一种阵列基板及显示面板的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种阵列基板及显示面板，其中阵列基板包括基板；设置在基板上的图案化的中间层；以及设置在图案化的中间层上的无图案化的像素电极层，像素电极层对应图案化的中间层形成凹陷区和凸出区。采用本发明的阵列基板可以有效的改善暗纹的问题。
【专利说明】
_种阵列基板及显不面板
技术领域
[0001]本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种阵列基板及显示面板。
【背景技术】
[0002]当前显示器的发展迅速，按照其显示原理可分为液晶显示器、等离子显示器、有机电致发光显示器等。
[0003]在液晶显示器的各种显示模式中，垂直排列(VA)显示模式因具有良好的视角而受到市场欢迎，一般来说VA显示模式采用多畴设计，而当前实现多畴设计有两种模式:一是像素电极的裂缝形成侧向电场的PVA模式;而是像素单元中的凸起使得液晶分子形成多畴排列的MVA模式，然而在两种模式中，液晶显示器都存在暗纹或显示不佳的问题。
【发明内容】
[0004]本发明的目的在于提供一种阵列基板及显示面板，以解决使用现有阵列基板的显示面板上出现暗纹的问题。
[0005]为解决上述问题，本发明提出一种阵列基板，该阵列基板包括:基板;设置在基板上的图案化的中间层；以及设置在图案化的中间层上的无图案化的像素电极层，像素电极层对应图案化的中间层形成凹陷区和凸出区。
[0006]其中，图案化的中间层为沟槽结构或条状结构。
[0007]其中，沟槽结构包括凹槽和凸起，像素电极层对应凹槽形成凹陷区，像素电极层对应凸起形成凸出区。
[0008]其中，条状结构包括条块和条块之间的狭缝，像素电极层对应条块形成凸出区，像素电极层对应狭缝形成凹陷区。
[0009]其中，图案化的中间层为鱼骨状图案。
[0010]其中，图案化的中间层为有源层。
[0011]其中，有源层与像素电极层之间设置有钝化层。
[0012]其中，有源层的材料为非晶硅或铟镓锌氧化物。
[0013]为解决上述技术问题，本发明还提出一种显示面板，该显示面板包括上述阵列基板。
[0014]其中，显示面板进一步包括对应阵列基板设置的彩色滤光片基板，以及设置在阵列基板和彩色滤光片基板之间的液晶层。
[0015]本发明阵列基板包括:基板，设置在基板上的图案化的中间层，以及设置在图案化的中间层上的无图案化的像素电极层，像素电极层对应图案化的中间层形成凹陷区和凸出区。本发明阵列基板中的像素电极层为无图案化的，即块状像素电极层，不存在狭缝，使用该阵列基板的显示面板不会出现暗纹、显示亮度和对比度不佳的问题。
【附图说明】
[0016]图1是本发明阵列基板第一实施方式的结构示意图；
[0017]图2是本发明阵列基板第二实施方式的结构示意图；
[0018]图3是图2所示阵列基板第二实施方式像素电极层的俯视图；
[0019]图4是图2所示阵列基板第二实施方式的制作流程图；
[0020]图5是本发明显示面板一实施方式的结构示意图。
【具体实施方式】
[0021]为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和【具体实施方式】对发明所提供的一种阵列基板及显示面板做进一步详细描述。
[0022]参阅图1，图1是本发明阵列基板第一实施方式的结构示意图，本实施方式阵列基板100包括基板11、中间层12、像素电极层13。
[0023]中间层12为图案化的中间层12，即形成中间层12的过程包括能够实现图案化的刻蚀工艺。无图案化的像素电极层13则形成在中间层12上，像素电极层13对应图案化的中间层12形成凸出区131和凹陷区132。
[0024]具体来说图案化的中间层12可以为条状结构(如图1(A))或沟槽结构(如图1(B))。
[0025]条状结构的中间层12包括条块121和条块121之间形成的狭缝122，即在刻蚀工艺中，将狭缝122处的中间层12完全去除。对于此类中间层12，像素电极层13上对应条块121形成凸出区131，对应于狭缝122形成凹陷区132。
[0026]沟槽结构的中间层12则包括凸起121和凹槽122，凹槽122处还保留有较薄的中间层12，即在刻蚀工艺中，只是将凹槽122处的中间层12部分去除。对于该类中间层12，像素电极层13上对应凸起121形成凸出区131，对应凹槽122形成凹陷区132。
[0027]无论是对于条状结构或沟槽结构的中间层12，像素电极层13均在其上形成具有凸出区131和凹陷区132的块状电极，保证使用该阵列基板100的显示面板中的液晶均能发生翻转，显不面板不会出现暗纹。
[0028]具体到应用中，中间层12与像素电极层13之间还可以设置别的层，像素电极层13可以直接沉积在中间层12上，也可以不直接沉积在中间层12上。
[0029]本实施方式阵列基板包括基板，设置在基板上的图案化的中间层，以及设置在图案化的中间层上的无图案化的像素电极层，像素电极层对应图案化的中间层形成凹陷区和凸出区。其中像素电极层为无图案化的，即为块状像素电极层，不存在狭缝，使用该阵列基板的显示面板不会出现暗纹、显示亮度和对比度不佳的问题。
[0030]请参阅图2，图2是本发明阵列基板第二实施方式的结构示意图，本实施方式阵列基板200包括玻璃基板21，以及在玻璃基板21上依次形成的栅极22、栅极绝缘层23、有源层24、阻挡层25、源/漏极26、钝化层27和像素电极层28。
[0031]其中，有源层24为本发明中图案化的中间层，像素电极层28设置在有源层24上方，对应于有源层24形成有凸出区281和凹陷区282，本实施方式中的有源层24为条状结构，当然也可为沟槽结构，具体来说图案化的有源层24为鱼骨状图案。相应的像素电极层28的凸出区281和凹陷区282也构成鱼骨状图案的纹路，可参阅图3，图3是图2所示阵列基板第二实施方式像素电极层的俯视图。
[0032]对于本实施方式阵列基板200，其制造过程可参阅图4，图4是图2所示阵列基板第二实施方式的制作流程图，该制造过程包括以下步骤。
[0033]S401:在玻璃基板上形成栅极和栅极绝缘层。
[0034]采用物理气相沉积及湿法刻蚀工艺在玻璃基板21上形成栅极22，然后采用化学气相沉积及干法刻蚀工艺形成栅极绝缘层23。
[0035]S402:栅极绝缘层上形成图案化的有源层。
[0036]在栅极绝缘层23上形成图案化的有源层24，主要是在阵列基板对应的显示区域形成该有源层24，以使得对应该图案化有源层24的像素电极层28具有凸出区281和凹陷区282，该图案化的有源层24为条状结构的鱼骨状图案，形成有源层24的材料可以为非晶硅或铟镓锌氧化物(IGZO)。
[0037]S403:形成具有开口的阻挡层。
[0038]在形成图案化的有源层24后，采用化学气相沉积及干法刻蚀工艺形成阻挡层25，该阻挡层25为刻蚀阻挡层25，即在后续刻蚀工艺中起到阻挡作用，避免已形成的有源层24又被刻蚀。由于后续形成的源/漏极26需要与有源层24电性连接，因此在阻挡层25上还形成两开口，以分别供源极和漏极与有源层24接触。
[0039]S404:阻挡层上形成源/漏极，源/漏极均通过阻挡层的开口与有源层电性连接。
[0040]源极和漏极为同一种金属，因此在本步骤S404中同时形成，具体来说，首先采用物理气相沉积一金属层，然后通过湿法刻蚀工艺对该金属层进行图案化处理，以形成源极和漏极。在沉积金属层时，由于阻挡层25上具有开口，因此金属层可沉积于开口中，以实现与有源层24的电性连接。
[0041 ] S405:形成具有开口的钝化层。
[0042]为延缓金属的源/漏极26的氧化，继续形成一钝化层27，由于后续形成的像素电极层28需要与漏极电性连接，因此在钝化层27上还形成一开口，使得像素电极层28能够通过该开口与漏极接触。具体来说钝化层的形成采用化学气相沉积和干法刻蚀工艺。
[0043]S406:形成像素电极层，像素电极层通过钝化层的开口与漏极电性连接。
[0044]本实施方式中像素电极层28由铟锡氧化物(ITO)采用物理气相沉积法制得，ITO能够沉积于钝化层27的开口中，实现与漏极的电性连接。
[0045]由于本实施方式中形成的有源层24为条状结构，因此形成在其上方的阻挡层25、钝化层27以及像素电极层28均有凸出区和凹陷区，对于像素电极层28，对应于有源层24的条块，其形成凸出区281，对应于有源层24的狭缝，其形成有凹陷区282。
[0046]本实施方式中所形成的像素电极层28为具有凸出区281和凹陷区282的块状像素电极层，不存在狭缝，因此，使用该阵列基板200的显示面板不会出现暗纹、显示亮度和对比度不佳的问题。
[0047]请参阅图5，图5是本发明显示面板一实施方式的结构示意图，本实施方式显示面板500包括阵列基板51、彩色滤光片基板52以及液晶层53。
[0048]液晶层53位于阵列基板51和彩色滤光片基板52之间，本实施方式显示面板500中的阵列基板51与上述阵列基板200类似，具体不再赘述。
[0049]本实施方式的液晶层53在阵列基板51和彩色滤光片基板52之间均能得到有效翻转，显示面板500不会出现暗纹、显示亮度和对比度不佳的问题。
[0050]以上所述仅为本发明的实施方式，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。
【主权项】
1.一种阵列基板，其特征在于，所述阵列基板包括: 基板； 设置在所述基板上的图案化的中间层； 以及设置在所述图案化的中间层上的无图案化的像素电极层，所述像素电极层对应所述图案化的中间层形成凹陷区和凸出区。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述图案化的中间层为沟槽结构或条状结构。3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述沟槽结构包括凹槽和凸起，所述像素电极层对应所述凹槽形成所述凹陷区，所述像素电极层对应所述凸起形成所述凸出区。4.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述条状结构包括条块和条块之间的狭缝，所述像素电极层对应所述条块形成所述凸出区，所述像素电极层对应所述狭缝形成所述凹陷区。5.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述图案化的中间层为鱼骨状图案。6.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述图案化的中间层为有源层。7.根据权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述有源层与所述像素电极层之间设置有钝化层。8.根据权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述有源层的材料为非晶硅或铟镓锌氧化物。9.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括权利要求1-8中任一项所述的阵列基板。10.根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板进一步包括对应所述阵列基板设置的彩色滤光片基板，以及设置在所述阵列基板和所述彩色滤光片基板之间的液晶层。
【文档编号】H01L27/12GK105938840SQ201610524830
【公开日】2016年9月14日
【申请日】2016年7月5日
【发明人】周志超, 周佑联, 武岳
【申请人】深圳市华星光电技术有限公司