专利名称：药液处理装置、药液处理方法及电路基板的制造方法
技术领域：
本发明涉及的一种药液处理装置、药液处理方法及电路基板的制造方法，特别适用于挠性电路基板的湿处理工序。
背景技术：
在现在技术的药液处理装置中，例如像专利文献1所示，为了使洗涤液浓度保持恒定，使腐蚀比率及洗涤效果稳定，使用着具有与洗涤液的液面相接的盖子的洗涤处理槽。
特开平6-104234号公报。
可是，在现有技术的药液处理装置中，与洗涤液的液面相接的盖子，被固定。因此在药液处理过程中，当药液减少后，盖子就与药液分离，药液的液面就要露出来。其结果，在现有技术的药液处理装置中，由于在药液处理过程中，药液与空气接触，由药液的氧化等，导致药液劣化，所以在质量管理上比较困难。
发明内容
因此，本发明的目的，就是要提供既可以防止药液的液面暴露在空气中，又可以进行药液处理的药液处理装置、药液处理方法及电路基板的制造方法。
为了解决上述问题，本发明的一种实施方式涉及的药液处理装置，其特征在于，具有贮存药液的药液槽；将处理对象输送到所述药液内的输送装置；覆盖所述药液的液面，漂浮配置在所述药液上的盖子。
这样，由于将盖子漂浮配置在药液上，所以在药液的液面下降时，也能使盖子跟随药液的液面。因此，即使药液伴随药液处理的处理而减少时，也能杜绝药液的液面暴露在空气中，抑制药液氧化等导致药液的劣化，既能提高药液的寿命，又能保持药液的质量，稳定地进行药液处理。
另外，本发明的一种实施方式涉及的药液处理装置，其特征在于所述盖子，具有使所述处理对象出入所述药液内的凹部或开口部。
这样，可以在盖子漂浮在药液上的状态下，使处理对象浸泡在药液内，可以一面保持药液的质量，一面有效地进行药液处理。
另外，本发明的一种实施方式涉及的药液处理装置，其特征在于所述药液槽，具有使所述盖子上下移动的导轨；所述盖子，具有插入所述导轨的缺口部。
这样，可以一面维持盖子漂浮在药液上的状态，一面防止盖子向水平方向移动。因此，将盖子漂浮配置在药液上时，也能一面防止盖子在药液上被冲走，一面使盖子上下移动。
另外，本发明的一种实施方式涉及的药液处理装置，其特征在于所述盖子由树脂构成。
这样，即使药液由酸或碱构成时，也能使盖子浮在药液上，防止盖子受到药液的侵蚀，稳定地进行药液处理。
另外，本发明的一种实施方式涉及的药液处理装置，其特征在于，包括贮存药液的药液槽；设置在所述药液槽内，引导带状基板的滚轴；浮动配置在所述药液上，覆盖所述药液的液面的盖子；沿着所述带状基板的输送方向，配置在所述盖子上，使所述带状基板出入所述药液槽的一对凹部或开口部。
这样，因为将盖子漂浮配置在药液上，所以即使药液的液面下降时，也能使盖子跟随药液的液面，并且能使带状基板连续进出药液槽。因此，即使药液伴随药液处理而减少时，也能杜绝药液的液面暴露在空气中，连续进行带状基板的药液处理，既能提高药液的寿命，又能将带状基板的质量保持在一定的水平上，有效地进行药液处理。
另外，本发明的一种实施方式涉及的药液处理方法，其特征在于，包括将盖子漂浮配置在药液槽贮存的药液上的工序；通过将处理对象浸泡在漂浮配置着所述盖子的药液内，对所述处理对象进行药液处理的工序。
这样，因为将盖子漂浮配置在药液上，所以即使药液的液面下降时，也能使盖子跟随药液的液面。因此，即使药液伴随药液处理而减少时，也能杜绝药液的液面暴露在空气中，抑制药液氧化等导致药液的劣化，既能提高药液的寿命，又能保持药液的质量，稳定地进行药液处理。
另外，本发明的一种实施方式涉及的电路基板的制造方法，其特征在于，包括在带状基板上形成导电层的工序；在所述导电层上涂敷保护膜的工序；对所述导电层上涂敷的保护膜进行有选择地曝光的工序；通过将对所述保护膜进行过曝光处理的带状基板，浸泡在漂浮配置着盖子的显影液槽内，在所述保护膜上进行布图的工序；将所述被布图的保护膜作为掩膜，蚀刻所述导电层，从而在所述带状基板上形成布线层的工序。
这样，可以一面使盖子跟随显影液的液面，一面对带状基板上形成的保护膜进行显影处理。因此，由于盖子漂浮配置在显影液上，所以即使显影液伴随着显影处理的进行而减少时，也能抑制显影液的液面暴露在空气中，可以一面抑制制造工序的烦杂化，一面稳定地进行显影处理。
另外，本发明的一种实施方式涉及的电路基板的制造方法，其特征在于，包括在带状基板上形成导电层的工序；在所述导电层上形成保护膜图形的工序；通过将形成保护膜图形的带状基板，浸泡在漂浮配置着盖子的腐蚀液槽内，从而在所述导电层上布图的工序。
这样，可以一面使盖子跟随腐蚀液的液面，一面对带状基板上形成的导电层进行蚀刻处理。因此，由于盖子漂浮配置在腐蚀液上，所以即使腐蚀液伴随着腐蚀处理的进行而减少时，也能抑制腐蚀液的液面暴露在空气中，可以一面抑制制造工序的烦杂化，一面稳定地进行腐蚀处理。
图1是表示本发明第1实施方式涉及的药液处理装置的简要结构的图形。
图2是表示本发明第2实施方式涉及的药液处理装置的简要结构的图形。
图3是表示本发明第3实施方式涉及的电路基板的制造方法的剖面图。
图中；1、11-药液槽；2、12-导轨；3、13-盖子；4a、4b-开口部；5、15-药液；6a～6d、16a～16d-滚轴；7、17-带状基板；8、18-缺口部；14a、14b-凹部；21-带状基板；22-导电层；23-保护膜层；24-保护膜图形；25-布线层。
具体实施例方式
下面，参阅附图，讲述本发明的实施方式涉及的药液处理装置及药液处理方法。
图1(a)是表示本发明的第1实施方式涉及的药液处理装置的简要结构的平面图，图1(b)是表示本发明的第1实施方式涉及的药液处理装置的简要结构的剖面图，图1(c)是表示正在进行药液处理时的药液处理装置的简要结构的平面图，图1(d)是表示正在进行药液处理时的药液处理装置的简要结构的剖面图。
在图1(a)及图1(b)中，药液5贮存在药液槽1内，盖子3漂浮配置在药液5上。而且，在药液槽1上，设置着向药液的深度方向延伸的导轨2；在盖子3上，设置着可以插入导轨2的缺口部8。另外，在盖子3上，沿着带状基板7的输送方向，设置着使带状基板7出入的开口部4a、4b。进而，沿着带状基板7的输送方向，还设置着引导带状基板7的滚轴6a～6d，滚轴6a、6d设置在药液槽1外，滚轴6b、6c设置在药液槽1内。
在这里，盖子3的比重，小于药液5的比重，作为盖子3的材质，最好使用例如特氟隆(注册商标)、丙烯、聚丙烯等树脂。这样，即使药液5由酸或碱构成时，也能将盖子3浮在药液5上，防止盖子3被药液5侵蚀，稳定地进行带状基板7的药液处理。
另外，作为药液5，例如可以举出保护膜的显影液、保护膜的剥离液、Cu等金属的腐蚀液等。进而，带状基板7，例如可以在COF(chip on film)、TCP(tape-carry package)、TCM(tape-carry module)等中使用。
而且，进行带状基板7的药液处理时，使带状基板7穿过开口部4a、4b，从而通过盖子3，将带状基板7浸泡在药液5中。并且在将带状基板7浸泡在药液5中的状态下，一面通过滚轴6a～6d输送带状基板7，一面进行带状基板7的药液处理。
而且，进行过带状基板7的药液处理后，如图1(c)及图1(d)所示，附着在带状基板7上的药液5，被从药液槽1中带出来后，药液槽1中的药液5就要减少。因此，将盖子3漂浮配置在药液5上，从而即使药液5的液面下降时，也能使盖子3跟随药液5的液面。所以，在连续进行带状基板7的药液处理时，也能保持使盖子3始终与药液5的液面相接的状态，抑制药液5的液面暴露在空气中。
其结果，由于盖子3漂浮配置在药液5上，所以能够在进行带状基板7的药液处理时，使药液5的液面不暴露在空气中，也不必为了移动盖子3而使用复杂的机构。能够抑制药液5的氧化等造成药液的劣化，提高药液5的寿命，同时还能将带状基板7的质量维持在一定的水平上，高效地进行药液处理。
另外，通过设置引导盖子3的导轨2，可以一面维持盖子3漂浮在药液5上的状态，一面防止盖子3在药液5上向水平方向移动。因此，将盖子3漂浮配置在药液5上时，也能防止盖子3在药液5上被冲走，防止盖子3与带状基板7碰撞，保护带状基板7。
进而，在盖子3上设置使带状基板7出入的开口部4a、4b，从而可以在盖子3漂浮在药液5上的状态下，使带状基板7浸泡在药液5中，一面维持药液5的质量，一面对带状基板7高效地进行药液处理。
图2(a)是表示本发明的第2实施方式涉及的药液处理装置的简要结构的平面图，图2(b)是表示本发明的第2实施方式涉及的药液处理装置的简要结构的剖面图，图2(c)是表示正在进行药液处理时的药液处理装置的简要结构的平面图，图2(d)是表示正在进行药液处理时的药液处理装置的简要结构的剖面图。
在图2(a)及图1(b)中，药液15贮存在药液槽11内，盖子13漂浮配置在药液15上。而且，在药液槽11上，设置着向药液的深度方向延伸的导轨12；在盖子13上，设置着可以插入导轨12的缺口部18。另外，在盖子13上，沿着带状基板17的输送方向，设置着使带状基板17出入的凹部14a、14b。进而，沿着带状基板17的输送方向，还设置着引导带状基板17的滚轴16a～16d，滚轴16a、16d设置在药液槽11外，滚轴16b、16c设置在药液槽11内。
在这里，盖子13的比重，小于药液15的比重，作为盖子13的材质最好使用例如特氟隆(注册商标)、丙烯、聚丙烯等树脂。这样，即使药液15由酸或碱构成时，也能将盖子13浮在药液15上，防止盖子13被药液15侵蚀，稳定地进行带状基板17的药液处理。
另外，作为药液15，例如可以举出保护膜的显影液、保护膜的剥离液、Cu等金属的腐蚀液等。进而，带状基板17，例如可以在COF(chip on film)、TCP(tape-carry package)、TCM(tape-carry module)等中使用。
而且，进行带状基板17的药液处理时，使带状基板17穿过凹部14a、14b，从而通过盖子13，将带状基板17浸泡在药液15中。并且在将带状基板17浸泡在药液15中的状态下，一面通过滚轴16a～16d输送带状基板17，一面进行带状基板17的药液处理。
而且，进行过带状基板17的药液处理后，如图2(c)及图2(d)所示，附着在带状基板17上的药液15，被从药液槽11中带出来后，药液槽11中的药液15就要减少。在这里，由于将盖子13漂浮配置在药液15上，所以药液槽11中的药液15减少，药液15的液面下降时，盖子13能够跟随药液15的液面。因此，能始终保持使盖子13与药液15的液面相接的状态，抑制药液15的液面暴露在空气中。
其结果，由于盖子13漂浮配置在药液15上，所以能够在进行带状基板17的药液处理时，使药液15的液面不暴露在空气中，也不必为了移动盖子13而使用复杂的机构。能够抑制药液15的氧化等造成药液的劣化，提高药液15的寿命，同时还能将带状基板17的质量维持在一定的水平上，高效地进行药液处理。
另外，通过设置引导盖子13的导轨12，可以一面维持盖子13漂浮在药液15上的状态，一面防止盖子在药液15上向水平方向移动。因此，将盖子13漂浮配置在药液15上时，也能防止盖子13在药液15上被冲走，防止盖子13与带状基板17碰撞，保护带状基板17。
进而，在盖子13上设置使带状基板17出入的凹部14a、14b，从而可以在盖子13漂浮在药液15上的状态下，使带状基板17浸泡在药液15中，一面维持药液15的质量，一面对带状基板17高效地进行药液处理。另外，由于在盖子13上设置凹部14a、14b，从而能在将带状基板17浸泡在药液15中的状态下，将盖子13漂浮配置在药液15上，或者将盖子13拆下来。因此，便于将盖子13设置在药液槽11中，或者一面对带状基板17进行药液处理，一面向药液槽11补充药液15，高效率地对带状基板17进行药液处理。
图3是表示本发明第3实施方式涉及的电路基板的制造方法的剖面图。
在图3(a)中，在带状基板21上，形成铜箔等的导电层22，在导电层22上形成保护膜层23。然后，通过对保护膜层23进行曝光处理，有选择地使保护膜层23感光。
接着，如图3(b)所示，选择性地使保护膜层23感光后，通过对感光的保护膜层23进行显液处理，从而在导电层22上形成保护膜图形24。在这里，对保护膜层23进行显影处理时，作为图1的药液5，可以将显影液贮存在药液槽1内。然后，能一边使盖子3漂浮在药液5上，一边将形成了保护膜层23的带状基板21浸泡在药液5内。
这样，可以一面抑制显影液的液面暴露在空气中，抑制显影液的显影速度的下降，一面进行保护膜层23的显影处理。因此，可以在将带状基板21的输送速度维持一定的状态下，高精度地形成保护膜图形24，抑制生产效率的下降，稳定地进行显影处理。
接着，如图3(c)所示，在导电层22上形成保护膜图形24后，将保护膜图形24作为掩膜，对导电层22进行腐蚀处理，从而在带状基板21上形成布线层25。在这里，对导电层22进行腐蚀处理时，作为图1的药液5，可以在药液槽1中贮存氯化铁等腐蚀液。而且，可以一面使盖子3漂浮在药液5上，一面将形成保护膜图形24的带状基板21浸泡在药液5内。
这样，可以在抑制腐蚀液的液面暴露在空气中，抑制腐蚀液的腐蚀比率的下降的同时，对导电层22进行腐蚀处理。因此，可以在将带状基板21的输送速度维持在一定的状态下，高精度地形成布线层25，抑制生产效率的下降，稳定地进行腐蚀处理。
再接着，如图3(d)所示，在带状基板21上形成布线层25后，剥离布线层25上的保护膜图形24。在这里，剥离保护膜图形24时，作为图1的药液5，可以将有机溶剂等保护膜剥离液贮存在药液槽1内。而且，一面将盖子3漂浮在药液5上，一面将形成保护膜图形24的带状基板21浸泡在药液5内。
这样，可以抑制保护膜剥离液的液面暴露在空气中，抑制保护膜剥离液的腐蚀比率的下降，在剥离保护膜图形24的同时，还能防止保护膜剥离液的挥发。因此，可以在将带状基板21的输送速度维持一定的状态下，高效剥离保护膜图形24，既能防止保护膜图形的剥离遗漏，又能防止保护膜剥离液的浪费。
权利要求
1.一种药液处理装置，其特征在于，具有贮存药液的药液槽；将处理对象输送到所述药液内的输送装置；和覆盖所述药液的液面，漂浮配置在所述药液上的盖子。
2.如权利要求1所述的药液处理装置，其特征在于所述盖子，具有在所述药液中放入或取出所述处理对象的凹部或开口部。
3.如权利要求1或2所述的药液处理装置，其特征在于所述药液槽，具有引导所述盖子上下移动的导轨；所述盖子，具有插入所述导轨的缺口部。
4.如权利要求1～3任一项所述的药液处理装置，其特征在于所述盖子由树脂构成。
5.一种药液处理装置，其特征在于，包括贮存药液的药液槽；设置在所述药液槽内，引导带状基板的滚轴；浮动配置在所述药液上，覆盖所述药液的液面的盖子；沿着所述带状基板的输送方向，配置在所述盖子上，使所述带状基板出入所述药液槽的一对凹部或开口部。
6.一种药液处理方法，其特征在于，包括将盖子漂浮配置在药液槽贮存的药液上的工序；和通过将处理对象浸泡在漂浮配置着所述盖子的药液内，对所述处理对象进行药液处理的工序。
7.一种电路基板的制造方法，其特征在于，包括在带状基板上形成导电层的工序；在所述导电层上涂敷保护膜的工序；对所述导电层上涂敷的保护膜有选择地进行曝光的工序；通过在漂浮配置着盖子的显影液槽内，浸泡经所述保护膜曝光处理的带状基板，对所述保护膜进行图形化的工序；和将经所述图形化的保护膜作为掩膜，蚀刻所述导电层，从而在所述带状基板上形成布线层的工序。
8.一种电路基板的制造方法，其特征在于，包括在带状基板上形成导电层的工序；在所述导电层上形成保护膜图形的工序；和通过将形成有所述保护膜图形的带状基板，浸泡在漂浮配置着盖子的腐蚀液槽内，从而对所述导电层进行图形化的工序。
全文摘要
本发明涉及药液处理装置、药液处理方法及电路基板的制造方法。其中，将盖子(3)漂浮配置在被药液槽(1)贮存的药液(5)上，使带状基板(7)穿过开口部(4a、4b)，通过盖子(3)将带状基板(7)浸泡在药液(5)中，在将带状基板(7)浸泡在药液(5)中的状态下，一边通过滚轴(6a～6d)输送带状基板(7)，一边对带状基板(7)进行药液处理。从而既可防止药液的液面暴露在空气中，又可以进行药液处理。
文档编号H01L21/3213GK1574237SQ20041004767
公开日2005年2月2日 申请日期2004年5月26日 优先权日2003年5月30日
发明者五味二夫 申请人:精工爱普生株式会社