本实用新型涉及一种细化筛分装置，具体来说是涉及一种用于原药合成的细化筛分装置。
背景技术：
在农药原药合成过程中，对原药的细化筛分可进一步提升农药的产品品质，可制出颗粒大小均等，杂质更少的优质农药；目前，现有的原药筛分多只是通过筛网简单的进行此道工序，不仅效率较低，且无法更精细化的进一步提升农药产品的品质，且劳动强度较大，设备利用率较低。
技术实现要素：
本实用新型的目的是为了解决上述所存在的缺陷，提供一种能耗低，细化筛分效率高的用于原药合成的细化筛分装置。
为实现上述目的，本实用新型的技术方案如下：
一种用于原药合成的细化筛分装置，包括机架和配电箱，所述配电箱设在机架内，所述机架底部设有通过配电箱电驱动的行走轮，其特征在于：还包括筛分装置、粉碎细化装置、灰尘收集装置、细料收集仓和粗料收集仓，所述机架由进料腔、筛分腔和集料腔构成，所述进料腔的一侧上方设有进料口，在所述进料口的下方一侧设有导流板，所述进料腔与筛分腔之间设有挡板，所述挡板的中央开有豁口，所述粉碎细化装置搭设在豁口上，所述筛分装置设在筛分腔内，所述筛分腔内还设有磁铁块，所述细料收集仓和粗料收集仓均设在集料腔内，所述细料收集仓正对筛分装置设置，所述粗料收集仓设在细料收集仓的一侧，所述灰尘收集装置设在机架的一侧。
作为优选的技术方案，所述粉碎细化装置由第一粉碎刀轴、第二粉碎刀轴、粉碎刀和刀轴固定块构成，所述刀轴固定块固定设在豁口的两侧，所述第一粉碎刀轴和第二粉碎刀轴平行固定在刀轴固定块上，所述第一粉碎刀轴和第二粉碎刀轴上等间距均设有15~20排粉碎刀。
作为优选的技术方案，所述筛分装置由第一筛网、第二筛网、第一激振器、第二激振器、第三激振器和动力机构构成，所述第一筛网设在第一激振器与第二激振器之间，所述第二筛网设在第二激振器与第三激振器之间，所述第一筛网和第二筛网自上而下交错倾斜设置，所述动力机构与第一激振器、第二激振器和第三激振器连接。
作为优选的技术方案，所述灰尘收集装置由引风机、集灰箱、引风风道和调节风门构成，所述集灰箱与引风机连接，所述引风机通过引风风道与筛分腔连通，所述调节风门设在引风风道内。
作为优选的技术方案，还包括磁铁块保护罩，所述磁铁块保护罩罩设磁铁块设置。
作为优选的技术方案，还包括细料传送机，所述细料传送机设在细料收集仓的下方。
本实用新型的有益效果为：精细化程度更高，可进一步提成原药的产品品质，降低残次品率，提高生产效率，同时，设备的能耗较低，使用率较高。
附图说明
图1为本实用新型一种用于原药合成的细化筛分装置的结构示意图；
具体实施方式
为使对本实用新型的结构特征及所达成的功效有更进一步的了解与认识，用以较佳的实施例及附图配合详细的说明，说明如下：
如图1所示，一种用于原药合成的细化筛分装置，包括机架1和配电箱2，配电箱2设在机架1内，机架1底部设有通过配电箱2电驱动的行走轮3，还包括筛分装置4、粉碎细化装置5、灰尘收集装置6、细料收集仓7和粗料收集仓8，机架1由进料腔1-1、筛分腔1-2和集料腔1-3构成，进料腔1-1的一侧上方设有进料口9，在进料口9的下方一侧设有导流板10，进料腔1-1与筛分腔1-2之间设有挡板11，挡板11的中央开有豁口11-1，粉碎细化装置5搭设在豁口11-1上，筛分装置4设在筛分腔1-2内，筛分腔1-2内还设有磁铁块12，细料收集仓7和粗料收集仓8均设在集料腔1-3内，细料收集仓7正对筛分装置4设置，粗料收集仓8设在细料收集仓7的一侧，灰尘收集装置6设在机架1的一侧。
在本实施例中，粉碎细化装置5由第一粉碎刀轴5-1、第二粉碎刀轴5-2、粉碎刀5-3和刀轴固定块5-4构成，刀轴固定块5-4固定设在豁口11-1的两侧，第一粉碎刀轴5-1和第二粉碎刀轴5-2平行固定在刀轴固定块5-4上，第一粉碎刀轴5-1和第二粉碎刀轴5-2上等间距均设有15~20排粉碎刀5-3。
在本实施例中，筛分装置4由第一筛网4-1、第二筛网4-2、第一激振器4-3、第二激振器4-4、第三激振器4-5和动力机构4-6构成，第一筛网4-1设在第一激振器4-3与第二激振器4-4之间，第二筛网4-2设在第二激振器4-4与第三激振器4-5之间，第一筛网4-1和第二筛网4-2自上而下交错倾斜设置，动力机构4-6与第一激振器4-3、第二激振器4-4和第三激振器4-5连接。
在本实施例中，灰尘收集装置6由引风机6-1、集灰箱6-2、引风风道6-3和调节风门6-4构成，集灰箱6-2与引风机6-1连接，引风机6-1通过引风风道6-3与筛分腔1-2连通，调节风门6-4设在引风风道6-3内。
在本实施例中，还包括磁铁块保护罩13，磁铁块保护罩13罩设磁铁块12设置；还包括细料传送机14，细料传送机14设在细料收集仓7的下方。
综上所述，仅为本实用新型的较佳实施例而已，并非用来限定本实用新型实施的范围，凡依本实用新型权利要求范围所述的形状、构造、特征及精神所为的均等变化与修饰，均应包括于本实用新型的权利要求范围内。