技术特征：
技术总结
本发明一种像素界定层及其制备方法和应用，包括如下步骤：S1、获取基板，所述基板具有图形化像素电极；S2、于所述基板上沉积一层负性光阻薄膜；S3、获取光照掩板，所述光照掩板与所述负性光阻薄膜之间设有间隔，所述间隔为50‑200μm；S4、利用所述光照掩板对所述负性光阻薄膜进行曝光，曝光剂量为100‑300mj/cm2；S5、对曝光后的所述负性光阻薄膜进行显影操作，去除未曝光的所述负性光阻薄膜，形成所述像素界定层。上述像素界定层的制作方法，通过在曝光时提高光照掩板与负性光阻薄膜之间的曝光间距，能形成小角度tape角。方法简单、易操作、成本低，蒸镀顶电极时不会引起薄膜断裂，提高产品良率。
技术研发人员：陈亚文
受保护的技术使用者：广东聚华印刷显示技术有限公司
技术研发日：2017.03.21
技术公布日：2018.02.13