专利名称：一种多层磁光记录介质的制作方法
技术领域：
本发明属信息存储材料领域，特别涉及多层磁光记录介质。
80年代中期发展起来的可擦、重写光盘存储技术集光记录与磁记录于一体，具有很明显的优点，发展极为迅速。目前磁光盘的结构普遍采用的是组分调制式的多层结构。它是在经过预刻槽的盘基上依次淀积下保护层、磁光层、上保护层。盘基采用聚碳酸脂片、磁光层则用铽铁钴(FbTeCO)非晶态合金膜。磁光层中的稀土元素极易氧化使磁光层写、读、擦性能变坏，导致了氮化硅(SiNx0＜X≤4/3)的上下保护层。为了保证高的载噪比和优良的光学、热学匹配，保护层一般较薄，其抗氧化性能尚不能令人满意。为了提高磁光盘的载噪比，在上保护层之上还附着了一铝反射层。上述各层均应具有均匀的特性(厚度均匀性小于±2%)、带有精细的表面以及与盘基有良好的附着特性。采用铝反射层后改善了磁光盘的读出特性，保证入射光同磁光材料具有最大的相互作用。然而铝虽然有较高的反射率和良好的散热性，却是一种很活泼的金属，一与大气接触就会在表面上形成氧化铝薄膜。而氧化铝又是一种吸湿性很强的介质，因此铝膜难于满足恶劣环境下的长期使用。另外从铝膜的真空淀积性能来看，它所形成的薄膜往往是带纤维的柱状结构，这更不利于长期使用。因而，这种多层结构的磁光盘抗氧化性能问题必须得到解决。为解决此问题，有将铝反射层改为铜反射层(CANOW0492-093835/12J04038-735-AN92-070207)和在铝反射层后再加一镍或镍合金保护层(专利申请人日本三井公司，CN1056944A，1991.12.11)两种方法。但上述方法都存在明显缺陷，以铜代铝法由于铜的反射率不如铝高，制作的磁光盘性能必然下降;另外铜的蒸汽压较高，制作时要求更高级的设备，将增加磁光盘的制作成本。加一镍保护层的办法固然能较好地解决磁光盘抗氧化问题，但镍是一种磁性材料。形成薄膜时，较薄的是不连续表面，均匀性极差，将严重影响磁光盘的误码率和载噪比。如膜层较厚，镍膜将对磁光盘下面的偏磁场起着屏蔽作用，更为严重的是镍本身的不均匀性将完全迭加在磁光层上，也会使磁光盘的误码率和载噪比变坏。
本发明的任务就是提供一种保持原设计的优良性能而又抗氧化的磁光盘。
本发明的任务是这样完成的在盘基上依次淀积下保护层、磁光层，上保护层和铝反射层后，再在铝反射层外加上一铬附加层，附加层的厚度为200～3000埃。
由于铬是一种非磁性材料，不会导致对偏磁场的屏蔽，也不会因膜层的不均匀性使磁光盘的误码率和载噪比变坏。铬有相当好的导热性和反射率，性能稳定、结构缜密，抗湿、抗氧化性能强，很好地解决了磁光盘的抗氧化问题。实测证明本发明磁光盘的载噪比和误码率比不用附加层或用镍附加层的性能更好。由于铬优良的附着性能，长期使用也不会出现应力过大导致的变形问题。采用铬附加层的上述优点大大提高了磁光盘的使用寿命。另外，铬靶的溅射效率高，对溅射淀积的设备要求不高，铬靶的制备较简单也使本发明具有工业实施的明显优点。
图1是本发明结构示意图实际实施中，在已预刻槽的盘基(1)上，采用直流磁控溅射法依次淀积下保护层(2)、磁光层(3)、上保护层(4)和铝反射层(5)。上、下保护层的厚度分别为600～3000埃和100～800埃，磁光层厚度在100～800埃之间，铝反射层的厚度则通常采用100～1000埃。在溅射铝反射层后，不破坏真空条件立即以相同的方法溅射铬附加层，铬靶的纯度为99%，附加层厚度在200～3000埃之间。
权利要求
1.一种多层磁光记录介质，由盘基、下保护层、磁光层、上保护和铝反射层构成，其特征在于在铝反射层之上还有一铬附加层。
2.根据权利要求1所述的记录介质，其特征在于铬附加层的厚度在200至3000埃之间。
全文摘要
本发明公开了一种多层磁光记录介质，在盘基上附着磁光层，上、下保护层和铝反射层后，增加了一铬附加层。本磁光记录介质具有良好的抗氧化性能、优良的误码率和载噪比，铬附加层制作方便，盘片的使用寿命更长等优点。
文档编号G11B7/24GK1095512SQ9311182
公开日1994年11月23日 申请日期1993年5月22日 优先权日1993年5月22日
发明者陈小洪, 张鹰, 范启华, 金懋昌, 洪源 申请人:电子科技大学