触控显示装置的制作方法

本发明涉及显示技术领域，且特别涉及一种触控显示装置。

背景技术：

随着科学技术的发展，带有显示面板的显示装置的用途越来越广泛，使得人们对目前显示发展对触控性能要求越来越多，且技术发展趋势为显示面板集成触控一体方案(内嵌式)取代外挂式触控方案。

内嵌式触控显示装置的触控检测结构一般应用于平行电场技术液晶显示器件(ips-lcd)，触控电极集成在阵列基板上，并与阵列基板中的显示电极或者金属走线分时复用或者同层形成，以减少工艺制程、降低成本并减薄触控显示装置的厚度；而目前的电控双折射液晶显示(ecb-lcd)、扭曲向列型液晶显示器件(tn-lcd)、垂直配向技术液晶显示器件(va-lcd)等主流反射式液晶显示器件，通常包括阵列基板、彩膜基板与背光模组，阵列基板位于彩膜基板与背光模组之间，彩膜基板上设置有公共电极，与位于阵列基板上的像素电极具有一个电压差，形成垂直电场，用以驱动液晶层内的液晶分子，使之发生状态变化，使透过液晶层的光线的偏振方向发生变化，实现图像显示。原ips-lcd采用的内嵌式触控显示方案若应用在前述垂直电场显示技术中，就导致使用人员(观看者或者触控操作者)与触控检测结构之间间隔有整面或大面积的显示用电极，一般接入公共信号，当在阵列基板一侧做内嵌式触控集成设计时，外部触控信号会被位于上玻璃基板一侧的显示用电极层如公共电极屏蔽，导致触控信号无效，无法实现触控功能。

技术实现要素：

本发明的目的在于提供一种反射式触控显示装置，以解决现有反射式液晶显示器件存在的外部触控信号会被位于上基板一侧的显示用电极屏蔽，无法实现触控功能的问题。

本发明提供一种触控显示装置，包括：上基板、下基板、以及位于所述上基板与所述下基板之间的液晶层；所述上基板包括触控检测结构与呈阵列排布的像素单元，所述像素单元包括开关元件与像素电极，所述下基板包括公共电极与反射层，所述反射层用于反射外部光线，所述外部光线为从所述触控显示装置外依次射向所述上基板、液晶层并入射至所述反射层的光线。

与现有技术相比，本发明所提供的技术方案具有以下优点：本发明提供的触控显示装置，包括：上基板、下基板、以及位于所述上基板与所述下基板之间的液晶层；所述上基板包括触控检测结构与呈阵列排布的像素单元，所述像素单元包括开关元件与像素电极，所述下基板包括公共电极与反射层，所述反射层用于反射外部光线，所述外部光线为从所述触控显示装置外依次射向所述上基板、液晶层并入射至所述反射层的光线。在本实施例提供的触控显示装置中，设置有触控检测结构的阵列基板位于液晶层的朝向使用人员(观看者或者触控操作者)的一侧，公共电极与反射层都位于液晶层的远离使用人员的一侧，即触控检测结构与使用人员之间不含有整面或大面积的公共电极等显示用电极，由使用人员提供的外部触控信号不会被整面或大面积的公共电极等显示用电极屏蔽，从而可以更好的实现触控功能。

附图说明

通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述，本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显：

图1是本发明一实施例提供的触控显示装置的截面图；

图2是图1所示触控显示装置的触控检测结构示意图；

图3是本发明另一实施例提供的触控显示装置的截面图；

图4是本发明又一实施例提供的触控显示装置的截面图；

图5是本发明又一实施例提供的触控显示装置的截面图；

图6是本发明又一实施例提供的触控显示装置的截面图；

图7是本发明又一实施例提供的触控显示装置的截面图；

图8是本发明又一实施例提供的触控显示装置的截面图；

图9是图8所示触控显示装置的像素结构示意图；

图10是本发明再一实施例提供的触控显示装置的截面图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论，但在适当情况下，所述技术、方法和设备应当被视为说明书的一部分。

在这里示出和讨论的所有例子中，任何具体值应被解释为仅仅是示例性的，而不是作为限制。因此，示例性实施例的其它例子可以具有不同的值。

应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步讨论。

首先，本发明提供一种触控显示装置，具体请参考图1、2所示，图1是本发明一实施例提供的触控显示装置的截面图，图2是图1所示触控显示装置的触控检测结构示意图，该触控显示装置为反射式触控显示装置，包括上基板10、与上基板10相对设置的下基板20、以及位于上基板10与下基板20之间的液晶层30,其中，上基板10位于使用人员(或者说人眼)与下基板20之间。

在本实施例中，上基板10为阵列基板，阵列基板包括以玻璃等透明材料做成的上衬底基板11，以及设置于上衬底基板11上的触控检测结构12，触控检测结构12位于上衬底基板11朝向下基板20的一侧。在本发明的实施方式中，该触控检测结构的触控模式可以为自电容式或者互电容式，也可以是压力感应触控。以自电容为例，触控检测结构12包括阵列排布的多个触控电极121，各触控电极121分别通过触控信号线122电连接至触控芯片用以接收检测信号的端口，以及触控芯片用以输出扫描信号的端口，用户触摸时，对应于触摸位置的触控电极121与地之间的电容会发生变化，进而使得触摸位置的触控电极121上的检测信号会发生变化，进而使得触控芯片可通过接收到的检测信号，确定触控位置，使显示面板执行相应的操作。其中触控电极的材质可以为导电金属或者透明导电层，该透明导电层的材质例如可选用铟锡氧化物、铟锌氧化物、铝锡氧化物、铝锌氧化物、铟锗锌氧化物、或其它合适的氧化物、或者是上述至少二者的堆叠层。触控信号线122例如可以和触控电极121同一膜层形成，或者当触控电极121为氧化铟锡等透明导电材料形成时，触控信号线122也可以为通过另外设置的金属走线形成，以减少触控电阻，提高触控检测的灵敏性。

在本实施例中，上基板10还包括包括多条平行的数据线与多条平行的扫描线，该多条数据线与多条扫描线交叉设置界定多个呈阵列排布的像素单元。每个像素单元包括至少一条扫描线、至少一条数据线、至少一个开关元件t以及至少一个像素电极15。在本实施例中，其中，扫描线与数据线可选用金属材料，但本发明不限于此，也可以为合金、金属材料的氮化物、金属材料的氧化物、金属材料的氮氧化物、或是金属材料与其它导电材料的堆叠层。

每个开关元件t包括栅极t1、与栅极t1重叠的半导体沟道t2、设置在栅极t1与半导体沟道t2之间的栅绝缘层13、以及分别与半导体沟道t2两侧电连接的源极s与漏极d。开关元件t的栅极t1与扫描线电连接,开关元件t的源极s与数据线电连接。像素电极15与开关元件t的的漏极d电连接。在本实施例中，栅极t1与扫描线可选择性地为同一膜层所形成；触控信号线122例如也可以与扫描线为同一膜层所形成，源极s、漏极d与数据线可选择性地为同一膜层所形成，触控信号线122例如也可以与数据线为同一膜层所形成。然而，本发明并不以此为限，在其他实施例中，栅极与扫描线之间的膜层关系及/或源漏极与数据线之间的膜层关系可视实际的需求做其他适当设计。

像素电极15的材质例如可以为铟锡氧化物、铟锌氧化物、铝锡氧化物、铝锌氧化物、铟锗锌氧化物等透明导电材料。

进一步的，在本实施例中，触控电极121复用为存储电极，在每个像素单元内，存储电极与像素电极15形成存储电容，为每个像素单元提供存储电压，为了提高该触控显示装置的透光率，此时，触控电极121的材质例如可以为铟锡氧化物、铟锌氧化物、铝锡氧化物、铝锌氧化物、铟锗锌氧化物等透明导电材料。

在其他实施例中，也可以为，存储电极与触控检测结构独立设置，也就是说，存储电极为与触控电极不同的膜层结构。

进一步的，在本实施例中，上基板10还包括黑矩阵16，黑矩阵16位于上衬底基板11上，并对应设置于上基板上的金属走线及开关元件t所在的区域，其中该金属走线例如为上述扫描线、数据线、触控信号线等，在本发明中，黑矩阵16位于开关元件t、金属走线与上衬底基板11之间，用于遮挡金属走线与开关元件t的反光及漏光，并保护开关元件t,提高该开关元件的使用寿命。

在本实施例中，由于上基板10为阵列基板，黑矩阵16是制备在阵列基板上也即上基板上，而非形成在下基板上，当对上基板与下基板进行密封成盒时，明显减小了该触控显示装置对对盒精度的要求，黑矩阵16的形成区域与像素电极15的形成区域没有重叠，因此在不会对液晶显示面板的开口率造成影响，同时还避免了像素电极以外的区域产生漏光现象，有利于提高触控显示装置的显示性能。

进一步的，上基板10还包括平坦层17，平坦层17例如是具有透光性的有机绝缘膜，是为了使位于其上方的像素电极15形成为平坦状而吸收位于其下侧的金属走线(如扫描线、数据线等)、开关元件t等形成阶梯从而进行平坦化的。平坦层17上设置有过孔，像素电极15位于平坦层17的远离开关元件t、金属走线的一侧，通过过孔与主动元件t的漏极d电连接。平坦层17的材料可为无机材料(例如：氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、其它合适的材料、或上述至少两种材料的堆叠层)、有机材料、或其它合适的材料、或上述的组合。

下基板20包括下衬底基板21以及位于下衬底基板21上的反射层22与公共电极23，反射层22与公共电极23之间例如可以通过一间隔层间隔设置，但本实施例并不对该间隔层做限定。在本实施例中，公共电极23为透明导电电极，位于反射层22与液晶层30之间，在其他实施例中，也可以设置为反射层位于液晶层与公共电极之间，即公共电极设置于下衬底基板与反射层之间。其中，反射层22用于反射外部光线，所述外部光线例如为外部自然光，为从该触控显示装置外依次射向上基板、液晶层并入射至反射层22的光线。反射层22例如利用铝、银等金属材料通过蒸镀形成，或者以铝、银等金属材料作为一种成分的化合物、合金等设置。

根据来自扫描线的信号使得开关元件t分别独立地驱动像素电极15,根据来自数据线的信号而在像素电极15与公共电极23之间形成一电位差，驱动液晶层30的液晶分子发生状态变化。在该状态下，从上基板10一侧入射的外部光线经由液晶层30入射至下基板的反射层22上，并经反射层22反射至各像素电极15，由此，根据液晶层30的液晶分子的角度设定并基于像素电极15的透射率的反射光作为图像而显示。

进一步的，上基板与下基板的靠近液晶层的一侧还分别设置有配向膜，用于给液晶层的液晶分子提供一初始配向。

液晶层30例如能够使用ecb、tn、va模式等的各种模式。例如，该液晶层30为扭曲向列(tn)一常白(nw)模式。

在本实施例提供的触控显示装置中，对于每个像素单元，在像素电极与公共电极之间电压差的驱使下，液晶层的液晶分子发生旋转和/或扭曲等状态变化，并配合位于上衬底基板上的偏光装置，使得每个像素单元分时的具有关态和开态两种状态，当像素单元处于关态时，自反射层反射的光线不能通过该像素单元，此时该像素单元显示黑色；当像素单元处于开态时，自反射层反射的光线穿过该像素单元，此时该像素单元显示白色，通过控制与各个像素单元电性连接的数据线提供的数据信号，使得每个像素单元呈现不同图像需要的黑色或白色，进而使得该触控显示装置利用外界自然光(如日光)就可以实现黑白图像显示，无需另外设置背光源，节省功耗。

进一步的，在本实施例提供的触控显示装置中，设置有触控检测结构的阵列基板位于液晶层的朝向使用人员的一侧，公共电极与反射层都位于液晶层的远离使用人员的一侧，即触控检测结构与使用人员之间不含有整面或大面积的公共电极等显示用电极，由使用人员提供的外部触控信号不会被整面或大面积的公共电极等显示用电极屏蔽，从而可以更好的实现触控功能。

图3是本发明另一实施例提供的触控显示装置的截面图，该实施例提供的触控显示装置为反射式触控显示装置，包括上基板10、与上基板10相对设置的下基板20、以及位于上基板10与下基板20之间的液晶层30,其中，上基板10位于使用人员(或者说人眼)与下基板20之间。

在本实施例中，上基板10为阵列基板，且该阵列基板与图1、2提供的阵列基板的结构类似，包括触控检测结构与呈阵列排布的像素单元等，其中，触控检测结构包括触控电极与触控信号线，每个像素单元包括开关元件、像素电极、数据线、扫描线等。

在本实施例中，下基板20包括下衬底基板21，以及位于下衬底基板21上的反射层22、彩色滤光层c1与公共电极23。其中，反射层22用于反射外部光线，所述外部光线例如为外部自然光，为从该触控显示装置外依次射向上基板、液晶层并入射至反射层22的光线。反射层22例如利用铝、银等金属材料通过蒸镀形成，或者以铝、银等金属材料作为一种成分的化合物、合金等设置。彩色滤光层c1位于反射层22的朝向液晶层30的一侧，以使得自反射层22反射的光线会穿过彩色滤光层c1发射至液晶层30，该彩色滤光层c1例如可以包括红色色阻、绿色色阻与蓝色色阻，每个色阻分别与阵列基板上的一个像素单元对应设置，使得自每个像素单元出射的光线显示与之对应的颜色。相邻色阻例如可以通过黑矩阵间隔设置，以防止发生混色现象；也可以设置为，使得位于阵列基板上的黑矩阵覆盖相邻色阻之间的衔接区域，以防止发生混色现象。

液晶层30例如能够使用ecb、tn、va模式等的各种模式。例如，该液晶层30为扭曲向列(tn)一常白(nw)模式。

在本实施例提供的触控显示装置中，对于每个像素单元，在像素电极与公共电极的电压差驱使下，液晶层的液晶分子发生旋转和/或扭曲等状态变化，并配合位于上衬底基板上的偏光装置，使得每个像素单元分时的具有关态和开态两种状态，当像素单元处于关态时，自反射层反射的光线不能通过该像素单元，此时该像素单元显示黑色，当像素单元处于开态时，自反射层反射的光线通过该像素单元，此时该像素单元显示与该像素单元对应的色阻的颜色，通过控制与各个像素单元电性连接的数据线提供的数据信号，使得每个像素单元呈现不同图像需要的颜色，进而使得该触控显示装置利用外界自然光(如日光)就可以实现彩色图像显示，节省功耗。

进一步的，在本实施例提供的触控显示装置中，设置有触控检测结构的阵列基板位于液晶层的朝向使用人员的一侧，公共电极与反射层都位于液晶层的远离使用人员的一侧，即触控检测结构与使用人员之间不含有整面或大面积的公共电极等显示用电极，由使用人员提供的外部触控信号不会被整面或大面积的公共电极等显示用电极屏蔽，从而可以更好的实现触控功能。

图4是本发明又一实施例提供的触控显示装置的截面图，本实施例提供的触控显示装置为反射式触控显示装置，包括上基板10、与上基板10相对设置的下基板20、以及位于上基板10与下基板20之间的液晶层30,其中，上基板10位于使用人员(或者说人眼)与下基板20之间。

在本实施例中，上基板10为阵列基板，且该阵列基板例如可以与图1、2提供的阵列基板的结构类似，包括触控检测结构与呈阵列排布的像素单元等，其中，触控检测结构包括触控电极与触控信号线，每个像素单元包括开关元件、像素电极、数据线、扫描线等。下基板20包括下衬底基板21，以及位于下衬底基板21上的反射层22与公共电极23。其中，反射层22用于反射外部光线，所述外部光线例如为外部自然光，为从该触控显示装置外射向上基板并入射至反射层22的光线。反射层22例如利用铝、银等金属材料通过蒸镀形成，或者以铝、银等金属材料作为一种成分的化合物、合金等设置。

进一步的，在本实施例中，该触控显示装置还包括彩色滤光层c1，且彩色滤光层c1位于上基板10上，以使得自反射层22反射的光线会穿过彩色滤光层c1发射至液晶层30，该彩色滤光层c1例如可以包括红色色阻、绿色色阻与蓝色色阻，每个色阻分别与阵列基板上的一个像素单元对应设置，使得自每个像素单元出射的光线显示与之对应的颜色。相邻色阻例如可以通过黑矩阵间隔设置，以防止发生混色现象。

在本实施例提供的触控显示装置中，对于每个像素单元，在像素电极与公共电极的电压差驱使下，液晶层的液晶分子发生旋转和/或扭曲等状态变化，，并配合位于上衬底基板上的偏光装置，使得每个像素单元分时的具有关态和开态两种状态，当像素单元处于关态时，自反射层反射的光线不能通过该像素单元，此时该像素单元显示黑色，当像素单元处于开态时，自反射层反射的光线通过该像素单元，此时该像素单元显示与该像素单元对应的色阻的颜色，通过控制与各个像素单元电性连接的数据线提供的数据信号，使得每个像素单元呈现不同图像需要的颜色，进而使得该触控显示装置利用外界自然光(如日光)就可以实现彩色图像显示，节省功耗。

在本实施例提供的触控显示装置中，设置有触控检测结构的阵列基板位于液晶层的朝向使用人员的一侧，公共电极与反射层都位于液晶层的远离使用人员的一侧，即触控检测结构与使用人员之间不含有整面或大面积的公共电极等显示用电极，由使用人员提供的外部触控信号不会被整面或大面积的公共电极等显示用电极屏蔽，从而可以更好的实现触控功能。

图5是本发明又一实施例提供的触控显示装置的截面图，本实施例提供的触控显示装置为反射式触控显示装置，包括上基板10、与上基板10相对设置的下基板20、以及位于上基板10与下基板20之间的液晶层30,其中，上基板10位于使用人员(或者说人眼)与下基板20之间。

在本实施例中，上基板10为阵列基板，且该阵列基板例如可以与图1、2提供的阵列基板的结构类似，包括触控检测结构与呈阵列排布的像素单元等，每个像素单元包括开关元件、像素电极、存储电极123、数据线、扫描线等，在每个像素单元内，存储电极123与像素电极交叠设置，为每个像素单元提供存储电压。下基板20包括下衬底基板21，以及位于下衬底基板21上的反射层22与公共电极23。其中，反射层22用于反射外部光线，所述外部光线例如为外部自然光，为从该触控显示装置外依次射向上基板、液晶层并入射至反射层22的光线。反射层22例如利用铝、银等金属材料通过蒸镀形成，或者以铝、银等金属材料作为一种成分的化合物、合金等设置。

在本实施例中，上基板10与下基板20通过围绕在上基板10的周边的封框胶24粘合成盒，将液晶层30密封在该盒内，其中，封框胶24内设置有导电粒子，导电粒子例如可以是一种外层镀有金属(如金、银等)的具有一定弹性的球形树脂粒子，以实现导电，封框胶24中的多个导电粒子彼此之间不相接触，因此只能起到导通上下基板的作用，而无法进行横向导电。上基板10还包括公共电极连接线122，下基板20上的公共电极23通过封框胶24内的导电粒子与公共电极连接线122实现电连接，并通过公共电极连接线122电连接至位于上基板10上的驱动用集成电路，将驱动用集成电路提供的公共电压信号提供给公共电极23。

进一步的，在本实施中，存储电极123也电连接至公共电极连接线122，在给公共电极23提供公共电压的同时，给存储电极123提供相同的公共电压。

在本实施例提供的触控显示装置中，设置有触控检测结构的阵列基板位于液晶层的朝向使用人员的一侧，公共电极与反射层都位于液晶层的远离使用人员的一侧，即触控检测结构与使用人员之间不含有整面或大面积的公共电极等显示用电极，由使用人员提供的外部触控信号不会被整面或大面积的公共电极等显示用电极屏蔽，从而可以更好的实现触控功能。

图6是本发明又一实施例提供的触控显示装置的截面图，本实施例提供的触控显示装置为反射式触控显示装置，包括上基板10、与上基板10相对设置的下基板20、以及位于上基板10与下基板20之间的液晶层30,其中，上基板10位于使用人员(或者说人眼)与下基板20之间。

在本实施例中，上基板10为阵列基板，且该阵列基板例如可以与图1、2提供的阵列基板的结构类似，包括触控检测结构与呈阵列排布的像素单元等，每个像素单元包括开关元件、像素电极、存储电极、数据线、扫描线等。下基板20包括下衬底基板21，以及位于下衬底基板21上的反射层22与公共电极23。其中，反射层22用于反射外部光线，所述外部光线例如为外部自然光，为从该触控显示装置外依次射向上基板、液晶层并入射至反射层22的光线。反射层22例如利用铝、银等金属材料通过蒸镀形成，或者以铝、银等金属材料作为一种成分的化合物、合金等设置。

在本实施例中，公共电极23与反射层22直接接触，这里的直接接触可以为：通过在下衬底基板21上蒸镀铝、银、或者以它们作为一种成分的化合物、合金等形成反射层22后，接着在该反射层22的远离下衬底基板的一侧形成公共电极23，之间不再间隔设置任何由无机绝缘材料或者有机绝缘材料等组成的膜层；也可以为：公共电极23通过连接导线或者过孔的方式与反射层22实现电连接。相比于单层公共电极设置，公共电极23与反射层22直接接触可以减小公共电极的电阻，提高触控显示装置的驱动均一性。

在本实施例中，上基板10与下基板20通过围绕在上基板10的周边的封框胶粘合成盒，将液晶层30密封在该盒内，下基板20上的公共电极23通过封框胶内的导电粒子与位于上基板上的公共电极连接线实现电连接，并通过公共电极连接线电连接至位于上基板上的驱动用集成电路，将驱动用集成电路提供的公共电压信号提供给公共电极。

图7是本发明又一实施例提供的触控显示装置的截面图，本实施例提供的触控显示装置为反射式触控显示装置，包括上基板10、与上基板10相对设置的下基板20、以及位于上基板10与下基板20之间的液晶层30,其中，上基板10位于使用人员(或者说人眼)与下基板20之间。

在本实施例中，上基板10为阵列基板，且该阵列基板例如可以与图1、2提供的阵列基板的结构类似，包括触控检测结构与呈阵列排布的像素单元等，每个像素单元包括开关元件、像素电极、存储电极、数据线、扫描线等。下基板20包括下衬底基板21，以及位于下衬底基板21上的反射层22。其中，反射层22用于反射外部光线，所述外部光线例如为外部自然光，为从该触控显示装置外依次射向上基板、液晶层并入射至反射层22的光线。

在本实施例中，反射层22复用为公共电极，上基板10与下基板20通过围绕在上基板10的周边的封框胶粘合成盒，将液晶层30密封在该盒内，下基板20上的反射层22通过封框胶内的导电粒子与位于上基板上的公共电极连接线122实现电连接，并通过公共电极连接线122电连接至位于上基板上的驱动用集成电路，将驱动用集成电路提供的公共电压信号提供给反射层22，反射层同时具有反射光线与给液晶层提供公共电压的作用，可以不用再另外设置公共电极层，减少了触控显示装置的制程工序，节省成本，同时，自反射层反射的光线不用再穿过一另外设置的公共电极层，增大了触控显示装置的透过率，提高了亮度。

在本实施例提供的触控显示装置中，设置有触控检测结构的阵列基板位于液晶层的朝向使用人员的一侧，复用为公共电极的反射层位于液晶层的远离使用人员的一侧，即触控检测结构与使用人员之间不含有整面或大面积的公共电极等显示用电极，由使用人员提供的外部触控信号不会被整面或大面积的公共电极等显示用电极屏蔽，从而可以更好的实现触控功能。

另外，本发明实施例还提供一种半反半透式触控显示装置，具体如图8、9所示，图8是本发明又一实施例提供的触控显示装置的截面图,图9是图8所示触控显示装置的像素结构示意图,本实施例提供的触控显示装置为半反半透式触控显示装置，包括上偏光片l1、上基板10、与上基板10相对设置的下基板20、位于上基板10与下基板20之间的液晶层30，以及下偏光片l2,其中，上基板10位于使用人员(或者说人眼)与下基板20之间。

在本实施例中，触控显示装置还包括背光模组bl，背光模组bl位于下基板20的远离上基板10的一侧，与外界自然光一起为触控显示装置提供显示图像用光线，上偏光片l1位于上基板10的远离背光模组bl的一侧，下偏光片l2位于下基板20与背光模组bl之间。

在本实施例中，上基板10为阵列基板，且该阵列基板例如可以与图1、2提供的阵列基板的结构类似，包括触控检测结构与呈阵列排布的像素单元等，图9是图8所示触控显示装置的像素结构示意图，如图9所述，上基板10包括多条沿行向排布并沿列向延伸的数据线dl、与多条沿列向排布并沿行向延伸的扫描线sl，数据线dl与扫描线sl交叉定义多个呈阵列排布的像素单元p，每个像素单元p包括开关元件t与像素电极，开关元件t包括源极、漏极与半导体沟道，数据线dl与开关元件t的源极电连接，像素电极与开关元件t的漏极电连接。

下基板20包括下衬底基板21，以及位于下衬底基板21上的反射层22，反射层22包括开口区域221与反射区域222，每个像素单元p包括第一区域p1与第二区域p2，开口区域221与该第一区域p1对应设置，反射区域222与该第二区域p2对应设置。其中，反射区域222例如利用铝、银、或者以它们作为一种成分的化合物、合金等设置，用于反射外部光线，所述外部光线例如为外部自然光，为从该触控显示装置外依次射向上基板、液晶层并入射至反射层22的光线；开口区域221用于透射自背光模组bl入射的光线，使其在液晶层的控制下依次穿过下偏光片l2、下基板20、上基板10与上偏光片l1，进而使得触控显示装置显示图像。

进一步的，触控显示装置还包括公共电极23，用于给触控显示装置提供公共电压，使得液晶层的液晶分子在像素电极与公共电极之间形成的电压差作用下发生状态变化，使得透过液晶层的光线发生偏振方向的变化。当然，反射层也可以复用为公共电极，而无需再另外设置公共电极，减少制成工序，节省成本。

在本实施例提供的触控显示装置中，设置有触控检测结构的阵列基板位于液晶层的朝向使用人员的一侧，公共电极与反射层都位于液晶层的远离使用人员的一侧，即触控检测结构与使用人员之间不含有整面或大面积的公共电极等显示用电极，由使用人员提供的外部触控信号不会被整面或大面积的公共电极等显示用电极屏蔽，从而可以更好的实现触控功能。

另外，本实施例提供的触控显示装置设置有反射区域，在外界自然光(如日光)较强的环境中，可以通过反射区域充分利用外界自然光增强触控显示装置的显示亮度，解决了纯透射式液晶显示装置在外界自然光较强的环境中显示亮度较低的缺陷；或者在外界自然光(如日光)较强的环境中，也可以完全关闭背光模组，只通过反射外界光线实现图像显示，以有效的降低功耗。同时，相对于纯反射式显示装置，本实施例提供的触控显示装置包括背光模组，且其反射层设置有允许背光模组发出的光线透过的开口区域，在外界自然光(如日光)较弱的环境中，尤其在黑暗的环境中，依然可以通过开启背光模组实现图像显示功能，即本实施例提供的触控显示装置在室内、室外等外界自然光强度不同的环境下都可以很好的实现足够亮度的图像显示，并可以降低功耗。

图10是本发明再一实施例提供的触控显示装置的截面图，与图8所示的触控显示装置类似的，本实施例提供的触控显示装置为半反半透式触控显示装置，包括上偏光片、上基板10、与上基板10相对设置的下基板20、位于上基板10与下基板20之间的液晶层30、下偏光片，以及背光模组bl,其中，上基板10位于使用人员(或者说人眼)与下基板20之间,下基板20位于上基板10与背光模组bl之间，上基板10为阵列基板，包括触控检测结构与呈阵列排布的像素单元等。

在本实施例中，下基板20包括反射层22与彩色滤光层c1，反射层22包括开口区域与反射区域,其中，反射区域222例如利用铝、银、或者以它们作为一种成分的化合物、合金等设置，用于反射外部光线，所述外部光线例如为外部自然光，为从该触控显示装置外射向上基板并入射至反射层22的光线；开口区域用于透射自背光模组bl入射的光线，使其在液晶层的控制下依次穿过彩色滤光层c1、下偏光片、下基板、上基板与上偏光片，进而使得触控显示装置显示图像。彩色滤光层c1位于反射层22的朝向液晶层30的一侧，以使得自反射区域反射的光线和/或自开口区域透射的光线会穿过彩色滤光层c1发射至液晶层30，该彩色滤光层c1例如可以包括红色色阻、绿色色阻与蓝色色阻，每个色阻分别与阵列基板上的一个像素单元对应设置，使得自每个像素单元出射的光线显示与之对应的颜色。相邻色阻例如可以通过黑矩阵间隔设置，以防止发生混色现象；也可以设置为，使得位于阵列基板上的黑矩阵覆盖相邻色阻之间的衔接区域，以防止发生混色现象。当然，在其他实施方式中，也可以将彩色滤光层设置在上基板。

进一步的，触控显示装置还包括公共电极23，用于给触控显示装置提供公共电压，使得液晶层的液晶分子在像素电极与公共电极之间形成的电压差作用下发生状态变化，允许或者阻止光线的透过。当然，反射层也可以复用为公共电极，而无需再另外设置公共电极。

在本实施例提供的触控显示装置中，设置有触控检测结构的阵列基板位于液晶层的朝向使用人员的一侧，公共电极与反射层都位于液晶层的远离使用人员的一侧，即触控检测结构与使用人员之间不含有整面或大面积的公共电极等显示用电极，由使用人员提供的外部触控信号不会被整面或大面积的公共电极等显示用电极屏蔽，从而可以更好的实现触控功能。

另外，本实施例提供的触控显示装置在室内、室外等外界自然光强度不同的环境下都可以很好的实现足够亮度的彩色图像显示，并可以降低功耗。

注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里所述的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。