一种电机线圈绕组与转子组合结构的制作方法

本发明涉及电机技术领域，尤其涉及一种电机线圈绕组与转子组合结构。

背景技术：

电机由定子和转子组成，定子是电机中静止不动的部分，定子铁芯是用来构成磁通路径和嵌放定子绕组。目前为了防止线圈绕组跑出，定子线圈一般采用槽楔固定线圈绕组，但是在长时间使用后，槽楔由于受到外力的不断推搡，因而会发生移位的现象，进而会导致线圈绕组跑出来，严重影响电机的稳定运行，造成不必要的经济损失。

因此，为了解决上述存在的技术问题，本发明特提供了一种新的技术方案。

技术实现要素：

本发明的目的是提供了一种电机线圈绕组与转子组合结构，在槽楔与转子之间增设止推件，当转子被碰撞后使得槽楔不移位，明显减少频繁维修或更换槽楔的次数，降低资源浪费，节约成本。

本发明针对上述技术缺陷所采用的技术方案是：

一种电机线圈绕组与转子组合结构，包括多个线圈绕组与多个转子，多个线圈绕组通过槽楔被安装在对应的多个转子上，其中槽楔与转子之间还设置有用于当转子被碰撞后使得槽楔不移位的止推件，止推件包括第一止推片和第二止推片，第一止推片和第二止推片均为圆弧结构，且第一止推片与第二止推片的止推面滑动接触，第一止推片和第二止推片包含的止推面的大体为六边形框架，六边形框架的中心向外围辐射的区域设置有多个支架，且每个支架与框架的形状相同，只是尺寸从中心向外围辐射的方向呈等比例放大，框架与多个支架之间通过支撑杆相连接，框架与多个支架的6个角的位置上均设置有耐磨凸包，且框架与多个支架形成的面上增设有加强筋。

进一步地，支撑杆的数量为6个，6个支撑杆分别从框架的6个角的位置上开始穿插，并依次穿过每个支架在止推面的中心被结扎为结点。

进一步地，耐磨凸包的大小从止推面的中心为外围辐射的方向上呈逐渐递增的趋势。

进一步地，加强筋的数量从止推面的中心为外围辐射的方向上呈逐渐递增的趋势。

进一步地，加强筋的递增趋势为2ⁿ，其中n为递增次数。

本发明的有益效果是：本发明在槽楔与转子之间增设止推件，且止推件包含滑动接触的第一止推片和第二止推片，当转子被碰撞后使得槽楔不移位，明显减少频繁维修或更换槽楔的次数，降低资源浪费，而且第一止推片和第二止推片的止推面设置有耐磨凸包及其加强筋，大大提高了止推件的使用周期，经久耐用，节约成本。

附图说明

下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细描述。

图1为本发明的结构示意图。

图2为图1上A部的局部放大示意图。

图3为本发明所述止推面的结构示意图。

其中： 1、线圈绕组，2、转子，3、槽楔，4、止推件，5、第一止推片，6、第二止推片，7、止推面，8、框架，9、支架，10、支撑杆，11、耐磨凸包，12、加强筋，13、结点。

具体实施方式

为了加深对本发明的理解，下面将结合实施例和附图对本发明作进一步详述，该实施例仅用于解释本发明，并不构成对本发明的保护范围的限定。

如图1至图3所示的一种电机线圈绕组与转子组合结构，包括多个线圈绕组1与多个转子2，多个线圈绕组1通过槽楔3被安装在对应的多个转子2上，其中槽楔3与转子2之间还设置有用于当转子2被碰撞后使得槽楔3不移位的止推件，止推件4包括第一止推片5和第二止推片6，第一止推片5和第二止推片6均为圆弧结构，且第一止推片5与第二止推片6的止推面7滑动接触，第一止推片5和第二止推片6包含的止推面7的大体为六边形框架8，六边形框架8的中心向外围辐射的区域设置有多个支架9，且每个支架9与框架8的形状相同，只是尺寸从中心向外围辐射的方向呈等比例放大，框架8与多个支架9之间通过支撑杆10相连接，框架8与多个支架9的6个角的位置上均设置有耐磨凸包11，且框架8与多个支架9形成的面上增设有加强筋12。

在本实施例中，支撑杆10的数量为6个，6个支撑杆10分别从框架8的6个角的位置上开始穿插，并依次穿过每个支架9在止推面7的中心被结扎为结点13，用以提高止推面7在纵向位置上的强度。

在本实施例中，耐磨凸包11的大小从止推面7的中心为外围辐射的方向上呈逐渐递增的趋势，使得止推面7边缘的耐磨范围增加，防止止推面7的边缘磨损严重，显著提高了止推件4的使用周期，经久耐用

在本实施例中，加强筋12的数量从止推面7的中心为外围辐射的方向上呈逐渐递增的趋势，在本实施例中，加强筋12的递增趋势为2ⁿ，其中n为递增次数，具体来说，加强筋12一次递增后的数量为2，二次递增后的数量为4，三次递增后的数量为8，以此类推，使得止推面7的强度在纵向上加深。

本发明的有益效果是：本发明在槽楔与转子之间增设止推件，且止推件包含滑动接触的第一止推片和第二止推片，当转子被碰撞后使得槽楔不移位，明显减少频繁维修或更换槽楔的次数，降低资源浪费，节约成本。

以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。