1.一种半导体设备的处理腔室的控氧控压系统，包括：处理腔室、与处理腔室连通的排气阀和常开排气管路支路、循环风机、与处理腔室连通的氮气输入管路、与处理腔室连通的压力检测器、与氮气输入管路和压力检测器相连的控制器，以及与控制器相连且与处理腔室相连通的氧气分析仪，其特征在于，
所述氮气输入管路包括两路并联的氮气输入支路，第一氮气输入支路具有第一气动阀和质量流量控制计，第二氮气输入支路具有第二气动阀和流量计；质量流量控制计控制并显示通过第一氮气输入支路的流量，流量计用于显示通过第二氮气输入支路的流量，通过质量流量控制计和流量计的显示值可以确定向处理腔室输入的总氮气流量；
所述循环风机设置于所述处理腔室内部，用于加速处理腔室内的气体循环流动；
处理腔室的腔体上还设置有泄压口，泄压口连通有泄压管路；
对处理腔室的氧含量控制时，控制器打开氮气输入管路，第一气动阀，第二气动阀和压力检测器；质量流量控制计控制第一氮气输入支路的流量达到最大，此时，控制器将排气阀打开，将处理腔室内的空气快速排出；通过氧气分析仪检测处理腔室内的氧含量，氧气分析仪将检测到的氧含量实时传输给控制器；当氧气分析仪检测到氧含量等于或低于所设定的警示值时，控制器关闭排气阀和第二气动阀，常开排气管路支路一直处在打开状态；氧气分析仪将检测的氧含量数据不断传输给控制器，控制器相应的不断调节质量流量控制计来控制第一氮气输入支路的气体流量，直至氧气分析仪检测到的处理腔室内的氧含量达到目标值；
对处理腔室的压力控制时，通过压力检测器来检测处理腔室的压力值，并且将压力值传输给控制器，当压力值为正值且超过设定值时，控制器控制打开泄压管路，对处理腔室进行泄压，直至处理腔室的压力达到所设定值；当压力值为负值时，控制器调节质量流量控制计来控制经氮气输入管路进入处理腔室的氮气流量，直至处理腔室内的压力达到设定值。
2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述氮气输入管路上还设置有三通阀，三通阀与氧气分析仪相连通；控制器控制氮气输入管路打开时，三通阀也同时打开，氧气分析仪收集氮气输入管路的氮气以及处理腔室的气体，通过对比分析得出处理腔室的氧含量；经分析的氮气和处理腔室的气体从氧气分析仪的排气管路排出。
3.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，还包括：泄压管路上设置有第三气动阀，第三气动阀与控制器相连，在控制器的控制下实现泄压管路的通断。
4.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，在处理腔室上设置有空气进入口，空气进入口连通有空气进入管路，空气进入管路上设置换向阀，换向阀控制空气进入管路的通断。
5.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，处理腔室的外侧壁上还设置有过滤器，外界气体通过过滤器才能进入处理腔室内部，过滤器用于净化进入处理腔室的气体。
6.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，处理腔室的外侧壁上还设置有热交换器，热交换器用于降低处理腔室内的温度。
7.根据权利要求5或6所述的系统，其特征在于，处理腔室内的下部设置有晶圆台，循环风机设置于处理腔室内的底部，气体从晶圆表面至处理腔室底部如此循环。
8.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述氮气输入管路上还设置有开关阀，开关阀用于控制氮气输入管路的通断。
9.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述氮气输入管路上还设置调压阀和压力表，调压阀用于调节氮气输入管路的压力，压力表用于监测氮气输入管路的压力。
10.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述警示值为所述目标值的4～7倍。