涂膏装置以及涂膏方法

专利名称：涂膏装置以及涂膏方法
技术领域：
本发明涉及向涂抹对象物涂抹膏料的涂膏装置以及涂膏方法。
背景技术：
涂膏装置被用于液晶显示板等各种装置的制造。该涂膏装置具有对涂抹 对象物喷出膏料的涂抹头， 一边使该涂抹头和涂抹对象物相对移动， 一边将 膏涂抹在涂抹对象物上，形成规定的涂抹图案(膏图案)。
作为涂抹头提出了通过螺杆的旋转压喷出膏料的涂抹头(例如，参照曰
本特开平4-49108号公报)。该螺杆式的涂抹头具有具有用于喷出膏料的 喷嘴的气缸部件；可旋转地设置在该气缸部件内部的螺杆；使该螺杆旋转的 喷出用电机。该涂抹头根据螺杆的旋转从喷嘴向涂抹对象物喷出与螺杆的旋 转量即与螺杆的转速(喷出用电机的转速)相应的量的膏料。
这样的涂膏装置是在制造液晶显示板等时，为使2张基板贴合，对于移 动的涂抹对象物即基板，以包围液晶显示板的显示区域的方式涂抹具有密封 剂等的密封性以及粘结性的膏料。此时，膏料是使描绘开始位置的起点(描 绘开始点)和描绘结束位置的终点(描绘结束点)连接并对准而被涂抹基板 上的。
在此，例如，如图7所示，基板K上的涂抹图案P的起点O的大小(膏 截面积)比设计值(规定的设计范围)小时，起点O和终点F之间产生间隙， 会导致在液晶充填时等液晶漏出。另外，如图8所示，基板K上的涂抹图案 P的起点O的大小比设计值大时，在贴合时膏料溢出到显示区域。为防止这 些不良情况的发生，必须调整起点O的大小。
上述大小的调整，如图9所示，是通过在螺杆的旋转开始时刻和基板K 的移动开始时刻之间设定时间差(时间Tl)(参照图9中的二点划线)而变 更该时间T1，由此使起点O的大小与设计值相同。并且，螺杆的转速(图9 中的波形B2)被设定成即使描绘速度(图9中的波形Bl )变化，膏截面积
(膏的单位时间的涂抹量)也是恒定的。在此，例如，使时间Tl变长时，
螺杆的转速的波形B2中的加速部分向左方向Dl移动(参照图9中的一点划 线)，在基板K的停止状态下的喷出时间被延长，从而起点O的大小变大。 另一方面，使时间Tl变短时，喷出用电机转速的波形B2中的加速部分向右 方向D2移动，在基板K的停止状态下的喷出时间被缩短，从而起点O的大 小变小。
然而，变更了从螺杆的旋转开始时刻到基板K的移动开始时刻之间的时 间Tl时，例如，在图9所示的描绘速度(基板K的移动速度)的波形Bl 以及螺杆的转速的波形B2中，时间Tl变长时，波形B2的加速部分向左方 向D1 (参照图9中的一点划线)。由此，在描绘速度达到最大值(涂抹图案 的直线部分的描绘速度)时的加速区域T2中，描绘速度和螺杆的转速之间 的关系(比率)变化。根据该关系的变化，在加速区域T2中的膏截面积(膏 的单位时间的涂抹量)变得不恒定，从而在加速区域T2中会发生图案切断、 膏截面积波动，尤其会发生膏截面积(涂抹量)的增大，则不优选。

发明内容
本发明的目的是提供一种涂膏装置以及涂膏方法，能够防止因描绘速度 的加速区域中的描绘速度和螺杆的转速之间的关系变化引起的图案切断、膏 料截面积波动的发生。
本发明的实施方式的第1特征是，在涂膏装置中，具有通过螺杆的旋 转从喷嘴向涂抹对象物喷出与上述螺杆的转速对应的量的膏料的涂抹头；基 于具有直线部分和弯曲部分的涂抹图案使上述涂抹对象物和上述涂抹头相对 移动的移动机构；在从上述螺杆的旋转开始时刻到上述涂抹对象物和上述涂 抹头的相对移动开始时刻之间的时间内，控制上述螺杆的转速使其比进行上 述直线部分的涂抹时的上述螺杆的转速小，经过了上述时间的情况下，与上 述涂抹对象物和上述涂抹头的相对移动速度对应地控制上述螺杆的转速的机 构。
本发明的实施方式的第2特征是，在涂膏方法中，具有以下步骤使用 通过螺杆的旋转从喷嘴向涂抹对象物喷出与上述螺杆的转速对应的量的膏料 的涂抹头，基于具有直线部分和弯曲部分的涂抹图案使上述涂抹对象物和上
述涂抹头相对移动，并将膏料涂抹在上述涂抹对象物的工序；在从上述螺杆 的旋转开始时刻到上述涂抹对象物和上述涂抹头的相对移动开始时刻之间的 时间内，控制上述螺杆的转速使其比进行上述直线部分的涂抹时的上述螺杆 的转速小，经过了上述时间的情况下，与上述涂抹对象物和上述涂抹头的相 对移动速度对应地控制上述螺杆的转速的工序。


图1是表示本发明的一实施方式的涂膏装置的概略结构的立体图。 图2是表示具有图1所示的涂膏装置的涂抹头的概略结构的剖视图。 图3是表示图1所示的涂膏装置所涂抹的膏料的涂抹图案的示意图。 图4是用于说明图1所示的涂膏装置中的描绘速度、螺杆的转速与时间 之间的关系的说明图。
图5是放大图2所示的涂抹头的喷嘴部分进行显示的剖视图。 图6是放大图2所示的涂抹头的喷嘴部分进行显示的剖视图。 图7是表示膏料的涂抹图案的一例的示意图。 图8是表示膏料的涂抹图案的一例的示意图。
图9是用于说明描绘速度、螺杆的转速与时间之间的关系的一例的说明图。
具体实施例方式
参照图1至图6说明本发明的一实施方式。
如图l所示，本发明的实施方式的涂膏装置1具有以水平状态(图1
K的台阶2;保持该台阶2并使其沿Y轴方向的Y轴移动机构3;通过该Y 轴移动机构3使台阶2沿X轴方向移动的X轴移动机构4;分别向台阶2上 的基板K涂抹密封剂等的膏料(例如，具有密封性以及粘结性的膏料)的多 个涂抹头5;分别使这些涂抹头5沿着Z轴方向移动的多个头Z轴移动机构 6;通过对应的头Z轴移动机构6以可沿X轴方向移动的方式支承各涂纟未头 5的、并使其沿X轴方向移动的头X轴移动机构7;支承该头X轴移动机构 7的支承部件8;支承X轴移动机构4以及支承部件8仝的架台9;控制各部 件的控制部10。 台阶2净皮积层在Y轴移动才几构3上，并以可在Y轴方向上移动的方式被 设置。该台阶2因Y轴移动机构3沿Y轴方向移动。并且，在台阶2的装载 面上，通过自重装载有玻璃基板等基板K,但不限于此，例如，为保持该基 板K,也可以设置静电卡盘、吸附卡盘等才几构。
Y轴移动机构3是引导台阶2在Y轴方向上移动的移动机构。该Y轴移 动机构3被设置在X轴移动机构4上，与控制部10电连接。并且，作为Y 轴移动机构3使用例如将电机作为驱动源的进给丝杠移动机构、将线性电机 作为驱动源的线性电机移动机构等。
X轴移动机构4是引导Y轴移动机构3在X轴方向上移动的移动机构。 该X轴移动机构4被设置在架台9上，与控制部10电连接。并且，作为X 轴移动机构4使用例如将电机作为驱动源的进给丝杠移动机构、将线性电机 作为驱动源的线性电机移动机构等。
如图2所示，涂抹头5具有具有用于喷出膏料的喷嘴5a的气缸部件 5b;以可旋转的方式设置在该气缸部件5b内部的螺杆5c;使该螺杆5c旋转 的喷出用电机5d;连结螺杆5c和喷出用电机5d的连结部件5e;存储膏料的 存储容器5f;连接气缸部件5b和存储容器5f的供给泵5g。
气缸部件5b是在前端部具有喷嘴5a的中空的收容筒。在该气缸部件5b 的侧壁上设置有与内部连通的贯通孔Hl。螺杆5c的该外周上具有螺旋状的 螺紋部N。该螺杆5c通过连结部件5e与喷出用电机5d连结。喷出用电机 5d是被固定在气缸部件5b的基端部而设置的，与控制部10电连接。该喷出 用电机5d旋转时，螺杆5c通过连结部件5e也旋转。
存储容器5f与气缸部件5b并列地设置。该存储容器5f具有作为存储液 状的膏料的存储部的功能。在该存储容器5f的上部形成有开口部H2,在存 储容器5f的底部也形成有开口部H3。上部的开口部H2通过软管Jl与供给 气体的气体供给部(未图示)连接。底部的开口部H3通过供给泵5g与贯通 孔H1连接。
在此，在气缸部件5b的内周(内壁)和螺杆5c之间形成有充满膏料的 螺旋状的液室。向该液室充填膏料时，进行预备喷出动作。首先，气体被气 体供给部从存储容30器5f的开口部H2供给。在该状态下通过喷出用电机
5d使螺杆5c旋转。此时，螺杆5c的旋转持续到膏料充满液室。而且，螺杆 5c的旋转在膏料从喷嘴5a喷出后只持续规定时间。由此，能够在液室内不 残留空气地使膏料充满气缸部件5b内的液室。
该预备喷出动作后，气缸部件5b内的螺杆5c与喷出用电机5d的旋转对 应地旋转时，充填在气缸部件5b的内周和螺杆5c之间的液室的膏料从喷嘴 5a喷出。此时，与螺杆5c的旋转量对应的量的膏料从喷嘴5a喷出。例如， 螺杆5c旋转时，与该螺杆5c的螺紋部N的螺距当量的膏料从喷嘴5a喷出。 该膏料的单位时间的喷出量与喷出用电机5d的转速(单位时间的旋转量)即 螺杆5c的转速成正比，从而通过改变螺杆5c的转速，能够调整来自喷嘴5a 的膏料的单位时间的喷出量。这样，涂抹头5通过螺杆5c机械地推出膏料， 从而能够得到与螺杆5c的转速(旋转量)成正比的喷出量。
回到图1,头Z轴移动机构6是支承涂抹头5、且使涂抹头5在与水平 面正交的Z轴方向即在相对于台阶2接近远离的接近远离方向上移动的移动 机构。并且，作为头Z轴移动机构6使用例如将电机作为驱动源的进给丝杠 移动机构、将线性电机作为驱动源的线性电机移动机构等。
且使这些涂抹头5沿X轴方向即支承部件8移动的移动机构。并且，作为头 X轴移动机构7使用例如将电机作为驱动源的进给丝杠移动机构、将线性电 机作为驱动源的线性电机移动机构等。
支承部件8是支承头X轴移动机构7即各涂抹头5的门型的支柱。该支 承部件8中，其延伸部8a沿着X轴方向被定位，其脚部8b被固定在架台9 的上表面并设置在架台9上。并且，头X轴移动机构7被设置在延伸部8a 的前表面(图1中)。
架台9具有四边平板状的基板9a;支承该基板9a的4个支柱9b。在 基板9a的上表面装载有X轴移动机构4以及支承部件8。并且，各支柱9b 具有作为水平地支承基板9a的脚部的功能。
控制部IO具有集中地控制各部件的微型计算机；存储与涂膏相关的涂 抹信息、各种程序等的存储部(都未图示)。涂抹信息包含与规定的涂抹图案 Pl 、描绘速度(基板K的移动速度)、螺杆5c的转速(喷出用电机5d的转速)等相关的信息。
该控制部IO基于涂抹信息、各种程序，控制Y轴移动机构3、 X轴移动 机构4以及头X轴移动机构7，使各涂抹头5的喷嘴5a和台阶2上的基板K 沿着基板K的表面平行地相对移动。并且，在涂抹头5的喷嘴5a上一体地 设置有激光变位计等距离测定器(未图示)。该距离测定器测定直到台阶2 上的基板K的表面的离间距离。控制部IO根据距离测定器测定的离间距离 进行反馈控制，由此确保喷嘴5a和基板K的表面之间的间隙为规定的间隙 (间隙控制)。
在此，如图3所示，涂膏装置1向台阶2上的基板K的周缘部涂抹膏料， 在描绘1个涂抹图案Pl时，图4所示的描绘速度变化图案(图4中的波形 B3)以及螺杆5c (喷出用电机5d)的转速变化图案(图4中的波形B4)作 为涂抹信息存储在存储部中。涂膏装置l基于包含描绘速度变化图案以及螺 杆5c的转速变化图案在内的涂抹信息，沿着台阶2上的基板K的周缘部例 如顺时针线状地涂抹膏料，描绘矩形状的涂抹图案P1。并且，也有涂膏装置 1通过各涂抹头5并列地描绘相同的涂抹图案的情况。
在涂抹图案Pl的直线部分S中，为了缩短描绘时间，极高速地设定描 绘速度，在涂抹图案P1的弯曲部分即角部分C1 C4中，为了以小半径均匀 的涂抹量描绘膏料，使描绘速度减速，从而通过角部分a C4时，产生描 绘速度的急减速以及急加速。由此，必须与该描绘速度的变化相配合地减少 以及增加来自喷嘴5a的膏料的涂抹量。
涂抹量的设定按以下顺序进行。首先，设定直线部分S中的描绘速度Va 以及角部分Cl ~ C4中的描绘速度Vb。该设定是通过例如操作者操作与控制 部IO连接的触摸板、键盘等输入部而进行的。通常，直线部分S中的描绘 速度Va被设定成使基板K和喷嘴5a相对移动的Y轴移动机构3以及X轴 移动机构4所允许的最高速度。角部分Cl ~ C4中的描绘速度Vb被设定成 经验或实验得到的优选速度(例如，不发生涂抹图案Pl的线宽、厚度等的 突出的速度)。
其次，设定螺杆5c的转速(喷出用电机5d的转速)。该转速通过计算求 出。膏料的单位时间的喷出量是通过螺杆5c的螺距、直径等的机械构造和螺
杆5c的转速算出的。基于单位时间应涂抹的膏料的涂抹量以及描绘速度Va、 Vb，在各描绘速度Va、 Vb中，能够算出单位时间应喷出的膏料的喷出量。 从该算出的喷出量反算各描绘速度Va、 Vb中的螺杆5c的转速Ra、 Rb。这 样，各描绘速度Va、 Vb以及螺杆5c的各转速Ra、 Rb被设定。
其次，说明这样的涂膏装置1所进行的涂抹动作。在此，对如上所述地 涂膏装置1将膏料涂抹在台阶2上的基板K的周缘部来描绘1个涂抹图案 Pl的情况进行说明(参照图3)。涂膏装置1基于包含描绘速度变化图案以 及螺杆5c的转速变化图案在内的涂抹信息，沿着台阶2上的基板K的周缘 部例如顺时针地以线状涂抹膏料，来描绘矩形状的涂抹图案Pl。
首先，控制部10控制Y轴移动机构3、 X轴移动机构4以及头X轴移 动机构8，使涂抹头5的喷嘴5a移动到起点(描绘开起点)O的正上方(与 起点O相对的位置)，并控制头Z轴移动机构6，直到与距离测定器的测定 结果对应地使喷嘴5a和基板K的表面之间的间隙成为规定的间隙15,并使 涂抹头5的喷嘴5a下降。
其次，如图4所示(图4中的波形B4),控制部10,只在从螺杆5c的 旋转开始时刻到基板K的移动开始时刻的时间(事先旋转时间)Tl内，控 制螺杆5c的转速(喷出用电机5d的转速)，使其比进行涂抹图案P1的直线 部分S (参照图3 )的涂抹时的螺杆5c的转速Ra小。在此特别地，控制部 10，以进行涂抹图案Pl的角部分Cl ~ C4 (参照图3 )的涂抹时的螺杆5c的 转速Rb以下的转速Rc,在规定时间T3内控制螺杆5c的转速为恒定。并且， 规定时间T3是在从螺杆5c的旋转开始时刻到基板K的移动开始时刻的时间 Tl内预先设定的时间(一定旋转时间)。该规定时间T3可以被操作者变更。 例如，操作者通过操作与控制部IO连接的触摸板、键盘等的输入部来变更规 定时间T3。
在此，在涂抹图案P1的终点F，通常，使螺杆5c向与喷出时的旋转方 向相反的方向旋转，由此防止拉拔、抽丝等的发生。根据此时的螺杆5c的反 转，喷嘴5a内的膏料P2沿气缸部件5b的内部方向被引入。由此，如图5 所示，产生在喷嘴5a的前端没有膏料P2的状态。因此，如上所述地控制部 10以一定的转速Rc使螺杆5c只旋转规定时间T3,由此使喷嘴5a内的膏料
P2向喷嘴5a的前端移动。此时，在基板K停止的状态下，螺杆5c从转速0 (零)加速到转速Rc ，以该转速Rc旋转规定时间T3 。与此相应地，如图6 所示，图5所示的气缸部件5b内的膏料P2移动到喷嘴5a的前端。
并且，通过变更规定时间T3，可以适当地调整在基板K的停止状态下 喷出的膏料P2的喷出量。由此，能够将涂抹图案P1的起点O的大小(膏截 面积)调整到规定的设计范围内，其结果，能够防止液晶的漏出、膏料的溢 出等不良情况。
之后，如图4所示(图4中的波形B4)，控制部10在经过了规定时间 T3的情况下，控制X轴移动机构4,使台阶2上的10基板K相对于喷嘴5a 向X轴的正方向(图1中的X轴的右方向)移动，与基板K和涂抹头5的 相对移动速度即描绘速度(图4中的波形B3 )对应地控制螺杆5c的转速(喷 出用电机5d的转速)而进行涂抹。并且，作为描绘速度可以是X轴方向的 相对移动速度、Y轴方向的相对移动速度以及将X轴方向的相对移动速度和 Y轴方向的相对移动速度合成而成的相对移动速度等。
此时，控制部IO使涂抹头5的喷出用电机5d即螺杆5c与X轴移动机 构4的电机同步地旋转，而使涂抹头5喷出膏料。即，控制部10是在基板K 的移动开始时，与描绘速度(基板K的移动速度)的增加对应地使螺杆5c 的转速增加。基板K从停止状态开始加速到与涂抹图案Pl的直线部分S对 应地设定的描绘速度(最大值)Va。此时，螺杆5c与X轴移动机构4的电 机转速的变化同步，并从转速Rc增加到与涂抹图案Pl的直线部分S对应地 设定的转速(最大值)Ra。
在涂抹图案Pl的起点0附近的范围Wa (参照图4 )内，描绘速度(基 板25K的移动速度)比涂抹图案P1的直线部分S的范围Ws (参照图4)内 的描绘速度Va低。在该低速区域中，膏料的单位时间的喷出量比与直线部 分S对应的高速区域中的膏料的单位时间的喷出量少，单位长度的涂抹量与 高速区域的涂抹量相同。由此，在起点O附近的范围Wa内，能够抑制涂抹 量增多，从而能够防止涂抹图案P1的线宽、厚度等的突出。
其次，控制部10在喷嘴5a靠近弯曲部分即第1角部分C1的近前侧时， 使描绘速度(基板K的移动速度)Va减速到与第1角部分C1的低速区域对
应地设定的描绘速度Vb。同时，控制部IO是与该描绘速度(基板K的移动 速度)的减速对应地控制Y轴移动机构3,并使喷出用电机5d的旋转即螺杆 5c的旋转与X轴移动机构4的电机的减速同步地从转速Ra减速到转速Rb。 而且，控制部10是在喷嘴5a到达第1角部分C1时，使描绘速度(基 板K的移动速度)Vb减速，并使在X轴方向上移动的基板K停止。控制部
10是与基板K的减速的开始同时地控制Y轴移动机构3,并使台阶2上的基 板K相对于喷嘴5a向Y轴的正方向(图1中的Y轴方向的上方向)移动(逐 渐加速到描绘速度Vb)，以便在第1角部分C1的描绘中使基板K的移动速 度恒定。此时，控制部10将喷出用电机5d的旋转即螺杆5c的旋转维持在转 速Rb。在第1角部分C1附近的范围Wc (参照图4)内，描绘速度(基板K 的移动速度)比涂4末图案P1的直线部分S的范围Ws (参照图4)内的描绘 速度Va低。在该低速区域中，膏料的单位时间的喷出量比与直线部分S对 应的高速区域中的膏料的单位时间的喷出量少，单位长度的涂抹量与高速区 域的涂抹量相同。由此，在第1角部分C1附近的范围Wc内，能够抑制涂 抹量增多，从而能够防止涂抹图案P1的线宽、厚度等的膨胀。另外，在第1 角部分Cl附近，使基板K和喷嘴5a的相对移动速度比直线部分S的相对移 动速度低，从而能够防止由第1角部分C1上的基板K的加减速引起的涂抹 头5的上下振动，并能够防止在第1角部分C1附近的图案切断、膏截面积 波动(涂抹量的波动)等的发生。
其次，控制部10在各弯曲部分即第2角部分C2、第3角部分C3以及 第4角部分C4进行与第1角部分Cl同样的控制，将膏料涂抹在基板K上 直到涂抹图案P的终点(描绘结束点)F。并且，在终点F附近的范围Wb
(参照图4 )内，控制部10也使X轴移动机构4的电机减速而同步，逐渐使 喷出用电机5d的旋转即螺杆5c的旋转变慢，减少膏料的喷出量。由此，在 终点F附近，能够抑制涂抹量增多，从而能够防止涂抹图案Pl的线宽、厚 度等的膨胀。
最后，控制部IO是在涂抹结束后，控制Y轴移动机构3、 X轴移动机构 4以及头X轴移动机构8,使台阶2移动直到涂抹头5不与台阶2上的基板 K相对的退避位置，在台阶2上的基板K的交换时待机。基板K的交换结束
时，重复上述涂抹动作。并且，在基板K上涂抹多个涂抹图案Pl时，控制
部10在1个涂抹图案P1的涂抹之后，控制Y轴移动机构3、 X轴移动机构 4以及头X轴移动机构8,使涂抹头5的喷嘴5a移动到下一个起点O的正上 方，并重复上述涂纟末动作。
在这样的涂4未动作中，螺杆5c的转速比如图4所示的转速的波形B4那 样只进行涂抹图案Pl的直线部分S的涂抹规定时间T3情况下的螺杆5c的 转速Ra小，优选为以进行涂抹图案Pl的角部分Cl ~ C4的涂抹的情况下的 螺杆5c的转速Rb以下的转速Rc恒定地旋转。由此，如图6所示，图5所 示的气缸部件5b内的膏料P2移动到喷嘴5a的前端。之后，经过规定时间 T3时，与基板K和涂抹头5的相对移动速度(图4所示的描绘速度的波形 B3 )对应地按照图4所示的转速的波形B4控制螺杆5c的转速。
在此，例如，为防止液晶的漏出、膏料的溢出而调整起点O的大小的情 况下，使规定时间T3变长时，基板K的在停止状态下的喷出时间被延长， 从而起点O的大小(膏料截面积)变大。另一方面，使规定时间T3变短时， 基板K的在停止状态下的喷出时间被缩短，从而起点O的大小变小。这样， 即使变更规定时间T3,在描绘速度到达直线部分S的描绘速度(最大值)时 的加速区域(加速时间)T2中，描绘速度和螺杆5c的转速之间的关系(比 率)没有变化。由此，能够保持在加速区域T2中的描绘速度和螺杆5c的转 速之间的关系不变地，调整涂抹图案P1的起点O的大小，从而调整加速区 域T2中的膏料截面积(膏料的单位时间的涂抹量)变得容易，能够防止在 加速区域T2发生图案切断、膏料截面积波动。
如上所述，根据本发明的实施方式，控制螺杆5c的转速，使其比在从螺 杆5c的旋转开始时刻到基板K和涂抹头5的相对移动开始时刻的时间Tl内 进行涂抹图案Pl的直线部分S的涂抹的情况下的螺杆5c的转速Ra小(尤 其，控制螺杆5c的转速，使其在该时间Tl中的规定时间T3内恒定)，经过 了时间Tl的情况下，与基板K和涂抹头5的相对移动速度对应地控制螺杆 5c的转速，由此能够使描绘速度的加速区域T2中的该描绘速度和螺杆5c的 转速之间的关系不变地调整涂抹图案Pl的起点O的大小，从而能够防止由 描绘速度的加速区域T2中的描绘速度和螺杆5c的转速之间的关系变化引起
的图案切断、膏料截面积波动的发生。其结果，能够得到防止了液晶的漏出、 膏料的溢出等的、品质好的液晶显示板。
尤其，以进行涂抹图案P的角部分Cl ~ C4的涂抹的情况下的螺杆5c的 转速Rb以下的转速Rc,恒定地控制螺杆5c的转速，由此喷出用电机5d以 角部分Cl C4处的转速Rb以下的转速Rc旋转，在喷嘴5a内，能够将朝 向喷嘴5a的前端方向的膏料的移动速度抑制为容易控制的速度，从而能够高 精度地进行膏料的移动控制。其结果，例如，即使在膏料的粘度高的情况下， 也能够使膏料从喷嘴5a稳定地喷出，能够防止膏料的涂抹量波动、所描绘的 膏料的涂抹图案P1发生断线等的不良情况。
另外，喷出用电机5d使螺杆5c旋转，由此机械地压出与螺杆5c的旋转 量即喷出用电机5d的旋转量成正比的量(体积)的膏料，从而即使随着周围 温度的变化膏料的粘度变化，并且存储容器5f内的膏料的残量减少，通过保 持螺杆5c的转速恒定，也能恒定地维持来自喷嘴5a的膏料的单位时间的喷 出量。而且，由于通过螺杆5c的旋转机械地从喷嘴5a压出膏料，所以通过 使螺杆5c旋转的喷出用电机5d的转速变化，能够应答性良好地增减膏料的 单位时间的喷出量。
另外，在只通过气体压力喷出膏料的这类涂抹头中，喷嘴5a和基板K 之间的间隙变动时，来自喷嘴5a的膏料的喷出阻力变动，因该影响膏料的喷 出量变化。但是，在本发明的实施方式中，根据旋转的螺杆5c的螺紋部N 机械的压出，使膏料从喷嘴5a喷出，从而能够使被螺紋部N压出的这部分 的膏料从喷嘴5a喷出，而且，来自喷嘴5a的膏料的喷出量不会受到间隙的 变动，能够总是机械地压出恒定量的膏料。其结果，能够以均匀的涂抹量将 膏料涂抹在基板K上，从而能够提高对基板K的膏料的涂抹精度。因此，能 够制造防止了液晶漏出、空气的侵入的、品质好的液晶显示板。另外，根据 上述，不需要只通过气体压力使膏料从喷嘴5a喷出的情况下所必需的、保持 喷嘴5a和基板K30之间的间隙恒定的控制(间隙控制)，或减少控制频度， 从而实现控制的简单化。另外，由此，能够省去了或者减少间隙控制的处理 所需要的时间，从而能够缩短膏料的涂抹所需要的时间，并提高效率。
而且，使用矩形状的涂抹图案P1将膏料涂抹到基板K时，在起点O附
近、角部分C1 C4附近以及终点F附近，与直线部分S相比使喷嘴5a和基 板K之间的相对移动速度变慢，从而喷出用电机5d的转速即螺杆5c的转速 变慢，由此来自喷嘴5a的膏料的单位时间的喷出量变少。此时，通过螺杆 5c的旋转被机械地压出，从而能应答性良好地控制来自喷嘴5a的膏料的单 位时间的喷出量。其结果，能够在基板K上描绘由均匀的涂抹量构成的涂抹 图案P1。
而且，在起点O附近以及角部分C1 ~C4附近的涂抹过程中，在终点F 附近使喷嘴5a和基板K的相对移动速度减速的情况下，使喷出用电机5d的 转速即螺杆5c的转速与Y轴移动机构3以及X轴移动机构4的电机的转速 同步来进行减速。其结果，能够防止像现有技术那样的在起点O附近、角部 分C1 C4附近的涂抹量、在终点F附近的膏料的涂抹量变多，从而能够在 基板K上以均匀的涂抹量描绘涂抹图案P1 。 (其他实施方式)
并且，本发明不限于上述实施方式，在不脱离其主旨的范围内可以进行 各种变更。
例如，在上述实施方式中，使基板K相对于涂抹头5移动，但不限于此， 也可以不使涂抹头5相对于基板K移动，而使基板K和涂抹头5相对移动。 因此，涂抹头5和基板K也可以相互向相反的方向移动。这种情况下，如果 是相同的相对移动速度，与只使基板K移动的情况相比，可以分别使基板K 以及涂抹头5的移动速度减半。由此，由台阶2以及涂抹头5的移动带来的 惯性力变小，从而能够降低因台阶2以及涂抹头5的加速或减速引起的振动。 其结果，能够以所期望的形状高精度地涂抹沿着X轴方向的涂抹图案的始端 和终端的形状、涂抹方向转换的涂抹图案的角部分的形状，从而能够制造品 质好的液晶显示板。
另外，在上述实施方式中，说明了在角部分C1 ~C4附近使基板K和喷 嘴5a的相对移动速度减速的例子，但不限于此，也可以例如直接使用直线部 分S的相对移动速度。在这种情况下，因角部分C1 C4处的Y轴移动机构 3和X轴移动机构4的加减速，使涂抹头5产生上下振动，由此即使来自喷 嘴5a的膏料的喷出阻力变动，螺杆5c也能使由该螺紋部N的机械推压而压
出的膏料从喷嘴5a喷出，从而能够防止来自喷嘴5a的膏料的喷出量变化。 由此，能够对基板K以所需的涂抹量涂抹膏料，而且，在角部分C1 C4附 近，也能够以均匀的涂抹量线状地涂抹膏料，从而能够形成高精度的涂抹图 案P1。
另外，在上述实施方式中，以恒定的转速Rc使螺杆5c只旋转规定时间 T3,但不限于此，也可以例如使螺杆5c的转速在时间Tl内緩慢增加到转速 Rc等，也可以使螺杆5c的转速变化。关键是，最好能够控制螺杆5c的转速， 以便被引入喷嘴5a内的膏料P2的前端在规定的时间Tl内到达喷嘴5a的前
端o
而且，在上述实施方式中，以恒定的转速Rc使螺杆5c只旋转规定时间 T3，但不限于此，也可以例如使螺杆5c旋转规定的旋转角度0c。即，螺杆 5c的转速(转速Rc)、使螺杆5c旋转的时间(规定时间T3)和螺杆5c的旋 转角度e之间，具有旋转角度e-转速Rcx规定时间T3的关系。因此，以恒 定的转速Rc使螺杆5c只旋转规定时间T3的情况被置换成使螺杆5c只旋转 规定的旋转角度ec,从而用旋转角度0也可以控制螺杆5c的旋转。
另外，在上述实施方式中，说明了进行间隙控制的例子，但不限于此， 也可以是例如省去间隙控制。这种情况下，也可以完全不进行间隙控制，也 可以只在喷嘴5a位于起点O时进行间隙控制，而在图案的描绘过程中省略 间隙控制。
而且，在上述实施方式中，说明了将螺杆5c配置成其下端到达设置有气 缸部件5b的喷嘴5a的底部(前端部)的例子(参照图2 ),但不限于此，也 可以例如将螺杆5c配置成其下端和气缸部件5b的底部之间设置一定程度的 空间(比图2中大的空间)。这种情况下的螺杆也设置在气缸部件内，上端部 通过连结部件与喷出用电机的旋转轴连结，下端部作为自由端。尤其，在螺 杆的自由端和设置有气缸部件的喷嘴的底部之间，具有比图2所示的螺杆5c 的自出端和气缸部件5b的底部之间的间隔大的间隔，在该间隔内能够存储膏 料。
而且，在上述实施方式中，说明了螺杆5c的螺紋部N为一条的例子， 但不限于此，也可以是例如螺紋部N为二条以上的多个条。这样，具有螺距P的螺紋部N设置有多个条(n条)的情况下，导程L成为L-nP。在以与 具有一条螺紋部N的螺杆5c相同的螺距P的等螺距设置n条螺紋部N的螺 杆的情况下，为得到与具有一条螺紋部N的螺杆5c相同的喷出量，使必要 的螺杆的转速即喷出用电机5d的转速为1/n。由此，由于旋转驱动螺杆的 喷出用电机5d的转速达到1/n,所以根据螺杆和膏料的摩擦或者喷出用电 机5d的发热传递到膏料等，膏料发热而抑制硬化、劣化，而且，能够防止高 价的膏料废弃带来的损失的发生。
另外，在上述实施方式中，设置了多个涂抹头5，但不限于此，也可以 例如设置一个涂抹头，其数没有限定。
最后，在上述实施方式中，作为膏料使用具有密封性、粘结性的密封剂， 但不限于此，也可以使用例如具有密封性和粘结性的任意一个的材料等，也 可以使用具有其他性质的膏料，作为本发明的膏料也不一定必须具有密封性 和粘结性。
权利要求
1.一种涂膏装置，其特征在于，具有涂抹头，其通过螺杆的旋转从喷嘴向涂抹对象物喷出与上述螺杆的转速对应的量的膏料；移动机构，其基于具有直线部分和弯曲部分的涂抹图案使上述涂抹对象物和上述涂抹头相对移动；以及在从上述螺杆的旋转开始时刻到上述涂抹对象物和上述涂抹头的相对移动开始时刻之间的时间内，控制上述螺杆的转速使其比进行上述直线部分的涂抹时的上述螺杆的转速小，经过了上述时间的情况下，与上述涂抹对象物和上述涂抹头的相对移动速度对应地控制上述螺杆的转速的机构。
2. 如权利要求1所述的涂膏装置，其特征在于，上述进行控制的机构将 上述时间内的上述螺杆的转速控制在进行上述弯曲部分的涂抹时的上述螺杆 的转速以下。
3. 如权利要求1或2所述的涂膏装置，其特征在于，上述进行控制的机 构将上述时间内的上述螺杆的转速在规定时间内控制成恒定。
4. 一种涂膏方法，其特征在于，具有以下步骤使用通过螺杆的旋转从喷嘴向涂抹对象物喷出与上述螺杆的转速对应的 量的膏料的涂抹头，基于具有直线部分和弯曲部分的涂抹图案使上述涂抹对 象物和上述涂抹头相对移动，并将膏料涂抹在上述涂抹对象物的工序；在从上述螺杆的旋转开始时刻到上述涂抹对象物和上述涂抹头的相对移 动开始时刻之间的时间内，控制上述螺杆的转速使其比进行上述直线部分的 涂抹时的上述螺杆的转速小，经过了上述时间的情况下，与上述涂抹对象物 和上述涂抹头的相对移动速度对应地控制上述螺杆的转速的工序。
5. 如权利要求4所述的涂膏方法，其特征在于，上述进行控制的工序将 上述时间内的上述螺杆的转速控制在进行上述弯曲部分的涂抹时的上述螺杆 的转速以下。
6. 如权利要求4或5所述的涂膏方法，其特征在于，上述进行控制的工 序将上述时间内的上述螺杆的转速在规定时间内控制成恒定。
全文摘要
在涂膏装置(1)中，具有通过螺杆(5c)的旋转从喷嘴(5a)向涂抹对象物(K)喷出与上述螺杆(5c)的转速对应的量的膏料的涂抹头(5)；基于具有直线部分和弯曲部分的涂抹图案使上述涂抹对象物(K)和上述涂抹头(5)相对移动的移动机构(3、4)；从上述螺杆(5c)的旋转开始时刻到上述涂抹对象物(K)和上述涂抹头(5)的相对移动开始时刻之间的时间，控制上述螺杆(5c)的转速使其比进行上述直线部分的涂抹时的上述螺杆(5c)的转速小，经过了上述时间的情况下，与上述涂抹对象物(K)和上述涂抹头(5)的相对移动速度对应地控制上述螺杆的转速的机构。
文档编号B05B13/04GK101362125SQ20081014490
公开日2009年2月11日 申请日期2008年8月7日 优先权日2007年8月9日
发明者原田浩一 申请人:芝浦机械电子装置股份有限公司