集成电路封装件及其形成方法与流程

文档序号:11628218阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明的实施例提供了一种集成电路封装件以及其形成方法。一种方法包括将第一管芯和第二管芯附接至载体,第一管芯具有第一接触焊盘,第二管芯具有第二接触焊盘,第一接触焊盘和第二接触焊盘具有不同的结构。释放层形成在第一管芯和第二管芯上方。在载体和释放层之间注射包封剂。在第一管芯、第二管芯和包封剂上方形成一个或多个再分布层(RDL),第一接触焊盘和第二接触焊盘与一个或多个RDL电接触。

技术研发人员:潘国龙;刘重希;蔡豪益;陈玉芬;郑余任
受保护的技术使用者:台湾积体电路制造股份有限公司
技术研发日:2016.12.27
技术公布日:2017.08.01
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