技术总结
本发明公开了一种等离子体刻蚀炉，包括圆柱状的炉体；所述炉体的一端的上侧开放有气体进入通道；所述炉体下侧开放有真空排气通道；所述炉体中固定有晶圆放置台；所述晶圆放置台为倾斜状，由炉体的气体进入通道一端到炉体的另一端，晶圆放置台的位置越来越高；晶圆放置于晶圆放置台之上；晶圆垂直于晶圆放置台的上表面，且面向圆柱状炉体的地面；炉体周围包围有两个相对的弧状射频电极；射频发生器连接于其中一个射频电极之上。本发明通过改变晶圆放置台的角度，使得当晶圆放置台上放置有多个晶圆的时候，位于后方的晶圆也可以均匀接触产生等离子体的气体，使得反应更加均匀。本发明尤其适用于炉体较长的等离子体反应炉。
技术研发人员：吕耀安
受保护的技术使用者：无锡宏纳科技有限公司
文档号码：201610585048
技术研发日：2016.07.22
技术公布日：2016.11.16