显示基板及显示装置的制造方法

文档序号:10352842阅读:230来源:国知局
显示基板及显示装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示基板及显示装置。
【背景技术】
[0002]随着显示技术的不断进步,IXD(Liquid Crystal Display,液晶显示器)、0LED(Organic Light-Emitting D1de,有机发光二极管)等显示器已广泛地应用于笔记本电脑、智能手机、电视机的显示设备中。In Cell Touch实现了一站式生产,是触控加显示的最终解决方案,将触控面板和LCD真正地结合在一起,具有集成化、轻薄、低成本、低功耗、高画质、多点触控等优势,已成为显示领域未来的发展方向。
[0003]当前市场上所销售的InCell Touch产品,具有两套独立的扫描寻址线路,一套扫描寻址线路包括触控发射线和触控感应线,用以实现触控功能,一套扫描选址线路包括栅极线和数据线,用以实现显示功能。独立设置的两套寻址线路,使得显示装置的边框较大,且当用于实现显示功能的栅极线和数据线与用于实现触控功能的触控发射线和触控感应线相交时,显示信号和触控信号将彼此互相干扰,导致触控和显示效果均不佳。
【实用新型内容】
[0004]为了解决现有技术的问题,本实用新型实施例提供了一种显示基板、制备方法及显示装置。所述技术方案如下:
[0005]第一方面,提供了一种显示基板,所述显示基板包括:栅极线、闸集成电路、数据集成电路及数据线;
[0006]所述显示基板还包括栅极引入线和触控电极引入线,每根所述触控电极引入线对应于一根所述栅极引入线,所述栅极引入线设置于靠近所述闸集成电路的一侧,所述触控电极引入线设置于靠近所述数据集成电路的一侧;
[0007]所述栅极引入线连接所述栅极线和所述闸集成电路,所述栅极引入线从所述闸集成电路一侧沿所述数据线方向延伸至与所述栅极线相连接处;
[0008]所述触控电极引入线与所述数据集成电路相连,所述触控电极引入线从所述数据集成电路一侧沿所述数据线方向延伸至所述栅极引入线与所述栅极线相连接处下方。
[0009]可选地,所述显示基板还包括第一过孔;
[0010]所述栅极引入线与所述栅极线通过所述第一过孔相连。
[0011]可选地,所述显示基板还包括触控电极,所述触控电极被分割为多个触控子电极。
[0012]可选地,所述显示基板还包括第二过孔;
[0013]所述触控电极引入线通过所述第二过孔与所述触控子电极相连。
[0014]可选地,所述栅极弓I入线设置于所述数据线的一侧;或,
[0015]所述栅极引入线设置于相邻两条所述数据线之间。
[0016]可选地,所述触控电极引入线设置于所述数据线一侧;或,
[0017]所述触控电极引入线设置于相邻两条所述数据线之间。
[0018]可选地,所述栅极引入线和所述触控电极引入线均与所述数据线同层设置。
[0019]可选地,所述闸集成电路与所述数据集成电路相对设置。
[0020]可选地,所述闸集成电路与所述数据集成电路分别设置于所述数据线的两端。
[0021]第二方面,提供了一种显示装置,所述显示装置包括上述第一方面所述的显示基板。
[0022]第三方面,提供了一种显示基板的制备方法,所述方法用于制备上述第一方面所述的显示基板,所述方法包括:
[0023]在衬底基板上形成栅极金属层图形;
[0024]在所述衬底基板上形成源漏极金属层图形;
[0025]其中,所述栅极金属层包括所述栅极线,所述源漏极金属层包括所述数据线、所述栅极引入线和所述触控电极引入线。
[0026]可选地,所述显示基板为底栅结构,所述显示基板包括:
[0027]依次形成于所述衬底基板上的栅极金属层、栅极绝缘层、有源层、源漏极金属层、钝化层、像素驱动层图形、平坦层、触控电极层;
[0028]其中,所述触控电极层包括多个触控子电极,所述栅极绝缘层具有第一过孔,所述栅极线与所述栅极引入线之间通过所述第一过孔连接,所述触控电极引入线上方具有第二过孔,所述触控子电极与所述触控电极引入线一一对应,且通过所述第二过孔连接。
[0029]可选地,所述显示基板为顶栅结构,所述显示基板包括:
[0030]依次形成于所述衬底基板上的像素驱动层、钝化层、源漏极金属层、有源层、栅极绝缘层、栅极金属层、平坦层、触控电极层;
[0031]其中,所述触控电极层包括多个触控子电极,所述栅极绝缘层具有第一过孔,所述栅极线与所述栅极引入线之间通过所述第一过孔连接,所述触控电极引入线上方具有第二过孔,所述触控子电极与所述触控电极引入线一一对应,且通过所述第二过孔连接。
[0032]可选地,所述在衬底基板上形成源漏极金属层图形,包括:
[0033]在所述衬底基板上沉积源漏极金属薄膜;
[0034]在所述源漏极金属薄膜上涂覆一层光刻胶;
[0035]采用掩膜版对涂覆光刻胶的衬底基板表面进行曝光处理;
[0036]对曝光处理后衬底基板表面进行显影处理;
[0037]对显影处理后的衬底基板表面进行刻蚀处理,得到源漏极金属层图形。
[0038]本实用新型实施例提供的技术方案带来的有益效果是:
[0039]通过设置不相交的栅极引入线和触控电极引入线,避免了信号间干扰,提高了显示和触控效果,且所设置的栅极引入线和触控电极引入线均未贯穿整个显示基板,节省了空间,使得显示装置的边框更窄。
【附图说明】
[0040]为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。[0041 ]图1是本实用新型一个实施例提供的一种显示基板的结构示意图;
[0042]图2是本实用新型另一个实施例提供的一种显示基板的结构示意图;
[0043]图3是本实用新型另一个实施例提供的一种显示基板的结构示意图;
[0044]图4是本实用新型另一个实施例提供的一种底栅结构的显示基板的制备方法的流程图;
[0045]图5是本实用新型另一个实施例提供的一种显示基板的膜层结构示意图;
[0046]图6是本实用新型另一个实施例提供的一种顶栅结构的显示基板的制备方法的流程图;
[0047]图7是本实用新型另一个实施例提供的一种显示基板的膜层结构示意图;
[0048]其中,附图标记为:1、栅极线;2、闸集成电路;3、数据集成电路;4、数据线;5、栅极引入线;6、触控电极引入线;7、第一过孔;8、第二过孔;9、触控子电极;10、第三过孔;40、衬底基板;41、栅极;42、栅极绝缘层;43、有源层;45、钝化层;46、像素驱动层;47、平坦层;48、触控电极层;49、源极;50、漏极。
【具体实施方式】
[0049]为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本实用新型实施方式作进一步地详细描述。
[0050]本实用新型实施例提供了一种显示基板,该显示基板基于电容式In cell Touch像素设计,采用分时驱动,将显示阶段和触控阶段分开,避免了信号干扰。参见图1,该显示基板包括栅极线1、闸集成电路(即Gate IC)2、数据集成电路(S卩Data IC)3及数据线4。其中,栅极线I与数据线4垂直,栅极线I可以为多条,数据线4也可以为多条。参见图2,闸集成电路2与数据集成电路3相对设置,且闸集成电路2与数据集成电路3设置于数据线4的两端。采用该种设置方式,触控电极被分割为M行、N列,得到M*N个触控子电极9。
[0051]为了能够将显示和触控阶段分开,以避免信号干扰,参见图1,该显示基板还包括栅极引
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