色谱材料的制作方法
【专利摘要】在一个方面中，本发明提供的用于多种不同色谱模式的色谱固定相材料由式1表示：[X]（W）a（Q）b（T）c（式1）。X可以是具有包含二氧化硅芯材料、金属氧化物芯材料、无机-有机杂化材料或一组其嵌段共聚物的表面的高纯度色谱芯组合物。W可以在X表面上不存在和/或可以包含氢和/或可以包含羟基。Q可以是功能基团，其在色谱的条件下使用低的水浓度随时间最小化保留变化（漂移）。T可以包含一个或更多个亲水的、极性的、可电离的和/或带电荷的官能团，其与分析物色谱地相互作用。此外，b和c可以是正数，具有0.05≤（b/c）≤100的比例，并且a≥0。
【专利说明】色谱材料
[0001] 相关申请的交叉引用 本申请要求享有于2012年5月15日提交的美国临时申请号61/647, 303的优先权，其 内容以其整体通过引用并入本文。 发明领域
[0002] 本发明通常地涉及色谱材料。本发明更特别地，在多个实施方案中，涉及用于正 相色谱、超临界流体色谱、基于二氧化碳的色谱、疏水相互作用液相色谱、亲水相互作用液 相色谱、亚临界流体色谱、高压液相色谱和溶剂化气相色谱的色谱材料，所述材料减轻或避 免保留漂移或改变同时展示有用的总体保留，以及相应的仪器、试剂盒、生产方法和使用方 法。
[0003] 发明背景 用于流体或液相色谱的填充材料可以通常地分为两类：有机材料(例如，聚二乙烯基 苯）和无机材料(例如，二氧化硅)。很多有机材料对强碱流动相和强酸流动相是化学稳定 的，允许对流动相组成和PH灵活选择。然而，有机色谱材料可以导致柱的低效率，特别地对 低分子量的分析物。很多有机色谱材料不但缺少典型的色谱二氧化硅的机械强度，而且当 流动相组成改变时还会收缩和膨胀。
[0004] 二氧化硅广泛地用于高效液相色谱（HPLC)、超高效液相色谱（UHPLC)和超临界流 体色谱（SFC)。一些应用使用具有例如十八烷基（C18)、辛烷基（C8)、苯基、氨基、氰基等的 有机官能团的表面衍生的二氧化硅。如用于HPLC的固定相，这些填充材料可以导致具有高 效率并且不会显示收缩或膨胀迹象的柱。
[0005] 杂化材料可以提供对基于二氧化硅的填充材料经历的某些色谱问题的解决方案。 杂化材料可以提供包含改善的高和低pH稳定性、机械稳定性、在pH 7使用时的峰形、效率、 保持力和期望的色谱选择性的改善。
[0006] 然而，对于在其它应用中常规杂化材料和二氧化硅材料可存在潜在的问题。一个 问题是当在低PH使用时，对于碱的弱峰形，这在低pH使用时对载荷能力和峰容量有负面影 响。另一个问题是在柱暴露于反复改变的流动相pH (例如从pHIO到pH3反复转换）后，酸 性和碱性分析物的保留时间的改变(称为"漂移")。
[0007] 另一个问题是例如在具有少量水(例如，小于5%、小于1%)的色谱模式中的保 留漂移或改变。例如，在标准SFC条件下观察到对键合和不键合的基于二氧化硅和基于 有机-无机杂化（例如，可获自 Waters Technologies Corporation，Milford MA 的 BEH Technology?材料)的色谱相的保留漂移或改变。其它SFC固定相也可以展现出相似的保 留漂移或变化。
[0008] 发明概述 在多个方面和实施方案中，本发明提供了用于正相色谱、超临界流体色谱、基于二氧 化碳的色谱、疏水相互作用液相色谱、亲水相互作用液相色谱、亚临界流体色谱、高压液相 色谱和溶剂化气相色谱的色谱材料，其减轻或避免保留漂移或改变同时展示有用的总体保 留，以及相应的仪器、试剂盒、生产方法和使用方法。
[0009] 本发明有利地减轻或避免保留漂移或改变同时展示有用的总体保留。例如，在SFC 中，保留漂移或改变可以(在多种其它理论中)归因于在用于SFC的标准C02/Me0H流动相(和 /或通过其它醇共溶剂）下，在颗粒上溶剂可及的硅醇的烷氧基化。这是一个问题，因为当 柱老化时使用者观察到在其SFC系统上获得的色谱的改变(例如，保留时间)，并且当新的非 烷氧基化的柱安装于所述系统上时，再次观察到所述色谱的改变。
[0010] 在多个方面和实施方案中，本发明通过选择和/或修饰色谱材料，提供对这些保 留漂移或改变和相关问题(例如，保留、峰形等）的多个解决方法。例如，本发明包括专门的 色谱芯表面的官能化(例如，用特定的官能团和其组合物)，其主要防止分析物和色谱芯表 面的色谱相互作用，这维持了期望的分析物和色谱材料之间的相互作用。
[0011] 在其它多个方面和实施方案中，本发明涉及利用赋予二氧化硅的、聚合的或杂化 的材料(包括但不限于颗粒的、整体料的（monoliths)、球面的、非球面的、粒状的、完全多孔 的和表面多孔的）的表面高密度反应性表面修饰基团的化学过程。在与选择性诱导配体偶 联并水解未反应的表面修饰基团后，实现多组分表面。本发明的产物显著减少了与基础颗 粒表面的二次相互作用(例如，不期望的相互作用，非特异性的吸附作用）。分析物与材料表 面的二次相互作用可以因为硅醇、疏水侧基和聚合物或杂化主链发生。最初的包覆可以使 用其本身作为色谱相，通过中和反应部分(例如，水解作用）或没有进一步的修饰（g卩，胺或 羧酸酯相)，或表面可以通过一个或更多个选择性诱导配体共价结合进一步修饰。
[0012] 在多个方面和实施方案中，本发明提供了众多优点。例如，本发明可以提供能够 以优秀的保留、峰容量和峰形解析所有类型的分析物(例如，酸性、碱性和中性）的单一固定 相。在多个实例中，本发明可以有效地对目的分析物掩蔽硅醇，产生可预期的并且稳定的色 谱分离。在多个实例中，本发明可以有效地消除由于不期望的支持表面与分析物的相互作 用导致的保留漂移或改变。本发明可以特别有效地在二氧化硅或二氧化硅杂化材料上掩蔽 硅醇。在多个实例中，本发明可以改善所有类型分析物(但尤其对碱）的峰容量和拖尾。在 多个实例中，本发明可以避免孔堵塞，不论是否与低聚的硅氧烷键合(例如，与多孔二氧化 硅材料的常规的聚合的涂覆相比，所述涂覆可以导致孔的堵塞，显著减少材料可用的表面 积并且导致不均一的表面一尽管在本发明促进了硅烷低聚化，但没有孔堵塞或表面积减 少的证据)。
[0013] 本发明包含多个额外的优点，包括但不限于，通过选择/设计化学修饰的选择/设 计选择性的能力。
[0014] 在一个方面中，本发明提供用于正相色谱、高压液相色谱、溶剂化气相色谱、超临 界流体色谱、亚临界流体色谱、基于二氧化碳的色谱、亲水相互作用液相色谱或疏水相互作 用液相色谱的色谱固定相材料，由式l:[x] (W)a (Q)b (T)。（式1)表示。X可以是具有包 含二氧化硅芯材料、金属氧化物芯材料、无机-有机杂化材料或一组其嵌段共聚物的高纯 度色谱芯组合物。W可以在X表面上不存在和/或可以包含氢和/或可以包含羟基。Q可 以是在使用低的水浓度的色谱条件下，最小化随时间的保留变化(漂移）的官能团。T可以 包括与分析物进行色谱地相互作用的一个或更多个亲水的、极性的、可电离的和/或带电 荷的官能团。此外，b和c可以是正数，具有0.05彡（b/c)彡100的比例，并且a彡0。
[0015] 在另一个方面中，本发明提供了由式I: [X] (W)a (Q)b (T)。（式1)表示的色谱 固相材料。X可以是包括基于二氧化娃、基于金属氧化物或基于无机-有机杂化物的芯表面 的色谱芯材料。W可以在X表面上不存在和/或可以包括氢和/或可以包括羟基。Q可以 包括主要防止分析物与X和W之间发生色谱相互作用的一个或更多个官能团，使得Q的第 一部分结合至X并且Q的一部分是聚合的。T可以包含一个或更多个亲水的、极性的、可电 离的和/或带电荷的官能团，与分析物进行色谱地相互作用，使得T的第三部分结合至Q，T 的第四部分结合至X，并且T的第四部分是聚合的。此外，b和c可以是正数，具有0.05 < (b/c)彡100的比例，并且a彡0。
[0016] 在一个或更多个实施方案中，Q由以下表示：
【权利要求】
1. 色谱固定相材料，其用于正相色谱、高压液相色谱、溶剂化气相色谱、超临界流体色 谱、亚临界流体色谱、基于二氧化碳的色谱、亲水相互作用液相色谱或疏水相互作用液相色 谱，通过式1表示： 技](W)a (曲 b(T)c 式 1 其中： X是高纯度色谱芯组合物，其具有包含二氧化娃芯材料、金属氧化物芯材料、无机-有 机杂化材料或一组其嵌段共聚物的表面； W在X的表面上不存在和/或包括氨和/或包括轻基； Q是官能团，其在使用低水浓度的色谱的条件下最小化随时间的保留变化(漂移）； T包含与分析物进行色谱地相互作用的一个或更多个亲水的、极性的、可电离的和/或 带电荷的官能团；并且 b和C是正数，0.05《化/c)《100,并且a > 0。
2. 色谱固定相材料，其由式1表示： 技](W)a(曲b(T)c 式 1 其中： X是色谱芯材料，其包含基于二氧化娃的、基于金属氧化物的或基于无机-有机杂化的 芯表面； W在X的表面上不存在和/或包括氨和/或包括轻基； Q包含主要防止分析物与X和W之间的色谱地相互作用的一个或更多个的官能团，其中 Q的第一部分与X结合，并且Q的一部分（section化action)是聚合的； T含有与分析物色谱地相互作用的一个或更多个亲水的、极性的、可电离的和/或带电 荷的官能团，其中T的第H部分与Q结合，T的第四部分与X结合，并且T的第四部分是聚 合的；并且 b和C是正数，0.05《化/c)《100,并且a > 0。
3. 权利要求1或2的色谱固定相，其中Q由W下表示：
其中： ni是0-30的整数； n2是0-30的整数 R1、R2、R3和R4的每次出现独立地表示氨、氣、甲基、己基、正了基、叔了基、异丙基、低碳 焼基、保护的或脱保护的醇、两性离子或Z基团；其中Z基团含有： a)表面连接基团，具有式： 炬 i)x 巧 5)y(R6)zSi-其中X是1-3的整数，
y是0-2的整数， Z是0-2的整数， 并且 x+y+z = 3 R5和R6的每次出现独立地表不甲基、己基、正了基、异了基、叔了基、异丙基、叔己基 (thexyl)、取代的或未取代的芳基、环焼基、支链焼基、低碳焼基、保护的或脱保护的醇、或 两性离子基团；并且 Bi表示娃氧焼键； b)对表面有机官能杂化基团（surface organofunctional hybrid group)的连接，通 过直接的碳-碳键形成或通过杂原子、醋、離、硫離、胺、醜胺、醜亚胺、脈、碳酸醋、氨基甲酸 醋（carbamate)、杂环、H哇、或聚氨醋（urethane)连接进行；或 C)吸附的表面基团，其不共价地连接到材料表面；Y是嵌入的极性官能团；并且 A表示 i. )亲水末端基团； ii. )氨，氣，甲基，己基，正了基，叔了基，异丙基，低碳焼基，或基团Z ;或 iii. )可官能化的基团。
4.权利要求1或2的色谱固定相，其中T由W下中的一个表示：
或其组合物 其中 m是0-30的整数； m'是0-30的整数； m"是0-3的整数； Z表不： a)表面连接基团，具有式 炬l)x 巧5)y(R6)zSi-其中X是1-3的整数，
y是0-2的整数， Z是0-2的整数， 并且 x+y+z = 3 R5和R6的每次出现独立地表不甲基、己基、正了基、异了基、叔了基、异丙基、叔己基、 取代的或未取代的芳基、环焼基、支链焼基、低碳焼基、保护的或脱保护的醇、或两性离子基 团； Bi表示娃氧焼键；其中护、R7'和R7"各自表示氨，甲基，己基，正了基，异了基，叔下 基，异丙基，叔己基，苯基，支链的焼基或低碳焼基； b)对表面有机官能杂化基团的连接，通过直接的碳-碳键形成或通过杂原子、醋、離、 硫離、胺、醜胺、醜亚胺、脈、碳酸醋、氨基甲酸醋、杂环、H哇、或聚氨醋连接进行；或 C)吸附的表面基团，其不共价连接到材料表面。
5. 权利要求1或2的色谱固定相，其中b和C是正数，0.05《化/c)《100，并且a >0。
6. 权利要求1或2的色谱固定相，其中Q和T是不同的。
7. 权利要求1或2的色谱固定相，其中Q和T是相同的。
8. 权利要求1或2的色谱固定相，其中Q包含两个或更多个不同的结构部分。
9. 权利要求1或2的色谱固定相，其中T包含两个或更多个不同的结构部分。
10. 权利要求2的色谱固定相，其中第一、第二、第H、第四和第五部分各自独立地为约 0-100、1-99、5-95、10-90、20-80、30-70、40-60、0、5、10、15、20、25、30、35、40、45、50、55、60、 65、70、75、80、85、90 或 95 〇/〇。
11. 权利要求1或2的色谱固定相，其中Q是非极性的。
12. 权利要求1或2的色谱固定相，其中Q由W下中的一个表示：
其中Z包含：
a) 表面连接基团，具有式 炬l)x 巧5)y(R6)zSi- 其中X是1-3的整数， y是0-2的整数， Z是0-2的整数， 并且 x+y+z = 3 R5和R6的每次出现独立地表示甲基，己基，正下基，异下基，叔下基，异丙基，叔己基， 取代的或未取代的芳基，环焼基，支链焼基，低碳焼基，保护的或脱保护的醇，或两性离子基 团；并且 Bi表示娃氧焼键； b) 对表面有机官能杂化基团的连接，通过直接的碳-碳键形成或通过杂原子、醋、離、 硫離、胺、醜胺、醜亚胺、脈、碳酸醋、氨基甲酸醋、杂环、H哇、或聚氨醋连接进行；或 C)吸附的表面基团，其不共价连接到材料表面。
13.权利要求1或2的色谱固定相，其中T由W下中的一个表示：
其中Z包含： a)表面连接基团，具有式 炬l)x 巧5)y(R6)zSi-其中X是1-3的整数， y是0-2的整数， Z是0-2的整数， 并且 x+y+z = 3 R5和R6的每次出现独立地表示甲基，己基，正下基，异下基，叔下基，异丙基，叔己基，
取代的或未取代的芳基，环焼基，支链焼基，低碳焼基，保护的或脱保护的醇，或两性离子基 团；并且 Bi表示娃氧焼键； b)对表面有机官能杂化基团的连接，通过直接的碳-碳键形成或通过杂原子、醋、離、 硫離、胺、醜胺、醜亚胺、脈、碳酸醋、氨基甲酸醋、杂环、H哇、或聚氨醋连接进行；或 C)吸附的表面基团，其不共价连接到材料表面。
14. 权利要求1或2的色谱固定相，其中X是高纯度色谱材料，其具有在色谱条件下通 过色谱流动相经历焼氧基化的芯表面。
15. 权利要求1或2的色谱固定相，其中X是色谱材料，其具有在色谱条件下通过色谱 流动相经历焼氧基化的芯表面。
16. 权利要求1或2的色谱固定相，其中Q包含的官能团是二醇。
17. 权利要求1或2的色谱固定相，其中由T包含的官能团为胺、離、硫離或其组合。
18. 权利要求1或2的色谱固定相，其中T包含适用于手性分离的手性官能团，Q包含 适用于手性分离的手性官能团，或者T和Q包含适用于手性分离的手性官能团。
19. 权利要求1或2的色谱固定相，其中b/c为约0. 05-75、0. 05-50、0. 1、0. 2、0. 3、0. 4、 0. 5.0.6、0.7、0.8、0.9、1、5、10、15、20、25、30、35、40、45、50、60、70、80 或90。
20. 权利要求1或2的色谱固定相，其中X的表面不包含二氧化娃，并且b=0或c=0。
21. 权利要求1或2或20的色谱固定相，其中组合的表面覆盖范围大于约0. 8、0. 9、 1. 0、1. 1、1. 2、1. 3、1. 4、1. 5、1. 6、1. 7、1. 8、1. 9、2. 0、2. 1、2. 2、2. 3、2. 4、2. 5、2. 6、2. 7、2. 8、 2. 9、3. 0、3. 1、3. 2、3. 4、3. 5、3. 6、3. 7、3. 8、3. 9、4、5、6、7、或 8 帕ol/m2。
22. 权利要求1或2的色谱固定相，其中所述色谱固定相展示的保留漂移或改变《5% 超过30天、《4%超过30天、《3%超过30天、《2%超过30天、《1%超过30 天、《5%超过10天、《4%超过10天、《3%超过10天、《2%超过10天、《1% 超过10天、《5%超过3天、《4%超过3天、《3%超过3天、《2%超过3天、《 1%超过3天、《5%超过30次运行、《4%超过30次运行、《3%超过30次运行、 《2%超过30次运行、《1%超过30次运行、《5%超过10次运行、《4%超过10 次运行、《3%超过10次运行、《2%超过10次运行、《1%超过10次运行、《5% 超过3次运行、《4%超过3次运行、《3%超过3次运行、《2%超过3次运行、或 《1%超过3次运行。
23. 权利要求1或2的色谱固定相，其中色谱芯材包含表面多孔材料。
24. 权利要求1或2的色谱固定相，其中固定相芯材料主要由具有杂化包围层的无机材 料、具有无机表层的杂化材料、或具有不同杂化表层的杂化材料组成。
25. 权利要求1或2的色谱固定相，其中所述固定相材料是W多个微粒的形式。
26. 权利要求1或2的色谱固定相，其中所述固定相材料是W整体料的形式。
27. 权利要求1或2的色谱固定相，其中所述固定相材料是W表面多孔材料的形式。
28. 权利要求1或2的色谱固定相，其中所述固定相材料不具有色谱增强作用的孔几何 结构。
29. 权利要求1或2的色谱固定相，其中所述固定相材料具有色谱增强作用的孔几何结 构。
30. 权利要求28或29的色谱固定相，其中所述固定相材料具有约25至1100 mVg的 表面积。
31. 权利要求28或29的色谱固定相，其中所述固定相材料具有约150至750 mVg的 表面积。
32. 权利要求28或29的色谱固定相，其中所述固定相材料具有约300至500 mVg的 表面积。
33. 权利要求28或29的色谱固定相，其中所述固定相材料具有约0.2至2.0 cmVg 的孔容积。
34. 权利要求28或29的色谱固定相，其中所述固定相材料具有约0.7至1.5 cm3/g 的孔容积。
35. 权利要求28或29的色谱固定相，其中所述固定相材料具有小于约105 mVg的微 孔表面积。
36. 权利要求28或29的色谱固定相，其中所述固定相材料具有小于约80 mVg的微 孔表面积。
37. 权利要求28或29的色谱固定相，其中所述固定相材料具有小于约50 m2/g的微孔 表面积。
38. 权利要求28或29的色谱固定相，其中所述固定相材料具有约20至1500 A的平 均孔径。
39. 权利要求28或29的色谱固定相，其中所述固定相材料具有约50至1000 A的平 均孔径。
40. 权利要求28或29的色谱固定相，其中所述固定相材料具有约60至750 A的平均 孔径。
41. 权利要求28或29的色谱固定相，其中所述固定相材料具有约65至200 A的平均 孔径。
42. 权利要求25的色谱固定相，其中所述多个微粒具有约0. 2至100微米之间的尺寸。
43. 权利要求25的色谱固定相，其中所述多个微粒具有约0. 5至10微米之间的尺寸。
44. 权利要求25的色谱固定相，其中所述多个微粒具有约1. 5至5微米之间的尺寸。
45. 权利要求1或2的色谱固定相，其中 X 包括二氧化娃芯，c=0,并且 Q 具有 > 2. 5、2. 6、2. 7、2. 8、2. 9、3. 0、3. 5、4. 0、4. 5 或 5 帕〇l/m2的组合的表面覆盖范围；或 X包括非二氧化娃芯或二氧化娃-有机杂化芯，c=0,并且Q具有> 0. 5、0. 6、0. 7、0. 8、 0. 9、1. 0、1. 1、1. 2、1. 3、1. 4、1. 5、1. 6、1. 7、1. 8、1. 9、2. 0、2. 5、3. 0、3. 5、4. 0、4. 5 或 5 帕〇1/ m2的组合的表面覆盖范围；或 b〉0、c〉0,并且 Q 具有 > 0.5、0.6、0.7、0.8、0.9、1.0、1.1、1.2、1.3、1.4、1.5、1.6、 1. 7、1. 8、1. 9、2. 0、2. 5、3. 0、3. 5、4. 0、4. 5 或 5 帕ol/m2 的组合的表面覆盖范围。
46. 权利要求1或2的色谱固定相，其中所述色谱固定相适用于正相色谱。
47. 权利要求1或2的色谱固定相，其中所述色谱固定相适用于超临界流体色谱。
48. 权利要求1或2的色谱固定相，其中所述色谱固定相适用于基于二氧化碳的色谱。
49. 权利要求1或2的色谱固定相，其中所述色谱固定相适用于疏水相互作用流体色 谱。
50. 色谱固定相材料，通过式1表示： 技](W)a (曲 b(T)c 式 1 其中： X是色谱芯材料，其在正相色谱、超临界流体色谱、基于二氧化碳的色谱或疏水相互作 用流体色谱条件下发生保留漂移； W在X的表面上不存在和/或包括氨和/或包括轻基； Q包含主要防止分析物与X和W之间色谱的相互作用的官能团，； T包含与分析物色谱地相互作用的官能团，并且通过Q与X结合；并且 b和C是正数，0.05《化/c)《100,并且a > 0。
51. 权利要求2或50的色谱固定相，其中所述色谱固定相材料适用于正相色谱、超临界 流体色谱、亚临界流体色谱、基于二氧化碳的色谱、疏水作用液相色谱、高压液相色谱、溶剂 化气相色谱或其组合。
52. 权利要求1、2或50的色谱固定相材料，其中所述色谱固定相包含径向调整的孔、非 径向调整的孔、有序的孔、无序的孔、单分散的孔、非单分散的孔、光滑表面、粗趟表面或W 上的组合。
53. 权利要求1、2或50的色谱固定相材料，其中T具有一个可电离基团，T具有多于一 个可电贸基团，T具有两个或更多具有相同pKa的可电贸基团或T具有两个或更多具有不 同pKa的可电离基团。
54. 柱、毛细管柱、微流体柱装置或仪器，其用于正相色谱、高压液相色谱、溶剂化气相 色谱、超临界流体色谱、亚临界流体色谱、基于二氧化碳的色谱、亲水相互作用液相色谱或 疏水相互作用液相色谱，其包含： 界定具有入口和出口的室的具有至少一个壁的壳体，和其中配置的根据权利要求1-51 中任意一项的固定相，其中壳体和固定相适用于正相色谱、超临界流体色谱、基于二氧化碳 的色谱或疏水相互作用液相色谱。
55. 试剂盒，其用于正相色谱、高压液相色谱、溶剂化气相色谱、超临界流体色谱、亚临 界流体色谱、基于二氧化碳的色谱、亲水相互作用液相色谱或疏水相互作用液相色谱，其包 含： 界定具有入口和出口的室的壳体具有至少一个壁，和其中配置的根据权利要求1-51 任一项的固定相，其中壳体和固定相适用于正相色谱、超临界流体色谱、基于二氧化碳的色 谱或疏水相互作用液相色谱；和 用于使用壳体和固定相进行正相色谱、超临界流体色谱、基于二氧化碳的色谱或疏水 相互作用液相色谱的说明书。
56. 制备根据权利要求1-51任一项的固定相的方法，其包括： 使芯表面与具有侧链反应基团的娃焼偶联剂反应； 使包含一个或更多个亲水的、极性的、可电离的和/或带电荷的官能团的第二化学试 剂与侧链反应基团反应；并且 中和任何剩余的未反应的侧链反应基团， 由此产生根据权利要求1-51任一项的固定相。
57. 制备根据权利要求1-51任一项的固定相的方法，其包括： 低聚化具有侧链反应基团的娃焼偶联剂； 使芯表面与低聚的娃焼偶联剂反应； 使包含一个或更多个亲水的、极性的、可电离的和/或带电荷的官能团的第二化学试 剂与侧链反应基团反应；并且 中和任何剩余的侧链反应基团， 由此产生根据权利要求1-51任一项的固定相。
58. 权利要求54或55中的方法，其中Q衍生自具有一个或W下结构的反应物：
59. 权利要求54或55中的方法，其中T衍生自一个或W下结构的反应物：
60. -种用于在正相色谱、高压液相色谱、溶剂化气相色谱、超临界流体色谱、亚临界流 体色谱、基于二氧化碳的色谱、亲水相互作用液相色谱或疏水相互作用液相色谱中减轻或 防止漂移保留的方法，其包含： 使用含有根据权利要求1-51任一项的色谱固定相的色谱装置色谱地分离样本，由此 减轻或防止保留漂移。
61. 权利要求58的方法，其中减轻或防止保留漂移包括保留漂移《5%超过30天、 《4%超过30天、《3%超过30天、《2%超过30天、《1%超过30天、《5%超 过10天、《4%超过10天、《3%超过10天、《2%超过10天、《1%超过10天、 《5%超过3天、《4%超过3天、《3%超过3天、《2%超过3天、《1%超过3 天、《5%超过30次运行、《4%超过30次运行、《3%超过30次运行、《2%超过 30次运行、《1%超过30次运行、《5%超过10次运行、《4%超过10次运行、《 3%超过10次运行、《2%超过10次运行、《1%超过10次运行、《5%超过3次运 行、《4%超过3次运行、《3%超过3次运行、《2%超过3次运行、或《1%超过3 次运行。
62. 权利要求58的方法，其中减轻或防止保留漂移包括基本上消除色谱材料的焼氧基 化作用和/或脱焼氧基化作用对保留的影响。
【文档编号】B01J20/32GK104428045SQ201380037761
【公开日】2015年3月18日 申请日期:2013年5月15日 优先权日:2012年5月15日
【发明者】K.D.怀恩罕, M.F.莫里斯, D.W.布劳斯米歇, J.F.希尔, J.N.费尔蔡尔德 申请人:沃特世科技公司