磁记录介质及其制造方法

专利名称：磁记录介质及其制造方法
技术领域：
本发明涉及具有新颖的金属性外观的卡片状磁记录介质、该磁记录介质的制造方法及用于制造该磁记录介质的复制用叠层体。更详细地说，涉及具有基于光亮性粒子的多方向反射的高亮度的形成闪烁的光亮感、背景色的亮度和彩度的调节容易的卡片状磁记录介质。
背景技术：
近年来，对于信用卡、银行卡等要求高的外观设计性的磁卡使用具有形成闪烁的光亮感的卡片设计。它将使用于汽车车体等上的光亮性粒子应用于卡片基体上，作为光亮性粒子使用将金属等被覆在以玻璃等作为母材的薄片状基体上的粒子。通过在卡片上设置含有该粒子的层，射向卡片的入射光在具有高反射率的该粒子表面上多方向地反射，在卡片上形成许多高亮度的亮点。而且由于亮点的亮度和分布状况可以根据观察方向而变化，所以能够发挥高的外观设计性。
另一方面，从与卡整体的设计协调性的观点出发，作为赋予设在磁卡上的磁条部分的外观设计优选磁条部分作为基底并具有与卡基体部分同样的背景色及具有形成闪烁的光亮感、特别是能够在上述背景色上设定任意的色调。
但是，由于磁条部分在适用含有光亮性粒子和粘结树脂及根据需要的着色颜料的光亮性涂膜层的场合，光亮性粒子自身其隐蔽性差，所以不能完全隐蔽磁记录层原来具有的来自磁粉的黑色和茶色，从而不能提高彩度和亮度。另外，为了隐蔽磁记录层的颜色增加光亮性涂膜层的着色颜料的含量时，入射光容易衰减，由光亮性粒子形成闪烁的光亮感受到损失。这是由于维持光亮性粒子的光亮性同时作为背景色使用任意的色彩或者与磁条的形成部分无关地在卡片的整个面赋予一样的光亮感是困难的，对卡片进行外观设计时的自由度受到限制。
为了使磁卡表面形成具有光泽的鲜明的色调，例如公开了在磁记录层的上方没有由金属真空镀敷层形成的遮蔽、而是形成使用在云母或云母状氧化铁的表面上被覆二氧化钛或二氧化锆等的珠光性(珍珠色)颜料的着色层、尝试赋予光泽和鲜明的色调的磁记录介质(专利文献1)。
但是，该方法中以云母作为母材的场合，缺乏形成闪烁的光亮感，而且磁记录层的隐蔽不充分，背景色不能实现高的彩度。另外，以云母状氧化铁作为母材的场合，由于母材自身呈红色，可以适应于红色系列的色彩，但是不能适应于其它色调。
另一方面，关于隐蔽磁记录层的方法广泛地使用作为隐蔽层的铝或锡的真空镀敷层。这些隐蔽层可以以薄的膜厚隐蔽磁记录层的色调。但是由于具有高的反射率，背景过分明亮，在使用光亮性粒子时，会削弱光亮性粒子特有的闪烁感而不妥。将真空镀敷层控制为极薄而设定低的反射率，通常是困难的。
另外，公开了使用在复制用基体材料上从与复制用基体材料近的一侧起叠层保护层、着色层、隐蔽层、磁记录层、粘结剂层的复制型磁带、使含有粘结树脂和金属薄膜细片的隐蔽层的涂膜厚度成为1μm以下、由此在使记录再生特性不劣化的情况下完全隐蔽了磁记录层的色调的技术(专利文献2)。但是，使用本引用文献所述的隐蔽层的构成，在其上再形成光亮性涂膜层的场合，隐蔽黑色或者茶褐色的磁记录层后，再生输出不降低、磁条具有形成闪烁的光亮感，而且对是否可以实现背景色的高的亮度、彩度及其广范围的调节却不详，没有进行讨论。
另一方面，在车体涂漆领域公开了在光亮性涂膜层的下方设置含有铝粉的金属层作为隐蔽层的方法(专利文献3)。
但是，为了隐蔽基底层，本引用文献所述的金属层需要相当的膜厚，将该层的构成照原样适用于磁卡时，隐蔽层和光亮性涂膜层的膜厚过厚，磁记录层的记录再生特性大幅度的降低不可避免。
专利文献1特开平2-122421号公报专利文献2特开2002-304718号公报专利文献3特开平2-160079号公报

发明内容
本发明要解决的课题是提供记录再生特性优良而且具有形成闪烁的光亮感和具有多种色调、彩度、亮度的背景色的外观的卡片状磁记录介质及该磁记录介质的制造方法以及用于该制造方法中的复制用叠层体。
本发明提供一种卡片状磁记录介质，其在非磁性支持体上的至少一部分上叠层有含有磁记录层的层，其特征在于，在上述磁记录层上具有含有鳞片状金属粉末及金属薄膜细片的至少一种和粘结树脂的光反射量调节层，在其上再具有含有光亮性粒子的光亮性涂膜层，形成上述光亮性涂膜层的区域的波长400～700nm的入射光中的漫反射光的最大反射率是20～70％。
通过经由含有鳞片状金属粉末及/或金属薄膜细片及粘结树脂的光反射量调节层在磁卡的磁记录层上形成含有本发明的光亮性粒子的层、使形成上述光亮性涂膜层的区域的波长400～700nm的入射光中的漫反射光的最大反射率成为20～70％，可以不大幅度地降低磁记录层的记录再生特性而隐蔽磁记录层的色调，可以使各种亮度的背景色在背景上形成具有由入射光的漫反射产生的闪烁感的外观。其结果可以大幅度地提高磁卡的外观设计性。
另外，本发明提供一种卡片状磁记录介质的制造方法，是在非磁性支持体上的至少一部分上形成的磁记录层上形成具有背景色和在该背景色中均匀分布的亮点的图案的卡片状磁记录介质的制造方法，其特征在于，在上述磁记录层上依次形成含有鳞片状金属粉末和金属薄膜细片的至少一种及粘结树脂的光反射量调节层、含有粘结树脂及光亮性粒子的光亮性涂膜层，而且通过将上述光反射量调节层的膜厚和鳞片状金属粉末及/或金属薄膜细片的含量的至少一种向比完全隐蔽上述磁记录层所需的值小的方向变化，调节上述背景色的亮度和彩度。
通过使光反射量调节层的膜厚或者鳞片状金属粉末或金属薄膜细片的含量向比完全隐蔽上述磁记录层所需的值小的方向变化而形成，就可以恰当地调节上述光反射量调节层的反射率和亮度，其结果就可以按照在其上形成光亮性涂膜层的区域的波长400～700nm的入射光中的漫反射光的最大反射率是20～70％那样进行调节。
另外，本发明提供一种复制用叠层体，是上述卡片状磁记录介质的经过复制工序的制造中所用的复制用叠层体，其特征在于，在复制用基体材料上依次叠层含有具有镜面状光泽面的光亮性粒子的光亮性涂膜层、光反射量调节层和磁记录层，上述光反射量调节层含有鳞片状金属粉末和金属薄膜细片的至少一种及粘结树脂。
通过使用本发明的复制用叠层体，经过复制工序可以容易地制作由光亮性涂膜层赋予外观设计性的磁卡。
在磁记录层上形成含有鳞片状金属粉末或者金属薄膜细片及粘结树脂的光反射量调节层、再在其上形成含有光亮性粒子的层的本发明的卡片状磁记录介质可以不大幅度地降低磁记录层的记录再生特性而隐蔽磁记录层的色调，而且可以赋予具有闪烁感的外观。另外，由于由光反射量调节层的反射，所以根据由光亮性粒子的入射光的漫反射就可以提高闪烁感，外观设计性非常高。
隐蔽性高的光反射量调节层可以非常薄，通过在不会赋予记录再生特性以重大影响的范围内调节膜厚，就可以控制相对于入射光的反射量和磁记录层的对于色的隐蔽度。由此可以通过光反射量调节层的膜厚调节具有闪烁感的外观的背景色的亮度，从而可以维持形成闪烁的光亮感同时只调节背景色的亮度。另外，与光亮性粒子一起在光亮性涂膜层中使用着色颜料时，不损害形成闪烁的光亮性粒子的亮点的光亮感，可以在宽的范围内适宜地调节背景色的亮度、彩度、色调。另外，这些调节也可以由调节光反射量调节层的鳞片状金属粉末或者金属薄膜细片的含量来进行。
另外，即使在作为用本发明的卡片状磁记录介质的磁卡的特性方面，其磁记录再生特性也良好，可以得到读出记录信息不发生错误的卡片状磁记录介质。
另外，使用本发明的复制用叠层体、将其裁断为磁条的宽度而可形成的复制型磁带可以使用于信用卡、银行卡等要求高的外观设计性的磁卡的制造中，可以实现具有形成闪烁的光亮感的卡片设计。


图1是复制型磁带的断面构成图。
图2是使用复制型磁带在卡片基体材料上复制包括磁记录层的层的场合的断面构成图。
图3是对复制了包括磁记录层的层的卡片基体材料进行热压、将包括磁记录层的层埋入卡片基体材料内的场合的断面构成图。
图中，1-复制用基体材料、2-保护层、3-光亮性涂膜层4-光反射量调节层、5-磁记录层、6-粘结剂层、7-卡片基体材料。
具体实施例方式
以下详细地说明本发明。
首先，以附图为基础详细地说明本发明的复制用叠层体和由该叠层体制造的本发明的卡片用磁记录介质的一种实施方式的例子。
如图1所示，本发明的复制用叠层体顺次叠层下述各层而制造复制用基体材料1、与复制用基体材料1具有剥离性而且复制在卡片后作为磁卡的最表面层具有保护磁条的功能、根据需要可形成的保护层2、光亮性涂膜层3、设在光亮性涂膜层3上的光反射量调节层4、设在光反射量调节层4上的磁记录层5和根据需要设在磁记录层5上的粘结剂层6。
由上述复制用叠层体可以制造本发明的卡片用磁记录介质。因此，如图2所示，使将复制用叠层体裁断而形成的复制型磁带的粘结剂层和卡片基体材料相对向而重合、加热和加压，使卡片基体材料和包括磁记录层的叠层体粘结，其后，剥离并除去复制用基体材料，在卡片基体材料的表面上复制以保护层作为最表层的复制用叠层体(复制型磁带)的层的构成。其后根据需要进行热压，按照图3所示那样将包括磁记录层的层埋入卡片基体材料内，将其冲压成规定的尺寸，藉此完成磁卡。
以下，对于复制用叠层体的各层按照在复制用支持体上形成的顺序进行详细的说明。
在本发明中作为复制用基体材料都可以使用公知惯用的薄膜。例如可以举出聚对苯二甲酸乙二醇酯等聚酯类、聚丙烯等聚烯烃类、三乙酸纤维素等纤维素衍生物、聚酰胺等塑料薄膜。其中优选抗拉强度和耐热性兼备的聚对苯二甲酸乙二醇酯。另外，复制用基体材料的厚度不作特别地限制，但是通常是3～100μm，优选是5～50μm。
用于本发明的卡片状磁记录介质的制造中的复制用叠层体可以使用保护层。例如，通过以反转涂布方式、凹版涂布方式、金属型涂布方式等的公知惯用的方式将把粘结树脂、填料等溶解在溶剂中混合的保护层用涂料涂布在复制用基体材料上而得到保护层。
可以根据需要选择构成保护层的粘结树脂，例如可以举出纤维素系树脂、丁缩醛树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂、聚酯树脂、氯乙烯和乙酸乙烯的共聚物或者在其中再添加乙烯醇、马来酸酐或丙烯酸酐等的共聚物等氯乙烯系树脂、环氧树脂、酚醛树脂、密胺树脂和它们的混合物。
可以根据需要选择保护层用涂布液使用的溶剂，例如可以举出丙酮、甲基乙基甲酮、环己酮等酮类、醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸丁酯等酯类、乙醇等醇类、己烷、甲苯、二甲苯等烃类，这些溶剂也可以混合2种或其以上而使用。
另外，在保护层中可以根据需要添加作为皮膜改性剂的大豆卵磷脂、微细二氧化硅或者蜡等。另外，由于添加聚异氰酸酯化合物等的固化剂可以使树脂粘结剂分子间交联以提高保护层的耐久性而优选。
可以根据需要选择保护层的干燥涂膜厚度，从记录再生特性这点出发越薄越好。若考虑与强度、耐久性等的平衡，则优选是0.1～5μm，更优选是0.3～2μm。
用于本发明的卡片状磁记录介质的复制用叠层体中的光亮性涂膜层含有粘结树脂和光亮性粒子。例如，本发明的光亮性涂膜层可以通过下述方法形成将光亮性粒子或根据需要的着色剂混合在粘结树脂和溶解粘结树脂的溶剂中，用双辊式粉碎机、三辊粉碎机、球磨机、混砂机、分散混合机等公知惯用的方法进行分散，制成光亮性涂膜层用涂料，用反转涂布方式、凹版涂布方式、金属型涂布方式等的公知惯用的方式将其涂布、干燥。光亮性粒子具有薄片状形状的场合，优选在分散工序中使用分散混合机等分散力弱的装置，以免该形状受到破坏。另外，优选在涂布时可以设定大量的循环流量的反转涂布方式涂布，以免薄片状粒子沉淀。
上述涂料也可以通过使用异氰酸酯化合物进行热固化。作为使用于这样的光亮性涂膜层用涂料的溶剂可以使用公知惯用的溶剂，例如可以使用在保护层部分已经叙述的溶剂。
本发明中所用的光亮性粒子是具有镜面状的有高反射率的光泽面的粒子，例如用真空镀敷法或镀敷法使具有平滑平面部分的有机、无机粒子的表面由金属或金属氧化物被覆而使用。被覆的母材是薄片状基体时，根据来自得到的该粒子具有的宽的镜面状的光泽面的反射光可以制作光亮感高的光亮性涂膜层而优选。
光亮性粒子是由金属或者金属氧化物被覆以玻璃或者氧化铝作为母材的薄片状基体表面而形成的粒子时，因母材的平滑性可以得到更高的反射率。母材是玻璃的场合，母材以SiO2作为主成分，有时也可以含有若干量的ZnO或B2O3及其它成分。
可以根据需要选择薄片状的玻璃粒子的大小，优选薄片的平面方向的尺寸在5～40μm的范围内，厚度在平面方向尺寸的1/5～1/20的范围内。可以恰当地选择宽度。另外，也可以根据需要选择以氧化铝作为母材的薄片状基体的大小，通常薄片的平面方向的尺寸在3～60μm范围内，优选在5～30μm范围内，厚度在0.1～0.8μm的范围内，优选在0.2～0.4μm的范围内。作为被覆该薄片状基体表面的金属可以使用金、银、白金、钯、镍、铜、铬、锡等的金属或它们的合金。另外，用金属被覆该薄片状基体表面的方法适宜采用非电解镀敷。被覆量(厚度)是0.01～0.3μm，特别优选是0.05～0.2μm。另外，也可以对金属被覆的薄片状基体的表面进行适宜的表面处理。
作为被覆该薄片状基体表面的金属氧化物可以使用Fe2O3、TiO2、SnO2、ZrO2等。氧化金属优选的被覆量(厚度)是50～200，该光亮性粒子根据想要得到的干涉色而不同。以玻璃作为母材的光亮性粒子有日本硝子社制“メタシヤイン”系列，以氧化铝作为母材的光亮性粒子有メルク株式会社制“シラリツク”系列。
光亮性涂膜层使用的粘结树脂可以使用公知惯用的树脂。例如可以举出纤维素系树脂、丁缩醛树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂、聚酯树脂、氯乙烯和乙酸乙烯的共聚物或者再添加乙烯醇、马来酸酐或丙烯酸酐等的共聚物等氯乙烯系树脂、环氧树脂、酚醛树脂、密胺树脂、聚酰亚胺树脂、聚酰胺树脂、松香改性马来酸树脂、聚苯乙烯树脂、虫胶、醇酸树脂和这些树脂的混合物。
本发明中形成的光亮性涂膜层中可以使用用于设定成为光亮性粒子的漫反射光的背景的色的着色剂。用于着色剂的颜料，作为无机颜料有氧化铝、氧化钛、氧化铬、氧化铁、氧化锌、硫酸钡等，作为有机颜料有偶氮基系、酞菁系、喹吖酮系、紫苏烯系、蒽鲲系、硫靛系、阴丹士林系等多种，不作特别地限制。另外，也可以使用酞菁染料、偶氮基染料、硝基染料、喹啉染料、次甲基染料、吖嗪染料、フアタレイン染料等的染料代替上述颜料或者并用。通过使用这些着色剂，通过光反射量调节层中的入射光的反射率的调节、磁记录层的隐蔽度的调节和着色剂的配合量的调节，可以大幅度地调节背景色的彩度和亮度。由于作为上述着色剂使用的颜料或者染料会吸收由光亮性粒子反射的入射光而使其衰减，所以若过量使用将成为光亮性涂膜层失去光亮感的原因。作为使用的着色剂，如果是颜料，优选使用粒径细的、透明性高的颜料。作为颜料的使用量根据颜料的种类而不同，优选相对于粘结树脂在20质量％以下。
在强调作为光亮性粒子的特征的向多方面的漫反射形成的闪烁感时，优选光亮性涂膜层的膜厚要厚。但是，光亮性涂膜层的膜厚过大时，间距损失增大，容易导致再生输出降低。因此，光亮性涂膜层增厚的场合，必须使磁记录层的膜厚增厚，以弥补再生输出的降低。但是，作为磁记录的另外同样重要的特征的分辨能力在间距越大和磁记录层自身的膜厚越增加时越低，其结果读取信息时发生错误的可能性增大。因此对于增厚磁记录层的膜厚是有限的。
可以考虑这些而根据需要选择光亮性涂膜层的厚度，优选是2～5μm，特别优选是3～4μm。为了在这样薄的膜厚下得到光亮性粒子充分的漫反射光，优选光亮性涂膜层中以高浓度含有光亮性粒子。优选相对于光亮性涂膜层用涂料的涂料固体部分100重量部的光亮性粒子的固体部分的重量比(PWC)是20～45质量％。更优选是25～35质量％。超过45质量％含有时，具有光亮性涂膜层容易脆、涂膜表面的光洁度也降低的倾向。
本发明中形成的光反射量调节层含有粘结树脂和鳞片状金属粉末或者金属薄膜细片。
作为鳞片状金属粉末、金属薄膜细片都可以使用铝、金、银、铜、黄铜、钛、铬、镍、镍铬、不锈钢等。
鳞片状金属粉末的场合可以用球磨机等延展成鳞片状而形成，但是作为制造金属薄膜细片的方法可以举出在如铝那样熔点低的金属的场合由真空镀敷、在铝、金、银、铜等具有延展性的场合由箔、在熔点高也不具有延展性的金属的场合由溅射等形成薄膜、由该薄膜制造细片的方法。
这些鳞片状金属粉末和金属薄膜细片的磁记录层的隐蔽力高，以薄的膜厚就可以隐蔽磁记录层的色调。
可以根据需要选择这些金属粉末或者细片的形状和尺寸，优选沿面平行方向的尺寸是3～30μm，更优选是5～25μm，特别优选是10～15μm。金属粉末的场合，其厚度优选是0.1～1μm左右。另一方面，金属薄膜细片的厚度优选是0.01～0.1μm，更优选是0.03～0.08μm。另外，使用鳞片状金属粉末的光反射量调节层的场合，由于金属粉末表面存在凹凸或者粒子的膜厚厚，所以粒子在涂膜内难以取向，形成的涂膜的光的反射率低。另一方面，使用金属薄膜细片的场合，表面是平滑的金属薄膜细片可以相对于被涂物表面沿平行方向高度取向，其结果可以得到由历来的鳞片状金属粉末所不能得到的光反射率。在本发明中，根据需要既可以使用鳞片状金属粉末和金属薄膜细片的任一方，另外也可以使用两方。
粘结树脂可以使用历来涂料、凹版墨水、苯胺墨水或者网版墨水等中通常使用的粘结树脂，例如可以恰当地使用本发明的卡片状磁记录介质的光亮性涂膜层所用的粘结树脂。
通过用公知的混合机或者分散机制作由粘结树脂、鳞片状金属粉末及/或金属薄膜细片及溶剂构成的光反射量调节层的形成用涂料、由公知惯用的涂布方式和印刷方式涂布或者印刷而形成光反射量调节层。在光反射层调节用层的形成用涂料中也可以含有其它添加剂、固化剂。
本发明使用的光反射量调节层用涂料可以根据需要使用历来涂料、凹版墨水、苯胺墨水或者网版墨水等中使用的各种添加剂。作为这样的添加剂可以举出着色用颜料、染料、蜡、可塑剂、流平剂、表面活性剂、分散剂、消泡剂等。
另外，以耐热性、耐溶剂性等诸耐性提高作为目的，可以使用历来涂料、凹版墨水、苯胺墨水或者网版墨水等中使用的各种固化剂。作为这样的固化剂可以举出钛·铝·锌系的金属螯合剂、硅烷·钛系的偶合剂、异氰酸酯系固化剂、环氧系固化剂、亚乙基亚胺系固化剂等。
另外，光反射量调节层用涂料中使用的溶剂也可以使用历来涂料、凹版墨水、苯胺墨水或者网版墨水等中使用的公知惯用的溶剂。具体地说，例如可以举出在保护层部分所述的溶剂等。
光反射量调节层的功能是调节入射光的反射率和磁记录层的色调的隐蔽度，改变由磁卡的磁条部分的表面入射、通过上述光亮性涂膜层、由反射再次返回的光的量，从而调节光亮性涂膜层的背景色的亮度和彩度。特别是光亮性涂膜层中使用着色颜料使背景色着色时，通过调节光反射量调节层的隐蔽度、反射率和上述着色颜料的使用量，具有在宽的范围内调节背景色的亮度和彩度的功能。
反射率低的光反射量调节层与含有光亮性粒子和着色颜料的光亮性涂膜层组合的场合，由于位于光反射量调节层下方的磁记录层本身的光反射率低，所以磁条的外观中的彩度和亮度就低。另一方面，将反射率高的光反射量调节层与和上述相同的光亮性涂膜层组合的场合，由光反射量调节层产生的光反射量增加，磁条部分的外观中的彩度和亮度就高。
另外，由于在光反射量调节层反射的光再次在与光亮性粒子之间重复反射，所以来自光亮性粒子的反射光量也会使光反射量调节层的反射率高的一方大。但是，过分提高光反射量调节层的反射率时，背景光就过度变亮，光亮性粒子的闪烁感和背景色的高的对比度降低，所以宁可降低光亮感。
在形成上述光亮性涂膜层的区域的波长400～700nm的入射光中的漫反射光的最大反射率是20～70％之时，光亮性涂膜层兼有这样的光亮性粒子的形成闪烁的鲜明的光亮感和鲜明的色调的背景色而优选。更优选漫反射光的最大反射率是25～65％之时，特别优选是30～60％之时。另外，无论哪一种场合，光泽不过分高的一方没有由背景色自身的光泽而削弱光亮性粒子的闪烁感的对比度的倾向而优选。
另外，最大反射率可以由后述的实施例中所述的方法等测定。另外，本发明中是否完全隐蔽磁记录层的具体的判断，例如通过由色差计测定将光反射量调节层设在磁记录层的上方时和设在无磁记录层的卡片用基体部分上时的亮度、彩度和色度有无差别来进行判断。另外，本发明中优选使光反射量调节层的膜厚和金属粉末及/或金属薄膜细片的含量向着比为完全隐蔽磁记录层所需的值小的方向变化，通过将按照上述那样变化的层和光亮性涂膜层组合起来使用，可以维持高亮度的闪烁感，同时可以在宽的范围内调节背景色的亮度。
光反射量调节层的光反射率依存于该层的每单位表面积的鳞片状金属粉末或者金属薄膜细片的含量，通过相对于100重量部的光反射量调节层用涂料的涂料固体部分的鳞片状金属粉末及/或金属薄膜细片的固体部分的重量比(PWC)及/或光反射量调节层的膜厚可以进行调节。优选本发明的光反射量调节层用涂料组成物中的鳞片状金属粉末及/或金属薄膜细片的含量(PWC)是10～50质量％。
另外，可以根据需要选择光反射量调节层的涂膜厚度。但是，优选本发明中的从磁记录层起存在于卡片表面侧的包括光亮性涂膜层和光反射量调节层的全部的层(不包括磁记录层)的膜厚总计按照不超过6μm那样进行设计，这样设计的重要之处在于，有益于作为磁卡达到良好的磁记录再生特性，读出记录时不出错误。另外，由于本发明的光亮性涂膜层的膜厚为厚的一方可以得到良好的光亮感，所以优选光反射量调节层的膜厚尽可能地薄，考虑光亮性涂膜层以外的膜厚时，优选是0.1μm以上、2μm以下。
如上所述，本发明中形成的光反射量调节层的反射率和磁记录层的隐蔽度可以通过改变其膜厚或者鳞片状金属粉末或金属薄膜细片的含量进行调节。这一点假如对于磁记录层的隐蔽采用通常用的Al和Sn的真空镀敷时，只能由真空镀敷膜厚来调节反射率，必须一边控制真空镀敷量一边进行，以极薄膜的膜厚稳定地调节反射率是不可能的。
另外，不使用光反射量调节层而以使用氧化钛等白色颜料的隐蔽层进行磁记录层的色调的隐蔽时，由于隐蔽层的膜厚有必要厚，所以容易导致再生输出、分辨能力降低。另外，由于隐蔽层自身的反射率低，所以增加光亮性粒子的闪烁感的效果也小。
该场合，如果由着色颜料的浓度和色调进行背景色的调节，由于改变了由光亮性涂膜层的入射光的吸收率，所以光亮性粒子产生的光亮感往往会受到明显影响，闪烁感减弱。
在本发明的卡片状磁记录介质中，为了得到具有形成闪烁的光亮感、具有适当的亮度和高的彩度的光亮性涂膜层，作为光反射量调节层的漫反射光的反射率范围优选波长400～700nm的可见光范围的入射光中的最大反射率在20～70％的范围内。该漫反射光的反射率低于20％时，因背景色变暗而不能得到有效的彩度。另外由于由光反射量调节层反射的返回到光亮性粒子的光量减弱，所以即使具有光亮感，显示光亮感的亮点的数量和其亮度也有减小的倾向。另一方面，反射率超过70％时，由于来自光反射量调节层的反射光的强度与来自光亮性涂膜层所含的光亮性粒子的光的反射相比过强，所以背景色过亮，作为本发明的闪烁的光亮感有损失的倾向。更优选光反射量调节层的漫反射光的最大反射率在25～65％的范围内，特别优选在30～60％的范围内。
含有鳞片状金属粉末及/或金属薄膜细片的本发明所用的光反射量调节层与按照通常隐蔽层那样由金属真空镀敷形成的膜相比具有光泽难以显现的倾向。由于光泽值过高时，光亮性粒子的光亮感具有减弱的倾向，所以由这一点优选使用鳞片状金属粉末和金属薄膜细片。
用于本发明的卡片状磁记录介质的制造中的复制用叠层体的磁记录层，通过依次在复制用基体材料上形成保护层和光亮性涂膜层、光反射量调节层后，例如将含有磁性粉末、粘结树脂和溶解粘结树脂的溶剂的磁记录层用涂料再涂布在其上，对磁性粉末取向处理后进行干燥而形成。
作为磁性粉末可以使用γ-氧化铁、四氧化三铁、钴被覆氧化铁、二氧化铬、铁系金属磁粉、钡铁素体、锶铁素体等公知的磁性粉末，优选顽磁力在20～320KA/m的范围内。
作为磁记录层所用的粘结树脂可以使用公知惯用的粘结树脂，例如一般可以使用在光亮性涂膜层部分叙述的粘结树脂。另外，也可以使用异氰酸酯化合物进行热固化。另外，作为用于磁记录层用涂料的溶剂，例如一般可以使用在保护层部分所述的溶剂。
可以根据需要选择磁记录层的干燥膜厚，优选是2～50μm的范围，更优选是5～20μm的范围。
根据需要也可以在磁性涂料中添加表面活性剂、硅烷偶合剂、可塑剂、蜡、硅油等的辅助剂类，还可以添加碳黑以外的填料类。
磁记录层用涂料可以由公知惯用的方法将例如上述磁性粉末、粘结树脂、溶剂混合分散而得到。作为混合分散机可以使用双辊式粉碎机、三辊粉碎机、球磨机、亨舍尔混合机、コボル粉碎机、混砂机、分散混合机、均化器、叶片式混砂机等。
对于磁记录层用涂料的涂布不作特别地限制，可以使用公知惯用的涂布方式。以规定量涂布磁涂料后，按照磁性粉末的容易磁化方向成为磁记录层的涂布长度方向那样进行取向处理、进行干燥。作为涂布方式可以使用例如凹版涂布方式、反转涂布方式、转印辊涂布方式、辊舐涂布方式、金属型涂布方式等。
另外，从记录再生特性这点出发，优选由上述涂布方式涂布后，在涂膜未干燥的期间进行磁场取向处理。磁场取向方法可以使用公知的方式，例如排斥对置型永磁、螺线管型电磁铁等。作为磁场强度优选在1000～6000G的范围内。
用于本发明的卡片状磁记录介质的制造中的复制用叠层体可以使用粘结剂层。粘结剂层一般通过将显示热敏粘结性的树脂溶解在溶剂中、混合搅拌并调制粘结剂涂料、将该粘结剂涂料由反转涂布方式、凹版涂布方式、金属型涂布方式等公知的方式涂布在磁记录层上、干燥而得到。
作为显示热敏性的树脂例如可以举出氯乙烯和醋酸乙烯的共聚物或者在上述中再加入乙烯醇、马来酸酐或者丙烯酸酐等的共聚物等氯乙烯系树脂、聚酯树脂、丙烯酸树脂、聚酰亚胺树脂、聚氨酯树脂等。另外，作为用于粘结剂层的溶剂，例如可以使用保护层部分中所述的溶剂。
可以根据需要选择粘结剂层的膜厚，优选是0.5～15μm，特别优选是0.5～5μm。
以上对于制造本发明的复制用叠层体的场合按照在复制用基体材料上叠层各层的顺序进行了说明。本发明的卡片状磁记录介质使用该复制用叠层体可以在如已所述那样的复制工序中一并制造。本发明的光亮性涂膜层和光反射量调节层也可以覆盖卡片基体材料的整个面。该场合也可以通过使光亮性涂膜层和光反射量调节层在与磁记录层不同的工序中涂布或者复制而形成。另外，也可以按照覆盖卡片用基体整个面那样形成被覆的磁记录层，可以利用公知的磁卡制造顺序适宜地进行制造。
这样，各层以与实际的卡片状磁记录介质相反的顺序叠层在复制用基体材料上，制作复制用叠层体。复制用基体材料是透明的场合，可以从复制用基体材料侧确认在卡片用基体材料上实际复制时的图案。因而，从透明的复制用基体材料侧确认图案时，就可以按照形成上述光亮性涂膜层的区域的波长400～700nm的入射光中的漫反射光的最大反射率成为20～70％的范围那样制作复制用叠层体。另外，更优选漫反射光的最大反射率在25～65％范围内，特别优选在30～60％的范围内。以上详细地叙述了经过复制工序在卡片用基体上形成各层的场合的制造方法。另外，本发明的卡片状磁记录介质的制造也可以由涂布工序制造上述的各层。另外，也可以在复制工序中形成几层而用涂布工序形成其它的层。
实施例以下用实施例和比较例进一步详细地说明本发明，但是本发明对实施例不作限定，另外，以下的“份”表示质量份。
在实施例、比较例中使用以下所示的复制用基体材料和各种涂料。
·复制用基体材料厚24μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜·保护层用涂料聚乙烯醇缩丁醛树脂10份(积水化学社制“エスレツクBM-1”)MEK 35份甲苯 35份乙醇 20份聚异氰酸酯4份(大日本インキ化学工业社制“ハ-ドナ-No.50(有效成分50％)”)将上述材料中除了聚异氰酸酯以外的全部用分散混合机搅拌、充分溶解后添加上述的聚异氰酸酯，用分散混合机进一步搅拌进行均匀化，制作保护层用涂料。
·光亮性涂膜层用涂料[A]着色颜料黄色光亮性粒子10份(日本板硝子社制“メタシヤインME2025PS”)
着色颜料A(黄色异吲哚满黄)2份氯乙烯-醋酸乙烯共聚物树脂 16份(ユニオンカ-バイド社制“VAGH”)聚氨酯树脂 4份(大日本インキ化学工业社制“TS-03”)甲基乙基甲酮 65份甲苯 65份环己酮 15份聚异氰酸酯 3份(大日本インキ化学工业社制“ハ-ドナ-No.50(有效成分50％)”)将上述材料中除了光亮性粒子和聚异氰酸酯以外的全部用分散混合机搅拌、充分溶解后添加上述的光亮性粒子，用分散混合机进一步搅拌均匀化后，添加上述的聚异氰酸酯，用分散混合机进一步搅拌进行均匀化，制作光亮性涂膜层用涂料[A]。
·光亮性涂膜层用涂料[B]着色颜料蓝色除了将光亮性涂膜层用涂料[A]的着色颜料A(黄色异吲哚满黄)替换成着色颜料B(蓝色酞菁蓝)以外，其余与光亮性涂膜层用涂料[A]同样进行，制作光亮性涂膜层用涂料[B]。
·光亮性涂膜层用涂料[C]着色颜料绿色除了将光亮性涂膜层用涂料[A]的着色颜料A(黄色异吲哚满黄)替换成着色颜料C(绿色酞菁绿)以外，其余与光亮性涂膜层用涂料[A]同样进行，制作光亮性涂膜层用涂料[C]。
·光亮性涂膜层用涂料[D]着色颜料红色除了将光亮性涂膜层用涂料[A]的着色颜料A(黄色异吲哚满黄)替换成着色颜料D(红色紫苏烯红)以外，其余与光亮性涂膜层用涂料[A]同样进行，制作光亮性涂膜层用涂料[D]。
·珠光性光泽涂膜层用涂料[E]着色颜料黄色珠光性光泽性粒子10份(メルク社制“Iriodin153”用氧化钛被覆云母型氧化铁母材的珠光性颜料)
着色颜料A(黄色异吲哚满黄) 2份氯乙烯-醋酸乙烯共聚物树脂 16份(ユニオンカ-バイド社制“VAGH”)聚氨酯树脂 4份(大日本インキ化学工业社制“TS-03”)甲基乙基甲酮65份甲苯65份环己酮 15份聚异氰酸酯 3份(大日本インキ化学工业社制“ハ-ドナ-No.50(有效成分50％))用上述材料与光亮性涂膜层用涂料[A]同样进行，制作珠光性光泽涂膜层用涂料[E]。
·珠光性光泽涂膜层用涂料[F]着色颜料蓝色除了将珠光性光泽涂膜层用涂料[E]的着色颜料A(黄色异吲哚满黄)替换成着色颜料B(蓝色酞菁蓝)以外，其余与珠光性光泽涂膜层用涂料[E]同样进行，制作光亮性涂膜层用涂料[F]。
·珠光性光泽涂膜层用涂料[G]着色颜料绿色除了将珠光性光泽涂膜层用涂料[E]的着色颜料A(黄色异吲哚满黄)替换成着色颜料C(绿色酞菁绿)以外，其余与珠光性光泽用涂料[E]同样进行，制作光亮性涂膜层用涂料[G]。
·珠光性光泽涂膜层用涂料[H]着色颜料红色除了将珠光性光泽涂膜层用涂料[E]的着色颜料A(黄色异吲哚满黄)替换成着色颜料D(红色紫苏烯红)以外，其余与珠光性光泽涂膜层用涂料[E]同样进行，制作光亮性涂膜层用涂料[H]。
·珠光性光泽涂膜层用涂料[I]着色颜料无珠光性光泽性粒子 12份(チタン工业社制“氧化铁珠光颜料AM-200”)氯乙烯-醋酸乙烯共聚物树脂 16份(ユニオンカ-バイド社制“VAGH”)聚氨酯树脂4份
(大日本インキ化学工业社制“TS-03”)甲基乙基甲酮65份甲苯65份环己酮 15份聚异氰酸酯 3份(大日本インキ化学工业社制“ハ-ドナ-No.50(有效成分50％)”)用上述材料与光亮性涂膜层用涂料[A]同样进行，制作珠光性光泽涂膜层用涂料[I]。
·珠光性光泽涂膜层用涂料[J]着色颜料蓝色珠光性光泽性粒子10份(チタン工业社制“氧化铁珠光颜料AM-200”)着色颜料B(蓝色酞菁蓝) 2份氯乙烯-醋酸乙烯共聚物树脂 16份(ユニオンカ-バイド社制“VAGH”)聚氨酯树脂 4份(大日本インキ化学工业社制“TS-03”)甲基乙基甲酮65份甲苯65份环己酮 15份聚异氰酸酯 3份(大日本インキ化学工业社制“ハ-ドナ-No.50(有效成分50％))用上述材料与光亮性涂膜层用涂料[A]同样进行，制作珠光性光泽涂膜层用涂料[J]。
·光反射量调节层用涂料[A]鳞片状金属粉末铝粉10份(昭和アルミパウダ-社制“210EA”)氯乙烯-醋酸乙烯共聚物树脂 20份(ユニオンカ-バイド社制“VAGH”)聚氨酯树脂 5份(大日本インキ化学工业社制“TS-03”)
甲基乙基甲酮 75份甲苯 75份环己酮 17份聚异氰酸酯 15份(大日本インキ化学工业社制“ハ-ドナ-No.50(有效成分50％)”)将上述材料中除了鳞片状金属粉末和聚异氰酸酯以外的全部用分散混合机搅拌充分溶解后添加上述的鳞片状金属粉末，用分散混合机进一步搅拌均匀化后，添加上述的聚异氰酸酯，用分散混合机进一步搅拌进行均匀化，制作光反射量调节层用涂料[A]。
·光反射量调节层用涂料[B]金属薄膜细片真空镀敷铝薄片颜料 10份(东洋アルミニウム社制“Metasheen Slury KM-100”)氯乙烯-醋酸乙烯共聚物树脂40份(ユニオンカ-バイド社制“VAGH”)聚氨酯树脂 10份(大日本インキ化学工业社制“TS-03”)甲基乙基甲酮 218份甲苯 218份环己酮 49份聚异氰酸酯 30份(大日本インキ化学工业社制“ハ-ドナ-No.50(有效成分50％)”)用上述材料与光反射量调节层用涂料[A]同样进行，制作光反射量调节层用涂料[B]。
·光反射量调节层用涂料[C]金属薄膜细片真空镀敷铝薄片颜料 20份(东洋アルミニウム社制“Metasheen Slury KM-100”)氯乙烯-醋酸乙烯共聚物树脂40份(ユニオンカ-バイド社制“VAGH”)聚氨酯树脂 10份(大日本インキ化学工业社制“TS-03”)
甲基乙基甲酮218份甲苯218份环己酮 49份聚异氰酸酯 30份(大日本インキ化学工业社制“ハ-ドナ-No.50(有效成分50％))用上述材料与光反射量调节层用涂料[A]同样进行，制作光反射量调节层用涂料[C]。
·磁记录层用涂料钡铁素体磁粉100份(户田工业社制“MC-127”；顽磁力220KA/m)氯乙烯-醋酸乙烯共聚物树脂 15份(日本ゼオン社制“MR-110”)聚氨酯树脂 10份(大日本インキ化学工业社制“L7-750”)MEK 50份甲苯50份环己酮 25份聚异氰酸酯 10份(大日本インキ化学工业社制“ハ-ドナ-No.50(有效成分50％)”)用上述材料由特开平9-59541号公报所示的方法制作磁记录层用涂料。
·粘结剂涂料聚氨酯树脂 1份(大日本インキ化学工业社制“TS-03”)氯乙烯-醋酸乙烯共聚物树脂4份(日信化学社制“ソルバインC5”)MEK 45份甲苯 50份将上述材料用分散混合机搅拌，充分溶解，进行均匀化，制作粘结剂用涂料。
(实施例1)作为复制用基体材料使用厚度24μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜，在该薄膜的单面上都使用反转式涂布机依次涂布上述保护层用涂料、光亮性涂膜层用涂料[A]、光反射量调节层用涂料[A]、磁记录层用涂料和粘结剂涂料、干燥，分别设置保护层、光亮性涂膜层、光反射量调节层、磁记录层和粘结剂层。各层干燥后的膜厚按照保护层是1μm、光亮性涂膜层是3μm、光反射量调节层是0.3μm、磁记录层是9μm和粘接层是1.5μm那样形成。将设上述各层的薄膜裁断成1/2英寸宽，制作复制用叠层体。
使用按照上述那样制作的复制用叠层体(复制型磁带)，由卡片制作机(インタ-ライン社制“LX-EM4”)将叠层物复制在聚氯乙烯制的卡片基体(太平化学社制)上后，除去复制用基体材料，在140℃、0.13Mpa的条件下进行热压加工，其后，冲压成卡片状，制作卡片状磁记录介质。
(实施例2～实施例25、比较例1～比较例11)除了使用以下表1的配合以外其余与实施例1同样进行制作实施例2～实施例25和比较例1～比较例11的复制用叠层体，复制到卡片基体上后进行热压，制作卡片状磁记录介质。
·评价方法(彩度)使用日本电色工业社制“测色色差计SZ-∑80”对于所得到的磁卡的磁条部分测定亮度(L)、色度(a*、b*)，求出彩度C*＝(a*2+b*2)。另外，亮度值越大表示越亮，彩度值越大表示色越鲜艳。
(漫反射率)通过用岛津制作所社制“岛津自记光谱光时计UV-3100”的积分球法对所得到的磁卡的磁条部分、即具有光亮性涂膜层的区域以各波长测定波长400nm～700nm的可见光范围的入射光中的漫反射率，求出测定范围中的最大反射率。
(目视评价光亮性、色彩)以目视评价所得到的磁卡的磁条部分的光亮性和色彩。对于光亮性由外观上的闪烁感判断，对于色彩，将无光反射量调节层的条件时的色彩取为×，可以看到彩度提高效果的取为○。
对于光亮性○-具有高亮度的光亮性，△-光亮性的亮度不充分，×-没有光亮性。
对于色彩○-彩度提高显著，△-彩度提高小，×-看不到彩度提高。
(分辨能力)以ISO/IEC7811-6作为标准使用BARNES社制MAGTESTER2000对所得到的磁卡进行其记录再生特性的测定。另外，关于用于制成该磁卡试样所使用的复制型磁带，由于磁记录层和除了磁记录层以外的非磁性层的膜厚不是一种，所以要分别测定，制作按照再生输出值与标准输出试样的再生输出值相同那样调节磁记录层的膜厚的试样而进行测定。
○-90％以上，×-低于90％。


如表1的结果表明的那样，由于本实施例1～25通过本发明的光亮性涂膜层形成方法，满足借助于含有金属粉末或金属薄膜细片的光反射量调节层、具有含有由金属或金属氧化物被覆薄片状基体的光亮性粒子的光亮性涂膜层的条件，所以可以得到形成闪烁的光亮性和色调的彩度提高的效果，分辨能力也良好。但是，在漫反射率的最大值超过60％时，由于背景明亮，所以光亮感有稍微减少的倾向，随着漫反射率接近于70％，光亮性有降低的倾向。另外，随着漫反射率接近于20％，彩度有降低的倾向，色彩有降低的倾向。
另一方面，由于比较例1～4没有涂布本发明中的磁层和光亮性涂膜层之间的光反射量调节层，所以彩度低，磁条外观的色调不充分。
另外，由于比较例5～8将用于本发明的光亮性涂膜层的光亮性粒子置换为在云母母材上被覆氧化钛的呈珍珠光泽的珠光性光泽性粒子(珠光性颜料)，所以不能得到作为本发明目的的形成闪烁的光亮感。
另外，由于比较例9将用于本发明的光亮性涂膜层的光亮性粒子和着色颜料置换为在MIO(云母形状氧化铁)母材上被覆氧化钛的珠光性光泽性粒子(氧化铁珠光性颜料)、没有涂布磁层和光亮性涂膜层之间的光反射量调节层，所以不能得到高的彩度。
另外，由于比较例10、11将用于本发明的光亮性涂膜层的光亮性粒子和着色颜料置换为在MIO(云母形状氧化铁)母材上被覆氧化钛的珠光性光泽性粒子(氧化铁珠光性颜料)、还添加了蓝色着色颜料，所以在没有涂布磁层和光亮性涂膜层之间的光反射量调节层的场合或者涂布的场合的无论哪一种情况下，外观的彩度都显著降低，此外也失去光亮感。
如表1表明的那样，通过改变光反射量调节层的膜厚，就可以恰当地调节含有光亮性粒子的光亮性涂膜层的彩度和亮度(漫反射率)。
特别是通过改变光反射量调节层的反射率和隐蔽度，就可以不改变色调而调节彩度，与颜料组合而调节背景色的色调时，调节就非常容易。
按照本发明，可以提供具有高亮度的形成闪烁的光亮感、背景色的亮度和彩度的调节容易的卡片状磁记录介质及其制造方法以及用于制造其的复制用叠层体。
权利要求
1.一种卡片状磁记录介质，其在非磁性支持体上的至少一部分上叠层有含有磁记录层的层，其特征在于，在所述磁记录层上具有含有鳞片状金属粉末及金属薄膜细片的至少一种和粘结树脂的光反射量调节层，在其上再具有含有光亮性粒子的光亮性涂膜层，具有所述光亮性涂膜层的区域的波长400～700nm的入射光中的漫反射光的最大反射率是20～70％。
2.一种卡片状磁记录介质，其特征在于，形成有所述光亮性涂膜层的区域的波长400～700nm的入射光中的漫反射光的反射率是30～60％。
3.根据权利要求1所述的磁记录介质，其特征在于，所述光亮性粒子是由金属或金属氧化物被覆薄片状基体的光亮性粒子。
4.根据权利要求1所述的卡片状磁记录介质，其特征在于，所述薄片状基体是玻璃或者氧化铝。
5.根据权利要求1所述的卡片状磁记录介质，其特征在于，包括所述光反射量调节层和所述光亮性涂膜层的磁记录层上的所有层的合计膜厚是6μm以下。
6.根据权利要求5所述的卡片状磁记录介质，其特征在于，所述光反射量调节层的膜厚是2μm以下。
7.根据权利要求1～6中的任一项所述的卡片状磁记录介质，其特征在于，所述光亮性涂膜层含有着色颜料。
8.一种卡片状磁记录介质的制造方法，其在非磁性支持体上的至少一部分上形成的磁记录层上形成具有背景色和在该背景色中均匀分布的亮点的图案，其特征在于，在所述磁记录层上依次形成含有鳞片状金属粉末及金属薄膜细片的至少一种、及粘结树脂的光反射量调节层；和含有粘结树脂及光亮性粒子的光亮性涂膜层，而且，通过将所述光反射量调节层的膜厚和鳞片状金属粉末及/或金属薄膜细片的含量的至少一种向比完全隐蔽所述磁记录层所需的值小的方向变化，调节所述背景色的亮度和彩度。
9.根据权利要求8所述的卡片状磁记录介质的制造方法，其特征在于，所述光亮性涂膜层含有着色颜料。
10.根据权利要求9所述的卡片状磁记录介质的制造方法，其特征在于，所述光亮性粒子是由金属或金属氧化物被覆薄片状基体的光亮性粒子。
11.根据权利要求9所述的卡片状磁记录介质的制造方法，其特征在于，所述薄片状基体是玻璃或者氧化铝。
12.根据权利要求8或者9所述的卡片状磁记录介质的制造方法，其特征在于，所述卡片状磁记录介质经过使用在复制用基体材料上依次叠层有含有光亮性粒子的光亮性涂膜层、光反射量调节层和磁记录层的复制用叠层体的复制工序而形成。
13.一种复制用叠层体，其特征在于，在权利要求12的卡片状磁记录介质的制造方法中使用。
14.根据权利要求8所述的卡片状磁记录介质的制造方法，其特征在于，通过调节所述背景色的亮度和彩度，将卡片状磁记录介质的具有光亮性涂膜层的区域的波长400～700nm的入射光中的漫反射光的最大反射率设为20～70％。
全文摘要
本发明提供一种卡片状磁记录介质，是在非磁性支持体上的至少一部分上叠层含有磁记录层的层的卡片状磁记录介质，其特征在于，在上述磁记录层上具有含有鳞片状金属粉末及金属薄膜细片的至少一种和粘结树脂的光反射量调节层，在其上再具有含有光亮性粒子的光亮性涂膜层，具有上述光亮性涂膜层的区域的波长400～700nm的入射光中的漫反射光的最大反射率是20～70％。
文档编号G11B5/80GK1961355SQ200580017399
公开日2007年5月9日 申请日期2005年5月27日 优先权日2004年5月31日
发明者山崎嘉一, 矢野大辅 申请人:大日本油墨化学工业株式会社