此，红色亚像素区域的发光层的厚度A、绿色亚像素区域的发光层的厚度B和蓝色亚像素区域的发光层的厚度C的大小关系为A>B>C。
[0042]由于亚像素区域对应颜色的光的波长越长，对应阳极的厚度越大，因此，红色亚像素区域的阳极的厚度L，绿色亚像素区域的阳极的厚度M，蓝色亚像素区域的阳极的厚度N之间的大小关系为L>M>N。
[0043]在一些实施方式中，所述红色亚像素区域的光栅结构的宽度大于所述绿色亚像素区域的光栅结构的宽度，所述绿色亚像素区域的光栅结构的宽度大于蓝色亚像素区域的光栅结构的宽度;且所述红色亚像素区域的光栅结构的周期大于所述绿色亚像素区域的光栅结构的周期，所述绿色亚像素区域的光栅结构的周期大于所述蓝色亚像素区域的光栅结构的周期。
[0044]这样当OLED显示基板的发光层发出的白光经过红色亚像素区域时，该红色亚像素区域的光栅结构对该白光过滤仅让红光通过，同理，白光经过绿色亚像素区域时，该区域的光栅结构仅让绿光通过，白光经过蓝色亚像素区域时，该区域的光栅结构仅让蓝光通过。这样就实现了对不同颜色光的过滤，实现了彩色色阻层的功能。
[0045]优选实施例中，所述红色亚像素区域、绿色亚像素区域和蓝色亚像素区域的光栅结构的宽度范围为80-300nm，周期范围为200-500nm。具体地，红色亚像素区域的光栅结构的宽度可以为200nm，绿色亚像素区域的光栅结构的宽度可以为lOOnm，蓝色亚像素区域的光栅结构的宽度可以为80nm，红色亚像素区域的光栅结构的周期可以为340nm，绿色亚像素区域的光栅结构的周期可以为260nm，蓝色亚像素区域的光栅结构的周期可以为220nmo
[0046]优选实施例中，为了提高光取出效率，所述红色亚像素区域的光栅结构的深度与宽度的比值大于所述绿色亚像素区域的光栅结构的深度与宽度的比值，所述绿色亚像素区域的光栅结构的深度与宽度的比值大于蓝色亚像素区域的光栅结构的深度与宽度的比值。
[0047]优选实施例中，所述红色亚像素区域、绿色亚像素区域和蓝色亚像素区域的光栅结构的深度范围为80-200nmo
[0048]阳极可以采用功函数和反射率高的金属，比如金。金的反射率是98%，电极厚度可以是80-200nm。优选实施例中，阳极为采用Ag/Mo合金，Ag/Mo合金具有较高的反射率。
[0049]实施例二
[0050]本实施例还提供了一种显示装置，包括如上所述的OLED显示基板。所述显示装置可以为:0LED面板、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
[0051 ] 实施例三
[0052]目前，OLED全彩色显示主要采用两种方法:RGB像素独立发光法和彩色滤光片法。前一种方法是采用红(R)绿(G)蓝(B)三色发光材料独立发光，这种方法的优点是色彩饱和度高、亮度大，但有着制作工艺复杂、能耗大等缺点；后一种方法如图1所示，由三基色的彩色滤光片5和发白光的OLED显示基板构成，这种方法在制作过程中不需要金属荫罩对位技术，可采用成熟的LCD(液晶显示器)的彩色滤光片的制作技术，适用于大屏幕显示，且成本小于前一种方法。
[0053]从图1中可以看出，一像素单元内的发光层的厚度在不同位置上均是相同的，只有一种最佳波长的可见光能够得到增强出光，并且是通过彩色滤光片来提高色彩饱和度，这样就增加了显示器件的厚度，降低了透过率和OLED显示基板的光利用率。
[0054]为了提尚OLED显不基板的光利用率，如图2所不，本实施例的OLED显不基板包括相对设置的第一衬底基板I和第二衬底基板6，形成在衬底基板I上的红色亚像素区域、绿色亚像素区域和蓝色亚像素区域，每一亚像素区域包括沿远离基板方向上依次设置的薄膜晶体管(未示出)、阳极2、发光层3和阴极4，其中红色亚像素区域的发光层的厚度为A，绿色亚像素区域的发光层的厚度为B，蓝色亚像素区域的发光层的厚度为C，A>B>C。具体地，阳极2可以采用Ag/Mo合金，Ag/Mo合金的反射率较强，红色亚像素区域、绿色亚像素区域和蓝色亚像素区域的阳极2的厚度相等。阴极4为采用低功函的金属材料制成，例如可以采用Al制成阴极。
[0055]本实施例针对RGB三色的发射分别设计不同的光程长，不同颜色的亚像素区域的发光层具有不同的厚度，同时采用具有镂空部的阳极，具体地，镂空部的形状为狭缝状，能够降低环境光在金属电极上的反射，提高OLED显示基板的出光效率，从而可以省去偏光片的贴附，进而提高OLED显示基板的光利用率。另外，由于微腔结构的亮度随视角改变而变化，因此，可以使得旁边的人无法看见显示内容，保证显示内容的私密性。
[0056]由于在OLED显示基板的阳极和发光层为采用不同材料组成，因此阳极和发光层之间存在界面，在该界面，部分光子会转化为表面等离子体激元而沿阳极表面传播耗散掉，优选地，阳极可以为布拉格衍射光栅结构，能够提取出等离子激元损耗光，进一步增加OLED显不基板的出光效率。
[0057]进一步地，如图3所示，阴极4为光栅结构，可以通过设计不同周期和宽度的光栅来过滤出不同的颜色，从而省去彩色滤光片的设置，降低显示装置的厚度，还可简化显示装置的结构。由于一定周期的光栅结构具有角度依赖性，因此，阴极4采用光栅结构还可提高显示内容的私密性；另外，由于阴极4自身也会吸收部分光能量，而光栅结构的阴极存在镂空区域，因此，采用光栅结构的阴极4能够降低对光能量的吸收，进一步增加OLED显示基板的出光效率。
[0058]OLED器件由于衬底基板与空气之间的界面、衬底基板与阴极之间的界面、发光层与阴极之间的界面都存在全反射，导致光子能量以波导模式被困在衬底基板、阴极和发光层中；在阴极和发光层界面，部分光子会转化为表面等离子体激元而沿阴极表面传播耗散掉，因此，阴极可以设计为布拉格衍射光栅，能够提取出等离子激元损耗光，进一步增加OLED显示基板的出光效率。
[0059]具体地，红色亚像素区域的光栅结构的宽度大于绿色亚像素区域的光栅结构的宽度，绿色亚像素区域的光栅结构的宽度大于蓝色亚像素区域的光栅结构的宽度;且红色亚像素区域的光栅结构的周期大于绿色亚像素区域的光栅结构的周期，绿色亚像素区域的光栅结构的周期大于蓝色亚像素区域的光栅结构的周期。这样OLED显示基板的发光层可以发出白光，经过红色亚像素区域的光栅结构过滤出红光，经过绿色亚像素区域的光栅结构过滤出绿光，经过蓝色亚像素区域的光栅结构过滤出蓝光。
[0060]具体地，红色亚像素区域、绿色亚像素区域和蓝色亚像素区域的光栅结构的宽度范围为80-300nm，周期范围为200-500nm。具体地，红色亚像素区域的光栅结构的宽度可以为200nm，绿色亚像素区域的光栅结构的宽度可以为lOOnm，蓝色亚像素区域的光栅结构的宽度可以为80nm，红色亚像素区域的光栅结构的周期可以为340nm，绿色亚像素区域的光栅结构的周期可以为260nm，蓝色亚像素区域的光栅结构的周期可以为220nmo
[0061]进一步地，为了提高光取出效率，红色亚像素区域的光栅结构的深度与宽度的比值大于绿色亚像素区域的光栅结构的深度与宽度的比值，绿色亚像素区域的光栅结构的深度与宽度的比值大于蓝色亚像素区域的光栅结构的深度与宽度的比值。具体地，红色亚像素区域、绿色亚像素区域和蓝色亚像素区域的光栅结构的深度范围为80-200nm。
[0062]本实施例以OLED显示基板包括红色亚像素区域、绿色亚像素区域和蓝色亚像素区域为例对本实用新型的OLED显示基板进行说明，进一步地，OLED显示基板上还可以形成其它颜色的亚像素区域，当形成其它颜色的亚像素区域时，需要对发光层的厚度进行调整，使发光层的厚度与对应颜色的