的两个端逐渐地减小的宽度，所述惰性气体是通过所述两个端被弓I入； 第二通道，所述第二通道在所述第一通道的延伸方向上延伸，所述第二通道布置在所述第一通道与所述第二储箱之间；以及 第三通道，所述第三通道在所述第二通道的延伸方向上延伸，所述第三通道布置在所述第二通道与所述第二储箱之间， 其中所述第一通道具有连接到第一气体供应管的一个端以及连接到第二气体供应管的另一端。
8.根据权利要求7所述的气体注射单元，其中所述第一储箱包括: 第一划分构件，所述第一划分构件在所述气体注射块内与所述气体注射块的内部侧壁隔开，所述第一划分构件在所述第一划分构件的中心方向上具有从所述第一划分构件的两个端逐渐地增大的宽度； 第二划分构件，所述第二划分构件布置在所述第二储箱与所述第一划分构件之间，所述第二划分构件与所述第一划分构件隔开；以及 第三划分构件，所述第三划分构件布置在所述第二储箱与所述第二划分构件之间，所述第三划分构件与所述第二划分构件隔开， 其中所述第一通道对应于所述第一划分构件与所述气体注射块的所述内部侧壁之间界定的空间， 所述第二通道对应于所述第一划分构件与所述第二划分构件之间界定的空间，并且 所述第三通道对应于所述第二划分构件与所述第三划分构件之间界定的空间。
9.根据权利要求8所述的气体注射单元，其中所述第一划分构件具有多个第一连通孔，所述多个第一连通孔在所述第一划分构件的延伸方向上排列，并且彼此隔开，以允许所述第一通道与所述第二通道连通， 所述第二划分构件具有多个第二连通孔，所述多个第二连通孔在所述第二划分构件的延伸方向上排列，并且彼此隔开，以允许所述第二通道与所述第三通道连通，并且 所述第三划分构件具有多个第三连通孔，所述多个第三连通孔在所述第三划分构件的延伸方向上排列，并且彼此隔开，以允许所述第三通道与所述第二储箱连通。
10.根据权利要求9所述的气体注射单元，其中所述第二连通孔的数目小于所述第一连通孔的数目，并且所述第三连通孔的数目小于所述第二连通孔的数目。
11.根据权利要求9所述的气体注射单元，其中所述第二连通孔中的每一个具有小于所述第一连通孔中的每一个的内径的内径，并且所述第三连通孔中的每一个具有小于所述第二连通孔中的每一个的内径的内径。
12.一种热处理设备，所述热处理设备包括: 工艺腔室，在所述工艺腔室具有衬底处理空间； 光源，所述光源布置在所述工艺腔室外部以输出用于处理衬底的光； 光照射单元，所述光照射单元布置在所述工艺腔室内，所述光照射单元具有内部空间，从所述光源输出的所述光穿过所述内部空间；以及 气体注射单元，所述气体注射单元布置在所述光照射单元下方并且布置在所述光照射单元与所述衬底之间，以将惰性气体注射到所述衬底上， 其中所述气体注射单元包括: 气体注射块，所述气体注射块具有气体注射空间，所述惰性气体穿过所述气体注射空间，并且所述气体注射块具有注射狭缝，所述注射狭缝界定在下侧中、具有在所述衬底的一个方向上延伸的线形状，并且允许所述惰性气体穿过所述注射狭缝，以便朝向所述衬底引导所述惰性气体；以及 气体供应部件，所述气体供应部件包括第一储箱，所述第一储箱在所述注射狭缝的延伸方向上延伸，并且在所述第一储箱的中心方向上具有从所述第一储箱的两个端逐渐地减小的内径，所述惰性气体是通过所述两个端被引入，所述气体供应部件布置在所述气体注射块内并且连接到所述气体注射空间，以将所述惰性气体供应到所述气体注射空间中。
13.根据权利要求12所述的热处理设备，其中所述气体供应部件包括: 第二储箱，所述第二储箱布置在所述气体注射块内以在所述第一储箱的延伸方向上延伸，所述第二储箱布置在所述第一储箱与所述气体注射空间之间，并且具有小于所述第一储箱的体积的体积；以及 第三储箱，所述第三储箱布置在所述气体注射块内以在所述第二储箱的延伸方向上延伸，所述第三储箱布置在所述第二储箱与所述气体注射空间之间，并且具有小于所述第二储箱的体积的体积。
14.一种热处理设备，所述热处理设备包括: 工艺腔室，在所述工艺腔室中具有衬底处理空间； 光源，所述光源布置在所述工艺腔室外部以输出用于处理衬底的光； 光照射单元，所述光照射单元布置在所述工艺腔室内，所述光照射单元具有内部空间，从所述光源输出的所述光穿过所述内部空间；以及 气体注射单元，所述气体注射单元布置在所述光照射单元下方并且布置在所述光照射单元与所述衬底之间，以将惰性气体注射到所述衬底上， 其中所述气体注射单元包括: 气体注射块，所述气体注射块具有气体注射空间，所述惰性气体穿过所述气体注射空间，并且所述气体注射块具有注射狭缝，所述注射狭缝界定在下侧中、具有在所述衬底的一个方向上延伸的线形状，并且允许所述惰性气体穿过所述注射狭缝，以便朝向所述衬底引导所述惰性气体；以及 气体供应部件，所述气体供应部件具有多个储箱，所述多个储箱在所述气体注射块内在所述气体注射空间的方向上排列，并且具有彼此不同的体积，所述气体供应部件将所述惰性气体供应到所述气体注射空间中，其中具有相对小体积的所述储箱是邻近于所述气体注射空间而布置。
15.根据权利要求14所述的热处理设备，其中所述多个储箱包括: 第一储箱，所述第一储箱在所述注射狭缝的延伸方向上延伸，所述第一储箱在所述第一储箱的中心方向上具有从所述第一储箱的两个端逐渐地减小的内径，所述惰性气体是通过所述两个端被引入； 第二储箱，所述第二储箱布置在所述气体注射块内以在所述第一储箱的延伸方向上延伸，所述第二储箱布置在所述第一储箱与所述气体注射空间之间，并且具有小于所述第一储箱的体积的体积；以及 第三储箱，所述第三储箱布置在所述气体注射块内以在所述第二储箱的延伸方向上延伸，所述第三储箱布置在所述第二储箱与所述气体注射空间之间，并且具有小于所述第二储箱的体积的体积。
16.根据权利要求13或15所述的热处理设备，其中所述气体供应部件包括: 连接通道，所述连接通道将所述第二储箱连接到所述第三储箱，所述连接通道是小于所述第二储箱以及所述第三储箱中的每一个的体积的体积；以及 排放狭缝，所述排放狭缝具有连接到所述第三储箱的一个端以及与所述气体注射空间的内部连通的另一端，所述排放狭缝具有小于所述连接通道的体积的体积。
17.根据权利要求13或15所述的热处理设备，其中所述第一储箱包括: 第一通道，所述第一通道在所述第一通道的中心方向上具有从所述第一通道的两个端逐渐地减小的宽度，所述惰性气体是通过所述两个端被弓I入； 第二通道，所述第二通道在所述第一通道的延伸方向上延伸，所述第二通道布置在所述第一通道与所述第二储箱之间；以及 第三通道，所述第三通道在所述第二通道的延伸方向上延伸，所述第三通道布置在所述第二通道与所述第二储箱之间， 其中所述热处理设备包括气体供应管，所述气体供应管连接到所述第一储箱的所述两个端中的每一个，以将所述惰性气体供应到所述第一储箱中。
18.根据权利要求17所述的热处理设备，其中所述第一储箱包括: 第一划分构件，所述第一划分构件在所述气体注射块内与所述气体注射块的内部侧壁隔开，所述第一划分构件在所述第一划分构件的中心方向上具有从所述第一划分构件的两个端逐渐地增大的宽度； 第二划分构件，所述第二划分构件布置在所述第二储箱与所述第一划分构件之间，所述第二划分构件与所述第一划分构件隔开；以及 第三划分构件，所述第三划分构件布置在所述第二储箱与所述第二划分构件之间，所述第三划分构件与所述第二划分构件隔开， 其中所述第一通道对应于所述第一划分构件与所述气体注射块的所述内部侧壁之间界定的空间， 所述第二通道对应于所述第一划分构件与所述第二划分构件之间界定的空间，并且 所述第三通道对应于所述第二划分构件与所述第三划分构件之间界定的空间。
19.根据权利要求18所述的热处理设备，其中所述第一划分构件具有多个第一连通孔，所述多个第一连通孔在所述第一划分构件的延伸方向上排列，并且彼此隔开，以允许所述第一通道与所述第二通道连通， 所述第二划分构件具有多个第二连通孔，所述多个第二连通孔在所述第二划分构件的延伸方向上排列，并且彼此隔开，以允许所述第二通道与所述第三通道连通，并且 所述第三划分构件具有多个第三连通孔，所述多个第三连通孔在所述第三划分构件的延伸方向上排列，并且彼此隔开，以允许所述第三通道与所述第二储箱连通。
20.根据权利要求19所述的热处理设备，其中所述第二连通孔的数目小于所述第一连通孔的数目，并且所述第三连通孔的数目小于所述第二连通孔的数目。
21.根据权利要求19所述的热处理设备，其中所述第二连通孔中的每一个具有小于所述第一连通孔中的每一个的内径的内径，并且所述第三连通孔中的每一个具有小于所述第二连通孔中的每一个的内径的内径。
【专利摘要】提供一种气体注射单元以及一种包含气体注射单元的热处理设备。经配置以将惰性气体注射到衬底上的气体注射单元包含：气体注射块，气体注射块具有气体注射空间，惰性气体穿过气体注射空间，并且气体注射块具有注射狭缝，注射狭缝界定在下侧中、具有在衬底的一个方向上延伸的线形状，并且允许惰性气体穿过注射狭缝，以便朝向衬底引导惰性气体；以及气体供应部件，气体供应部件包含第一储箱，第一储箱在注射狭缝的延伸方向上延伸，并且在第一储箱的中心方向上具有从第一储箱的两个端逐渐地减小的内径，惰性气体是通过两个端被引入，气体供应部件布置在气体注射块内并且连接到气体注射空间，以将惰性气体供应到气体注射空间中。
【IPC分类】H01L21-324, H01L21-67
【公开号】CN104576357
【申请号】CN201410563556
【发明人】梁相熙, 李基雄, 严泰骏
【申请人】Ap系统股份有限公司
【公开日】2015年4月29日
【申请日】2014年10月21日