波长相适应，形成微腔结构，同时对阴极的光栅结构的周期和宽度进行调整，使得光栅结构能够过滤出对应颜色的光。
[0063]实施例四
[0064]为了提尚OLED显不基板的光利用率，如图4所不，本实施例的OLED显不基板包括相对设置的第一衬底基板I和第二衬底基板6，形成在衬底基板I上的红色亚像素区域、绿色亚像素区域和蓝色亚像素区域，每一亚像素区域包括沿远离基板方向上依次设置的薄膜晶体管、阳极2、发光层3和阴极4，不同亚像素区域的发光层的厚度相等，其中红色亚像素区域的阳极的厚度为L，绿色亚像素区域的阳极的厚度为M，蓝色亚像素区域的阳极的厚度为N，L>M>Νο具体地，阳极2可以采用Ag/Mo合金。阴极4为采用低功函的金属材料，比如Al制成。
[0065]本实施例针对RGB三色的发射分别设计不同的光程长，不同颜色的亚像素区域的阳极具有不同的厚度，同时采用具有镂空部的阳极，具体地，如图6所示，镂空部7的形状可以为狭缝状，这样能够降低环境光在金属电极上的反射，提高OLED显示基板的出光效率，从而可以省去偏光片的贴附，进而提高OLED显示基板的光利用率。另外，由于微腔结构的亮度随视角改变而变化，因此，可以使得旁边的人无法看见显示内容，保证显示内容的私密性。
[0066]由于在OLED显示基板的阳极和发光层为采用不同材料组成，因此阳极和发光层之间存在界面，在该界面，部分光子会转化为表面等离子体激元而沿阳极表面传播耗散掉，优选地，阳极可以为布拉格衍射光栅结构，能够提取出等离子激元损耗光，进一步增加OLED显不基板的出光效率。
[0067]进一步地，如图5所示，阴极4为光栅结构，可以通过设计不同周期和宽度的光栅来过滤出不同的颜色，从而省去彩色滤光片的设置，降低显示装置的厚度；由于一定周期的光栅结构具有角度依赖性，因此，阴极4采用光栅结构还可提高显示内容的私密性;另外，由于阴极4自身也会吸收部分光能量，而光栅结构的阴极存在镂空区域，因此，采用光栅结构的阴极4能够降低对光能量的吸收，进一步增加OLED显示基板的出光效率。
[0068]OLED器件由于衬底基板与空气之间的界面、衬底基板与阴极之间的界面、发光层与阴极之间的界面都存在全反射，导致光子能量以波导模式被困在衬底基板、阴极和发光层中；在阴极和发光层界面，部分光子会转化为表面等离子体激元而沿阴极表面传播耗散掉，因此，阴极可以设计为布拉格衍射光栅，能够提取出等离子激元损耗光，进一步增加OLED显示基板的出光效率。
[0069]具体地，红色亚像素区域的光栅结构的宽度大于绿色亚像素区域的光栅结构的宽度，绿色亚像素区域的光栅结构的宽度大于蓝色亚像素区域的光栅结构的宽度;且红色亚像素区域的光栅结构的周期大于绿色亚像素区域的光栅结构的周期，绿色亚像素区域的光栅结构的周期大于蓝色亚像素区域的光栅结构的周期。这样OLED显示基板的发光层可以发出白光，经过红色亚像素区域的光栅结构过滤出红光，经过绿色亚像素区域的光栅结构过滤出绿光，经过蓝色亚像素区域的光栅结构过滤出蓝光。
[0070]具体地，红色亚像素区域、绿色亚像素区域和蓝色亚像素区域的光栅结构的宽度范围为80-300nm，周期范围为200-500nm。具体地，红色亚像素区域的光栅结构的宽度可以为200nm，绿色亚像素区域的光栅结构的宽度可以为lOOnm，蓝色亚像素区域的光栅结构的宽度可以为80nm，红色亚像素区域的光栅结构的周期可以为340nm，绿色亚像素区域的光栅结构的周期可以为260nm，蓝色亚像素区域的光栅结构的周期可以为220nmo
[0071]进一步地，为了提高光取出效率，红色亚像素区域的光栅结构的深度与宽度的比值大于绿色亚像素区域的光栅结构的深度与宽度的比值，绿色亚像素区域的光栅结构的深度与宽度的比值大于蓝色亚像素区域的光栅结构的深度与宽度的比值。具体地，红色亚像素区域、绿色亚像素区域和蓝色亚像素区域的光栅结构的深度范围为80-200nm。
[0072]本实施例以OLED显示基板包括红色亚像素区域、绿色亚像素区域和蓝色亚像素区域为例对本实用新型的OLED显示基板进行说明，进一步地，OLED显示基板上还可以形成其它颜色的亚像素区域，当形成其它颜色的亚像素区域时，需要对阳极的厚度进行调整，使阳极的厚度与对应颜色的波长相适应，形成微腔结构，同时对阴极的光栅结构的周期和宽度进行调整，使得光栅结构能够过滤出对应颜色的光。
[0073]以上所述是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
【主权项】
1.一种OLED显示基板，包括形成在基板上的多个不同颜色的亚像素区域，每一亚像素区域包括沿远离所述基板方向上依次设置的薄膜晶体管、阳极、发光层和阴极，阳极和阴极之间形成微腔结构，其特征在于，所述阳极包括有镂空部，不同颜色亚像素区域的所述发光层具有不同的厚度，或不同颜色亚像素区域的所述阳极具有不同的厚度。2.根据权利要求1所述的OLED显示基板，其特征在于，所述镂空部的形状为狭缝状。3.根据权利要求2所述的OLED显示基板，其特征在于，所述阳极为布拉格衍射光栅结构。4.根据权利要求1所述的OLED显示基板，其特征在于， 不同颜色亚像素区域的所述发光层厚度不同，阳极厚度相同；或 不同颜色亚像素区域的所述发光层厚度相同，阳极厚度不相同。5.根据权利要求1所述的OLED显示基板，其特征在于，所述阴极为光栅结构，不同颜色亚像素区域的光栅结构的周期和宽度不同；亚像素区域对应颜色的波长越长，光栅结构的宽度越宽;亚像素区域对应颜色的波长越长，光栅结构的周期越宽。6.根据权利要求5所述的OLED显示基板，其特征在于，所述阴极为布拉格衍射光栅结构。7.根据权利要求5所述的OLED显示基板，其特征在于，所述基板上形成有红色亚像素区域、绿色亚像素区域和蓝色亚像素区域;所述红色亚像素区域、绿色亚像素区域和蓝色亚像素区域的光栅结构的宽度范围为80-300nm，周期范围为200-500nmo8.根据权利要求7所述的OLED显示基板，其特征在于，所述红色亚像素区域的光栅结构的深度与宽度的比值大于所述绿色亚像素区域的光栅结构的深度与宽度的比值，所述绿色亚像素区域的光栅结构的深度与宽度的比值大于蓝色亚像素区域的光栅结构的深度与宽度的比值。9.根据权利要求8所述的OLED显示基板，其特征在于，所述红色亚像素区域、绿色亚像素区域和蓝色亚像素区域的光栅结构的深度范围为80-200nm。10.根据权利要求1-9中任一项所述的OLED显示基板，其特征在于，所述阳极为采用Ag/Mo合金。11.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-10中任一项所述的OLED显示基板。
【专利摘要】本实用新型提供了一种OLED显示基板及显示装置，属于显示技术领域。所述OLED显示基板包括，形成在基板上的多个不同颜色的亚像素区域，每一亚像素区域包括沿远离所述基板方向上依次设置的薄膜晶体管、阳极、发光层和阴极，阳极和阴极之间形成微腔结构，所述阳极包括有镂空部，不同颜色亚像素区域的所述发光层具有不同的厚度，或不同颜色亚像素区域的所述阳极具有不同的厚度。本实用新型的技术方案能够在不贴附偏光片的情况下降低环境光的影响，从而可以省去贴附偏光片，进而提高OLED显示器件的光利用率。
【IPC分类】H01L27/32, H01L51/52, G09F9/33
【公开号】CN205264706
【申请号】CN201620011225
【发明人】季春燕
【申请人】京东方科技集团股份有限公司
【公开日】2016年5月25日
【申请日】2016年1月6日