1.一种用于链式刻蚀机的刻蚀减薄量监控装置，其特征在于：包括至少1组用于检测刻蚀前硅片(1)厚度的前激光探头组(2)、至少1组用于检测刻蚀后硅片(5)厚度的后激光探头组(4)、控制系统和报警机构；
所述前激光探头组或后激光探头组均包括上探头和下探头；
所述前激光探头组和后激光探头组的输出信号传输至控制系统；所述报警机构由控制系统控制连接。
2.根据权利要求1所述的用于链式刻蚀机的刻蚀减薄量监控装置，其特征在于：所述前激光探头组包括设于硅片上方的上探头和设于硅片下方的下探头，上探头和下探头处于同一竖直线上，且该竖直线与硅片相垂直。
3.根据权利要求1所述的用于链式刻蚀机的刻蚀减薄量监控装置，其特征在于：所述后激光探头组包括设于硅片上方的上探头和设于硅片下方的下探头，上探头和下探头处于同一竖直线上，且该竖直线与硅片相垂直。
4.根据权利要求1所述的用于链式刻蚀机的刻蚀减薄量监控装置，其特征在于：所述控制系统内设有运算模组，由前激光探头组和后激光探头组的输出信号经运算模组计算后即可得到刻蚀减薄量的数值，当该刻蚀减薄量的数值超出设定的标准范围时，控制系统控制报警机构进行报警。
5.根据权利要求1所述的用于链式刻蚀机的刻蚀减薄量监控装置，其特征在于：所述报警机构为蜂鸣器。
6.根据权利要求1所述的用于链式刻蚀机的刻蚀减薄量监控装置，其特征在于：所述前激光探头组的数量为3~8组，且相对于硅片均匀设置。
7.根据权利要求1所述的用于链式刻蚀机的刻蚀减薄量监控装置，其特征在于：所述后激光探头组的数量为3~8组，且相对于硅片均匀设置。