(箭头J、K)。这样粉状体228在容器内循环往复(流体循环系统)。
又内容器212和内筒281两者都是上下一般粗的筒状,对上升的粉状体228不会有横向的力作用。从而粉状体228不会起块,而能顺利地从内容器上端212a及内筒上端281a溢出。
本实施例6中由于粉状体228保持循环,因而始终从内筒281溢出而存在于内筒上端281a面上,而且不会发生如上述流动床方式的场合中的飞散现象,而保持溢出的一定形状存在。而且该内筒上端281a上的粉状体228上表面所占的范围较小,只比上述内筒上端281a的外缘尺寸稍大,且以突出的状态存在,通过使被处理金属零件(被处理物)252接近、接触从该上述内筒上端281a溢出的粉状体228(图16中以双点划线表示),能够局部地且使掩蔽部位与非掩蔽部位的分界线明瞭地涂布(掩蔽)粉状体(图16)。
又与上述相同,进行掩蔽时,可预先将被处理金属零件252加热,与粉状体228接触时粉状体228熔融结合。又与上述相同,作为上述内筒上端281a的外缘尺寸可以做成较被处理金属零件252的涂布尺寸小若干,使溢出粉状体所占的范围正好与被处理金属零件252的涂布尺寸相同。并且如果驱动振动盘225使其发生微振动,则粉状体228从内筒上端281a的溢出能更为顺利地进行。
<实施例7>
图17的(a)是局部立体图,用于说明本实施例7的涂布装置290的使用状态,图17的(b)是局部立体图,显示用该涂布装置290对棒状被处理金属零件252进行局部涂布的情形。又关于与图15、16相同构成的部分,本说明书赋予同一符号以避免重复说明。
实施例7的内容器212与上述实施例6同样为上下一般粗的筒状,其上端开放(第1溢流缘),让收容于内部(上升区域部213)的粉状体228溢出。
又内容器212中央设有内筒(流体上升引导体)291,该内筒291为上下一般粗的筒状,其侧面形成有开口291a,该开口291a连接有槽部件292。该槽部件292向水平方向突出,其位置位于内容器上端212a上方。槽部件292a的外缘宽度方向尺寸(WC)较被处理物的涂布尺寸小若干。内筒291的下端(未图示)与上述实施例6同样埋没在收容于内容器212内的粉状体228。内筒291的上端设有附带有孔291c的盖291d。
又实施例7是将上述实施例6的内筒置换,这样对应被处理物可以置换内筒。
接下来关于利用本实施例7的涂布装置290、在被处理金属零件(被处理物)上涂布粉状体状的掩蔽剂的方法进行说明。
与上述实施例6同样,内容器212内的粉状体228始终被推向上侧,该上升的粉状体228中流向内筒291外的,从内容器上端212a(第1溢流缘)溢出(箭头J);另一方面,流向内筒291内的粉状体228从内筒291的开口291a流出筒外到达槽部件292。到达该槽部件292的粉状体228一方面沿槽部件292的长边方向流动,另一方面从槽部件上缘292a溢出(箭头L)。溢出的粉状体228落到内容器212内(上升区域部)或下降区域部214中,落到内容器212内的粉状体228再从内容器上端212a溢出到达下降区域部214。然后如前所述从下降区域部214下方再送回内容器212内(上升区域部),如此循环往复(流体循环系统)。
又,粉状体228不会到达槽部件292的延伸突出端292b,即粉状体228在槽部件292上不能到达离开口291a很远距离的位置,但对被处理金属零件的涂布处理已为充分。
本实施例7中粉状体228也由于保持循环,因而始终从槽部件292上缘292a溢出而存在于槽部件292上,而且不会发生如上述流动床方式的场合中的飞散现象,而保持溢出的一定形状存在。而且该槽部件292上的粉状体228上表面所占的范围较小,只比上述槽部件292的槽宽度WC稍大,且以突出的状态存在,通过使被处理金属零件(被处理物)252相对从该上述槽部件292溢出的粉状体228接近、接触,能够局部地且使掩蔽部位252a与非掩蔽部位252b的分界线明瞭地涂布(掩蔽)粉状体(图17(b))。
并且实施例7的场合,通过作为槽部件使用细的部件,从而能够对非常狭窄的范围进行涂布。
<实施例8)图18是局部立体图,用于说明本实施例8的涂布装置295的使用状态。又关于与图15、16相同构成的部分,本说明书赋予同一符号以避免重复说明。
与上述实施例6、7同样,在上下一般粗的筒状内容器212中央设置有上下一般粗的筒状内筒296。该内筒296的侧面,在较内容器212上端更高的位置形成有矩形的切开部(开口)297,在内筒296内上升而来的粉状体228从该切开部297溢出(箭头M)。然后落到内容器212内的粉状体228上表面,与在内容器212内的内筒296外上升而来的粉状体228一起从内容器上端212a溢出到达下降区域部214。然后从下降区域部214下方再送回内容器212内,如此循环往复。实施例9的内筒296在内容器212内部固定在内容器内壁上。又内筒296的下端(未图示)与上述实施例6同样埋没在收容于内容器212内的粉状体228中。
本实施例8中也由于粉状体228保持循环,因而始终从切开部297溢出而存在于内筒296侧面上,而且不会发生飞散现象,而保持溢出的一定形状存在。而且从该切开部297溢出的粉状体228所占的范围是与切开部宽度WD同等程度的较窄范围,又其位置位于比内容器212内的粉状体228更高的位置且以突出的状态存在,通过将被处理金属零件(被处理物)接近、接触该粉状体228,能够局部地且使掩蔽部位与非掩蔽部位的分界线明瞭地涂布(掩蔽)粉状体。
<实施例9>
图19是显示本发明实施例9的涂布装置310的立体图,图20是该涂布装置310的纵剖视图。又图21是立体图,用于说明使用该涂布装置310的掩蔽方法。
涂布装置310具有圆筒形外容器(溢流体溢入容器)311和装入该外容器311内部的圆筒形内容器(浸渍容器)312,该内容器312内为上升区域部313,内容器312外壁和外容器311内壁所夹的间隙为下降区域部314。上述外容器311固定在振动盘325上,又内容器312安装在外容器311上。内容器312内的深度T为100mm,直径Q为200mm。内容器312的底部近旁设有连通孔16,又贯穿该连通孔16设有螺杆17R、17L。该螺杆17R、17L连接于外部电动机19。
又内容器312上方设有正齿轮315。该正齿轮315配置为,使其转动轴与收容于内容器312内的粉状体370上表面平行,又正齿轮315的约1/2埋入到上述内容器312内的粉状体370内。与正齿轮315的转动轴连接的轴部318连接于电动机329,在该电动机329作用下上述正齿轮315能够转动(箭头N)。上述正齿轮315的外径P为60mm、厚度(齿轮的齿宽)WH为10mm,形成于该正齿轮315的周面315b的齿的齿向为平行于轴的直线,该齿的齿高(齿槽的深度)为2mm,齿的间距为1.6mm。又该正齿轮315的两个圆板面315a是平滑的(例如最好为进行了聚四氟乙烯加工的)。又正齿轮315、轴部318和电动机(驱动部)328构成上述搬运装置。
接下来关于使用上述涂布装置310对圆筒状被处理零件360进行掩蔽的场合的动作进行说明。
在收容容器中收容主粒径为120μm,安息角为40度的粉状体370。
如图20所示,下降区域部314的粉状体在螺杆17R、17L的作用下通过连通孔16进入内容器312内(上升区域部313)(箭头F),通过这样粉状体被插入,内容器312内的粉状体370被推向上侧(箭头C),从溢流缘312a溢出(箭头J),落到下降区域部314(箭头E)。然后粉状体370从连通孔16再进入内容器312内(箭头F),在内容器312内上升(箭头C)。这样粉状体370在上升区域部313和下降区域部314之间循环,始终保持从溢流缘312a溢出,从而使上升区域部313(内容器312内)的粉状体上表面保持为一定。又由该循环上升区域部313的粉状体370缓慢流动如同得到搅拌,由此粉状体370中几乎不结块,也不产生空洞等。进一步振动盘325产生微振动(例如往复2mm的振动)能更一定、均匀地保持粉状体370上表面的高度。
上述正齿轮315在电动机329作用下以260~300rpm的转速转动(箭头N),在该转动作用下正齿轮的周面315b将上升区域部313(内容器312内)上方的粉状体370抄起抛向箭头U方向(图20、图21(a))。如该箭头U飞扬的粉状体370与上述撒洒方式相比在宽度方向不太分散,能以所定的宽度对被处理零件涂布粉状体。还有此时由正齿轮315的抄起作用产生的粉状体370的凹陷,在由上述循环系统作用下的粉状体370的堆起及由振动板325的振动的作用下马上被填埋,所以实际上不产生凹陷,从而始终能以所定量由正齿轮315进行抄起。并且,由于上升区域部313的粉状体370如上所述几乎不产生块及空洞等,因此不会发生正齿轮315抄起块状物等、或碰到空洞而不能抄起粉状体等的现象。这样因为正齿轮315始终能以一定量抄起粉状体,朝箭头U方向扬抛粉状体的量几乎保持为一定。
又因为正齿轮315的圆板面315a是平滑的,不会附着粉状体370,所以不用担心粉状体370由该圆板面315a被扬抛。
将预先加热的圆筒状被处理零件360接近朝该箭头U方向飞扬的粉状体370(使正齿轮315的转动轴与圆筒状被处理零件360的轴平行地接近)、使该圆筒状被处理零件360转动(箭头A1、A2),对其周围涂布粉状体(图21(b))。又作为圆筒状被处理零件360的转动方向,可以是与正齿轮315的转动方向为相同方向(箭头A1)或相反方向(箭头A2)中的任一方向,或是使其在相同方向(或相反方向)转动一定时间后,使其在相反方向(或相同方向)转动。这样完成对被处理零件360外侧表面的掩蔽。
这样由实施例9的涂布装置310,能够稳定地将粉状体等的流体附着于被处理零件,而且能在对筒状被处理零件的内侧面及圆柱状被处理零件的端面等几乎不附着流体的状态下进行对其外表面的流体涂布。又例如单单对圆柱状被处理零件的棒中间部分进行掩蔽而两端近旁不进行掩蔽的场合那样对被处理零件的中间位置进行局部涂布的场合,使用本实施例9的粉状体涂布装置就能够进行这样的局部涂布。
<实施例10>
图22是显示本发明实施例10的涂布装置320局部及被处理零件360的立体图。又关于与图19~21相同构成的部分,本说明书赋予同一符号以避免重复说明。
本实施例10的涂布装置320在正齿轮315的粉状体飞扬出的一侧,在与正齿轮圆板面315a平行且与圆板面315a接近的位置设置有两个引导板321,其他构成则与上述实施例9的涂布装置310相同。
与上述实施例9同样,使正齿轮315转动(箭头N),将粉状体370飞扬(箭头U),对被处理零件360的外侧面的所定部位进行涂布。此时离开正齿轮315的周面315b飞出的粉状体370,因为存在上述引导板321其飞扬宽度受到限制,所以对被处理物的涂布范围变得明瞭,即能够使被处理零件的掩蔽部位与非掩蔽部位的分界线更为明瞭。
又因为上述引导板321与正齿轮315不接触,所以即使正齿轮315转动也不受影响。
<实施例11>
图23是显示本发明实施例11的涂布装置410及被处理零件460的立体图,图24是用于说明使用该涂布装置410的掩蔽操作的剖视图,其(a)相当于图23的纵截面。又关于与图1相同构成的部分,本说明书赋予同一符号以避免重复说明。
涂布装置410具有圆筒形的外容器111和装入该外容器111内部的圆筒形的内容器112,该内容器112内为上升区域部413,内容器112外壁和外容器111内壁所夹的间隙为下降区域部414。上述外容器111固定于振动盘(微振动装置)425上,又内容器112安装在外容器111上。
又与收容于上述内容器112内的粉状体470的上表面平行,即在水平方向延伸设置有棒状弹性体422。该棒状弹性体422其一端与固定部423连接,另一端安装有球状的封止部件421。该球状封止部件421位于与粉状体470的上表面隔开所定间隔的地方。又这些球状封止部件421、棒状弹性体422及固定部423构成开口部封止装置。
接下来就用上述涂布装置410对圆筒状被处理零件460进行掩蔽的场合的动作进行说明。
上述内容器112内的粉状体470在螺杆17R、17L的作用下在内容器112内上升(箭头C),从溢流缘112a溢出(箭头J),落到下降区域部414(箭头E)。然后从底近旁的连通孔16再返送至内容器112内(箭头F),在内容器112内上升(箭头C)。这样粉状体470在上升区域部413和下降区域部414之间循环,始终保持从溢流缘112a溢出。又振动盘425产生微振动(例如频率2次/秒、振幅1mm(往复2mm)的振动)能更一定、均匀地保持粉状体470上表面的高度。
将圆筒状被处理零件460朝该上升区域部413的粉状体470放下(箭头V),抵接球状封止部件421,从而关闭圆筒状被处理零件460的开口部461(图24(b))。继续将圆筒状被处理零件460朝上述粉状体470放下(箭头V),将被处理零件460插入粉状体470内直至进行掩蔽的所定位置(图24(c))。此时球状封止部件421保持与开口部461抵接的状态被插入粉状体470(箭头Y),棒状弹性体422尽管发生弯曲但由其弹性力稳固地保持该抵接状态。又因为粉状体470始终流动被向上推起,由上述棒状弹性体朝粉状体470插入所产生的凹陷也马上被埋,从而保持所定的粉状体470的高度。
保持该插入状态所定时间(例如5秒),使粉状体470与被处理零件460的下端近旁外侧面及下端面熔融结合后,将被处理零件460向上提,掩蔽完成。又向上提时,由于上述棒状弹性体422的反弹力(箭头X),球状封止部件421对开口部461的抵接状态被连续地保持,被处理零件460的筒内侧不会被粉状体470接触。
被掩蔽的圆筒状被处理零件460如图25(显示圆筒状被处理零件的掩蔽状态的立体图)所示,粉状体470不会附着于筒内侧面462,而单单对一端近旁的外侧面463及一端端面464涂布(掩蔽)粉状体。并且因为粉状体的上表面保持为所定的高度,所以被掩蔽的部位(一端近旁外侧面463、一端端面464)与非掩蔽部位(被处理零件中央部分465、筒内侧面464)处于所定位置且其分界线明瞭。
又上述球状封止部件421及棒状弹性体422等,因为在不进行粉状体的涂布时位于离开粉状体470的位置(图24(a)),从而不会对粉状体的流动产生任何影响,从而也不用担心会在粉状体470中产生块或空洞等。
这样利用实施例11的涂布装置,对筒状被处理零件之类具有开口部的被处理零件,能够在使其开口内侧不附着流体(粉状体)的状态下,对外侧涂布(掩蔽)流体。此外如果对封止部件421的形状做出改进,则能在使被处理零件的局部的非掩蔽部位不附着流体的状态下,对掩蔽部位涂布(掩蔽)流体。而且不必花费如以往刷毛涂布方式的工夫,与上述撒洒方式不同掩蔽部位与非掩蔽部位的分界线明瞭。
<实施例12>
图26是显示本发明实施例12的涂布装置420及圆筒状被处理金属零件460的剖视图。又关于与图23、24相同构成的部分,本说明书赋予同一符号以避免重复说明。
内容器112的底部,避开螺杆17R、17L及其轴部等竖立设置有弹簧部件424,该弹簧部件424的顶部安装有球状封止部件421。该球状封止部件421露出成从粉状体470上表面突出的样子。
上述弹簧部件424由内筒426及外筒427的两重筒部分、和装入在该两重筒内的螺旋弹簧428构成,通过该螺旋弹簧428进行伸缩且上述内筒426和上述外筒427滑动,弹簧部件424的长度(高度)为可变。
对圆筒状被处理零件460进行掩蔽时,使圆筒状被处理零件460朝图示箭头V方向前进,使上述球状封止部件421抵接该圆筒状被处理零件460的开口部461以封闭其开口,继续将被处理零件460朝粉状体470中插入进行粉状体470的涂布。此时上述弹簧部件424由于上述被处理零件460的插入的作用收缩(箭头Z)、又在其反弹力的作用下(箭头I)保持球状封止部件421对开口部461的抵接。
保持该插入状态所定时间,使粉状体470与被处理零件460的下端近旁外侧面463及下端面464熔融结合后,将被处理零件460向上提。向上提时,由上述弹簧部件424的反弹力(箭头工)的作用球状封止部件421对开口部461的抵接状态被连续地保持,不会发生被处理零件460的筒内侧被粉状体470接触的现象。如此掩蔽完成。
使用本实施例12的涂布装置420的场合,也与上述实施例11的场合同样,如图25所示能够在使筒状被处理零件460的筒内侧面462不附着粉状体470的状态下,单单对一端近旁的外侧面463及一端端面464涂布粉状体。
<实施例13>
图27是显示本发明实施例13的涂布装置430及圆筒状被处理零件460的立体图。又关于与图23、24相同构成的部分,本说明书赋予同一符号以避免重复说明。
本实施例13的涂布装置430在棒状弹性体422上安装两个球状封止部件431、432,其他构成则与上述实施例11的涂布装置410相同。
本实施例13的装置能够一次掩蔽处理两个圆筒状被处理零件460。
<实施例14>
图28是显示本发明实施例14的涂布装置440的俯视图。又关于与图23、24相同构成的部分,本说明书赋予同一符号以避免重复说明。
本实施例14的涂布装置440在能够转动的固定部443上呈放射状地安装四个棒状弹性体422a、442b、442c、442d,这些棒状弹性体422a、442b、442c、442d上分别安装球状封止部件441a、441b、441c、441d。其他构成则与上述实施例11的涂布装置410相同。
首先用球状封止部件441a和棒状弹性体422a的部分与上述实施例11同样对筒状被处理零件(未图示)进行掩蔽,掩蔽结束将该被处理零件从该粉状体向上提后,转动固定部443(箭头R)使相邻的球状封止部件441d和棒状弹性体442d的部分来到内容器112内的粉状体470上方。接下来用该球状封止部件441d和棒状弹性体442d部分对下一个筒状被处理零件进行掩蔽。这样转动固定部443顺序交换球状封止部件,一个接着一个地进行掩蔽。
并且对没有使用于掩蔽操作时的球状封止部件和棒状弹性体(图28中为球状封止部件441b、441c、441d,棒状弹性体442b、442c、442d),通过对这些进行附着粉状体的除去(清扫)处理,能够始终保持在掩蔽操作中使用干净的球状封止部件和棒状弹性体。又作为这一粉状体除去处理法,可以是首先冷却使粉状体硬化、其次将其除去的方法。
一次掩蔽操作有时会使多量的粉状体附着在球状封止部件上,这样多量的粉状体附着后,球状封止部件上所附着的粉状体会粘上下一个被掩蔽的被处理零件,从而发生在所希望的部位以外也被掩蔽、或者是局部掩蔽厚度过厚的问题。但由本实施例14,则由于能一个接着一个更换干净的球状封止部件和棒状弹性体,因此不存在上述粉状体过分附着的问题。
<实施例15>
图29是显示本发明实施例15的涂布装置480及圆筒状被处理零件460的剖视图。又关于与图23、24相同构成的部分,本说明书赋予同一符号以避免重复说明。
与收容在上述内容器112内的粉状体470的上表面平行、即在水平方向延伸设置有棒状零件482。该棒状零件482由没有弹性的素材构成,其尾部与锤484连接,其前端与球状封止部件421连接。在上述锤484近旁的与尾部侧相反的一侧上述棒状零件482由固定部483支持固定,上述封止部件421以该固定部483为支点能摆动。
对圆筒状被处理零件460进行掩蔽时,与上述实施例11同样使圆筒状被处理零件460向下前进(箭头V)(图29(a)),使上述球状封止部件421抵接该圆筒状被处理零件460的开口部461以封闭其开口,继续将被处理零件460朝粉状体470中插入进行粉状体470的涂布(图29(b))。此时棒状零件482在锤484以固定部483为支点作用(箭头O方向的力)下在箭头X方向按压封止部件421,在该按压力的作用下保持球状封止部件抵接开口部461的状态而被处理零件460插入至粉状体470内(箭头Y)。又当被处理零件460没有被插入到粉状体470内的状态时,在锤484的作用下封止部件421位于较粉状体470上表面更上方的位置(图29(a))。
以上有关本发明的涂布装置,参照例示的附图进行了具体的说明,但本发明本来不限定于图示例,可以在符合前述宗旨的范围内施加适当的变更进行实施,这些俱应为本发明的技术范围所包含。
例如上述实施例中作为流体以粉状体为例作了说明,但作为本发明所用流体不必局限于粉状体,也可为泥状体之类的流动体。
又,在对被处理金属零件(被处理物)涂布粉状体后,也可进一步由加热机对掩蔽部位进行加热,更确实地促成上述粉状体的热熔融结合。例如以图10所示齿轮状被处理金属零件261为例,如图11的截面图所示,可以由一对加热部262、263对齿轮状被处理金属零件261的掩蔽部位(中空内壁261s及中空近旁261n)进行加热。
另外在具有槽部件类型的实施例7中,例示了在内筒291上具有附带孔的盖291d的情形,也可以是没有盖、上端开放的结构,或者是上端完全被盖住的形态。上述实施例8中例示了内筒296上端没有盖的情形,也可以是上端完全被盖住的形态。还有也可以是一个内筒上设置两个以上槽部件的形态。
此外实施例6~8中在内容器212内侧设置了一个内筒,但也可设有两个以上内筒。
还有上述实施例9、10中尽管作为上述移动装置的圆板体使用正齿轮,但并不限定于此,也可以是没有周面的未经加工的圆板等。
又上述实施例10中例示了使用两个引导板321的情形,有时也可根据对被处理零件的掩蔽区域,只使用一个引导体321。
再有上述实施例11~15中例示了作为封止部件使用球状体的情形,但并不限定于此,也可以是圆锥形及圆锥台形等,或者是蛋形等。
又上述实施例11~15中例示了被处理零件为圆筒状的情形,但对棒状被处理零件的一端面不进行掩蔽的场合,也可代替上述封止部件使用板状的被覆部件,使该板状被覆部件抵接上述一端面将其覆盖,单单对棒状被处理零件的周面进行涂布。又也可将上述板状被覆部件做成任意形状,在上述一端端面留下任意的非掩蔽形状。又上述棒状被处理零件的端面并不限定于平面形状的场合,不是平面形状的场合则可使用对应其形状的被覆部件。还有,也可以按棒状被处理零件的端部形状,将被覆材料做成具有能与它紧密嵌合的嵌合凹部的形状,使该被覆部件从板状被处理零件的一个端面起将连续的周面的一部分也覆盖。
又以往的流动床方式的涂布法中静电涂装得到运用,本发明的涂布装置中也可使用这种静电涂装,例如对浸渍容器内的粉状体(流体)施加负电荷、对被处理零件施加正电荷进行涂布。
权利要求
1.一种在被处理物上涂布粉状体或泥状体等流体的涂布装置,该涂布装置具有使在浸渍容器内上升的所述流体从上部的溢流缘溢流、移动至溢流体流入容器、并将其从该溢流体流入容器的下部送回所述浸渍容器内的流体循环系统,其特征在于,所述浸渍容器的深度对内径之比为1/3~2/3。
2.如权利要求1所述的涂布装置,其特征在于,所述浸渍容器及所述溢流体流入容器分别构成为圆筒状,所述浸渍容器配置在所述溢流体流入容器内。
3.如权利要求1所述的涂布装置,其特征在于,作为所述流体使用安息角50度以下的流体。
4.如权利要求1所述的涂布装置,其特征在于,所述涂布装置构成为至少使所述浸渍容器进行微振动。
5.如权利要求1所述的涂布装置,其特征在于,所述浸渍容器内设有从其下方朝所述溢流缘搬运所述流体的螺杆。
6.如权利要求1所述的涂布装置,其特征在于,所述浸渍容器在筒状体上部设有具有狭窄排出口的狭窄排出部件,以所述排出口为流体涂布部,能在所述被处理物表面的任意选择面上进行涂布。
7.如权利要求6所述的涂布装置,其特征在于,在其上方具有狭窄排出口的所述狭窄排出部件装脱自如地连接于所述筒状体上部。
8.如权利要求6所述的涂布装置,其特征在于,具有所述狭窄排出口的所述狭窄排出部件设置成不与所述筒状体连接。
9.如权利要求8所述的涂布装置,其特征在于,所述狭窄排出部件由所述溢流体流入容器保持。
10.如权利要求8所述的涂布装置,其特征在于,所述狭窄排出口在所述狭窄排出部件的上端形成。
11.如权利要求8所述的涂布装置,其特征在于,所述狭窄排出口由在所述狭窄排出部件的侧面设置开口而形成。
12.如权利要求8所述的涂布装置,其特征在于,所述狭窄排出部件在其侧面有开口,有槽部件连接于该开口,以该槽部件的上方开放部为狭窄排出口。
13.如权利要求6所述的涂布装置,其特征在于,所述狭窄排出口为多个。
14.如权利要求13所述的涂布装置,其特征在于,所述多个狭窄排出口形成于不同的高度。
15.如权利要求1所述的涂布装置,其特征在于,具有将上升至所述浸渍容器内的所述流体的一部分进一步提扬、使其向被处理物的外表面侧所定部表面移动的移动装置,该移动装置具有所定厚度的能转动的圆板体,该圆板体的转动轴配置在与收容于浸渍容器内的流体上表面平行或大致平行的方向上,该圆板体的一部分埋入所述浸渍容器内上部的流体内。
16.如权利要求15所述的涂布装置,其特征在于,所述圆板体是齿轮。
17.如权利要求15所述的涂布装置,其特征在于,沿所述圆板体的两面或一面设有流体移动引导板。
18.如权利要求1所述的涂布装置,其特征在于,所述涂布装置在具有开口部的被处理物外侧涂布所述流体,该涂布装置具有开口部封止装置,该开口部封止装置在所述浸渍容器上方配备封闭被处理物开口部的封止部件,所述封止部件随着所述被处理物插入所述流体被所述开口部按压而沉降至所述流体内。
19.如权利要求18所述的涂布装置,其特征在于,所述开口部封止装置在所述浸渍容器内流体上方与该流体上表面大致平行地延伸设置的棒状体的前端或者端部近旁具有所述封止部件。
20.如权利要求18所述的涂布装置,其特征在于,所述开口部封止装置在竖立设置于所述浸渍容器内的弹性体部件的前端安装有所述封止部件。
21.如权利要求18所述的涂布装置,其特征在于,所述开口部封止装置具有两个以上所述封止部件。
22.如权利要求1所述的涂布装置,其特征在于,所述涂布装置具有被覆装置,该被覆装置在所述浸渍容器上方配备有被覆所述被处理物的至少一部分的被覆部件,所述被覆部件随着所述被处理物插入所述流体被所述被处理物的端面按压而沉降至所述流体内。
23.如权利要求22所述的涂布装置,其特征在于,所述被覆装置在所述浸渍容器内流体上方与该流体上表面大致平行地延伸设置的棒状体的前端或者端部近旁具有所述被覆部件。
24.如权利要求22所述的涂布装置,其特征在于,所述被覆装置在竖立设置于所述浸渍容器内的弹性体部件的前端安装有所述被覆部件。
25.如权利要求22所述的涂布装置,其特征在于,所述被覆装置具有两个以上所述被覆部件。
全文摘要
本发明的涂布装置具有使在浸渍容器(内容器)内上升的所述流体(粉状体等)从上部的溢流缘溢流、移动至溢流体流入容器、再将其从该溢流体流入容器(外容器)的下部送回所述浸渍容器内的流体循环系统,浸渍容器的深度对内径之比为1/3~2/3。假如浸渍容器的深度太深,则在浸渍容器上方粉状体等绷紧,有可能会发生不能将被处理物顺利地插入的现象,但本发明中因为将浸渍容器的大小规定如上,所以能保持粉状体等的柔软性。
文档编号B05C19/04GK1478152SQ01820010
公开日2004年2月25日 申请日期2001年12月4日 优先权日2000年12月5日
发明者中村卓司 申请人:株式会社纳德研究所
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