薄膜显示元件和制造的制作方法

本发明涉及透明薄膜显示器，例如无机薄膜电致发光tfel显示器和薄膜透明有机发光二极管oled显示器。具体而言，本发明涉及透明显示器的操作层的可见性。

背景技术：

诸如电致发光显示器和oled显示器的透明显示器被广泛用于各种应用中。

这种显示器的透明性允许它们能够用于尤其是这样的应用中：仅希望由显示器发出的光所产生的显示信息被观察者看到，而显示器的其余部分，以及当处于非发光状态时其发射部分应该是不可察觉的。这类应用的示例包括集成到飞机、车辆或工程机械的挡风玻璃中的平视显示器(head-updisplay，hud)，以及集成到包含透明外壳的显示视窗或显示盒以及不同医疗和其他类型的设备中的显示器。

在许多这些应用中，透明显示器或显示元件集成在诸如窗口等大面积透明面板之内或之上，因此显示器仅覆盖透明面板的一部分区域。另一方面，同样在“透明”显示器的情况下，显示器的一个或多个操作层可能影响入射到显示器上的光的传播，使得显示器是可察觉到的。这可能导致显示器覆盖的区域与透明面板区域的其余部分的不期望的视觉感知。

技术实现要素：

提供本发明内容是为了以简化的形式介绍一些概念，这些概念将在下面的详细描述中进一步描述。本发明内容不旨在确定所要求保护的主题的关键特征或必要特征，也不旨在用于限制所要求保护的主题的范围。

公开了一种透明薄膜显示元件，其具有显示区域和过渡区域，显示区域具有至少一个发射区域，过渡区域具有与显示区域邻接的第一边缘和与第一边缘相对的第二边缘。

透明显示元件具有叠层，该叠层包括第一导体层、第二导体层和叠置在第一和第二导体层之间的至少一个发射层，并且至少一个发射层被配置为当电流流过第一和第二导体层之间的发射层时在至少一个发射区域中发光。

有利地，包括第一和第二导体层以及发射层的组中的至少一层在过渡区域中具有位于第一边缘处的第一覆盖率、位于第二边缘处低于第一覆盖率的第二覆盖率以及位于第一和第二边缘之间的中间覆盖率，所述中间覆盖率处于第一和第二覆盖率之间。

许多伴随的特征将更容易理解，因为参考结合附图考虑的以下详细描述，它们变得更好理解。

附图说明

参照附图阅读以下详细描述，将更好地理解本说明书，其中：

图1示意性示出了透明电致发光显示面板的截面图；

图2示意性示出了透明有机发光二极管oled显示面板的截面图；

图3示出了透明显示元件的正视图；

图4示出了窗口面板的示意性截面图；和

图5示出了制造透明显示元件的方法的流程图。

图1至图4不是按比例绘制的。

具体实施方式

下文中结合附图提供的详细描述旨在描述多个实施方式，而不旨在代表实施方式可以被构造、实现或利用的唯一形式。

图1的透明薄膜显示元件100具有显示区域101，显示区域101又具有多个发射区域102。显示区域仅包括一个发射区域的其他实施方式也是可能的。

“显示区域”是指在显示元件100的横向方向上观察或限定的预定区或区域，在该显示区域中，发射区域102能够发光以形成将由显示元件显示的实际视觉信息。

显示元件100具有沿显示元件的厚度方向叠置的叠层103，该叠层103包括沿显示元件的横向方向延伸的实际操作层。叠层包括：第一导体层110；第二导体层120；以及叠置在第一和第二导体层之间的发射层130。

“薄膜”是指操作层的叠层103具有小于或等于10μm的总厚度。单层的厚度例如可以在几纳米至几百纳米或几微米的范围内。

“导体”是指电导体及其导电性。“导电”相应地指导电材料或结构。

“透明”是指显示元件及其层、部件和材料在相关波长范围内的光学透明性。换句话说，“透明”材料或结构是指允许在这种相关波长范围内的光，或更一般地说电磁辐射传播通过这种材料或结构的材料或结构。相关的波长范围可以取决于透明显示元件将被使用的应用。在一些实施方式中，相关波长范围可以是约390nm至约700nm的可见光波长范围。

此外，透明显示元件100及其部件的透明性主要指透明显示元件的厚度方向上的透明性。因此，为了是“透明的”，入射到透明显示元件或其一部分上的足够部分的光能量应该在厚度方向上传播透过透明显示元件或其一部分，并且基本上以其初始方向离开透明显示元件或其一部分。该足够部分可以取决于透明显示元件将被使用的应用。对于一些应用，该部分在操作层的整个叠层存在的位置处例如可以是垂直入射到透明显示元件上的光的能量的至少70％或90％。

所述在传播透过显示元件之后也保持初始传播方向而没有明显扩散或散射，是指透明显示元件的光学清晰度。

第一和第二导体层被图案化，从而具有细长的导体迹线111、121，不同层的导体迹线在不同方向上延伸，例如彼此垂直。

导体迹线111、121用作电极，用于在显示元件的厚度方向上提供电压和/或电流通过第一和第二导体层110、120之间的发射层。发射层被配置成在电流流过第一和第二透明导体层之间的该发射层时在发射区102发光。

在图1的示例中，导体迹线111、121将发射区域102限定为位于第一和第二导体层110、120的导体迹线111、121相交的位置。图1的显示元件100由此例如可以形成具有在这些相交点形成的发射像素的矩阵型显示元件。在其他实施方式中，第一和第二导体层可以以另一种方式图案化，从而具有不同于图1的示例的导体迹线的导体图案。例如，这些层可以包括形状和尺寸相同的导体图案，这些导体图案彼此对齐叠置。例如，这样的配置可以实施为形成分段式显示元件。同样在这种配置和可能的其他类型的配置中，发射区域可以被定义为由存在于两个导体层中的导体图案形成的电极所在的位置。

在图1的示例中，透明薄膜显示元件是无机薄膜电致发光显示tfel元件。其叠层103进一步包括位于第一导体层110和发射层130之间的第一透明介电层141，以及在发射层130和第二导体层之间的第二介电层142。

透明显示元件100的整个叠层103形成并位于由玻璃(诸如钠钙玻璃或铝硅酸盐玻璃)形成的透明衬底104上，或者一些其他合适的材料例如任何其他合适的透明玻璃或塑料。可能的塑料材料包括例如聚乙烯pe和聚碳酸酯pc，但不限于这些示例。

透明显示元件，包括其衬底104，可以形成为柔性和/或可弯曲结构，使得能够将其附着或层压在弯曲的或任何自由成形的三维表面上。

总的来说，无机薄膜电致发光(“el”)显示元件通常包括位于第一和第二导电电极层之间的介电层-发光层-介电层。在图1的示例中，发射层130因此代表发光层，并且第一和第二导体层110、120用作第一和第二导电电极层。

在操作中，通过在导电电极层之间提供电压差，在发光层中提供合适的电场，电子被放电到发光层中，随着由电子激发的发光中心返回到它们的基态，于是产生发光。因此，在一般水平上，电致发光显示器的操作基于当暴露于外部电场时发光的发光材料。发光层和/或其发光材料也可以称为“磷光体”。

作为发光层的发射层130例如可以包括锰掺杂的硫化锌zns:锰作为发光材料。自然地，其他发光材料也是可能的。

第一和第二介电层141、142例如可以包括氧化锑锡ato或任何其他合适的介电材料。

第一和第二导体层110、120例如可以包括铟锡氧化物ito、铝掺杂的氧化锌ato(zno:al)，或任何其他合适的透明导电氧化物tco或其他透明导体材料。

在其他实施方式中，发射层、第一和第二介电层以及第一和第二导体层中的任何一层可以包括多个不同材料或组成的亚层。

在以薄膜结构提供的无机el显示器中，发光材料被布置为薄发光层，其厚度通常小于1000纳米，典型地约为500-750纳米。对于低电压应用，厚度还可以更低。

el显示器的基本技术是众所周知的，并且已经在例如“电致发光显示器”(yoshimasaa.ono,worldscientificpublishingco.,1995(isbn981-02-1920-0)的第3、5和8章中进行了广泛描述。

显示元件100还具有过渡区域105，该过渡区域105具有与显示区域101邻接的第一边缘106(即位于与显示区域相邻并由显示区域限定)和与第一边缘相对并相距第一边缘一定距离的第二边缘107。过渡区域105因此具有由过渡区域的第一和第二边缘之间的距离限定的宽度。

第一和第二介电层141、142以及发射层130以覆盖透明显示元件的整个显示区域101和过渡区域的连续结构延伸。因此，它们对透明显示元件的视觉感知或可见性的可能影响在整个显示区域101中是均匀的。

在图1的示例中，第一和第二导体层110、120除了其导体迹线121之外还包括在由导体迹线111、121限定的发射区域102之外的无源导体元件122(第一导体层的无源导体元件在图1中不可见)。无源导体元件限定了显示区域中的无源区域109，即不能发光的区域。

“无源”导体元件是指不与用于连接导体层和外部电源的任何接触装置电连接的导体层的图案。因此，从电学的观点来看，这种无源导体元件是不参与显示元件的电操作或发光操作的“无源”结构。

无源导体元件122使得第一和第二导体层110、120能够覆盖显示区域101的主要部分。在导体迹线111、121和无源导体元件122之间可以存在宽度为例如几十微米的小间隙123(第一导体层的间隙在图1中不可见)。导体层的无源导体元件和导体迹线可以覆盖例如显示区域的至少80％的面积。

由于显示区域的该主要部分被第一和第二导体层覆盖，所以显示区域的光学结构和视觉外观可以非常均匀。

在过渡区域105中，第二导体层120具有沿厚度方向穿过该第二导体层而形成的多个孔124。孔124的宽度朝着过渡区域的第二边缘107逐渐增加，使得第二导体层120的覆盖率在过渡区域105的具有第一覆盖率的第一边缘106和具有比第一覆盖率低的第二覆盖率的第二边缘107之间逐渐减小。

层的“覆盖率”是指该层覆盖特定区域的部分。例如，在图1的示例的第二导体层120的情况下，当观察过渡区域中包括多个孔的区域时，该区域中的第二导体层的覆盖率是该区域被孔以外的第二导体层的材料覆盖的部分。

在其他实施方式中，在过渡区域的第一和第二边缘之间，可以存在一个或多个其间逐步变化的离散的中间覆盖率，而不是第二导体层的连续或逐渐变化的覆盖率。

孔的尺寸可以有利地设置成使得在所讨论的应用的通常观察距离处，它们对于人眼是不可见的。这种观察距离在不同应用中可能不同。例如，在显示元件被集成在车辆或工程机械窗户或挡风玻璃之内或之上的应用中，它可以位于例如50cm至100cm的范围内。换句话说，它们可以具有低于人眼的平均角度分辨率的尺寸。例如，孔的直径可以在30μm至500μm的范围内，例如在100μm至500μm的范围内。

在其他实施方式中，代替孔的尺寸或宽度或直径或除了孔的尺寸或宽度或直径之外，改变透明显示元件的过渡层中的第二导体层的覆盖率的因素可以是孔的分布程度。然后，孔的分布程度在过渡区域的第二边缘处可高于其第一边缘处。类似于孔尺寸的增加，孔分布程度的增加也减少了第一导体层朝向过渡区域的第二边缘的覆盖率。

对象(例如层中的孔)的“分布程度”，是指这些对象出现的空间频率。因此，分布程度越高，相邻对象之间的平均距离越短。

在图1的显示元件100中，存在与过渡区域105邻接的边界区域108。在边界区域中，不存在第二导体层。因此，第二导电层的覆盖率为零。在图1的示例中，实际上整个叠层103不在边界区域108中存在。

应当注意，图1的图示表示显示元件在其一个横截面上的结构。因此，该结构在不同的横截面上可以不同。例如，在导体迹线或与它们连接的一些额外的导体元件被引导到显示区域101的外部以使其能够与外部电源连接的位置处，横截面结构可以不同于图1所示的横截面结构。

在图1的示例中，显示区域形成均匀、完整的“岛形物”，并且过渡区域至少部分地包围显示区域。在其他实施方式中，不同的配置是可能的。例如，过渡区域可以仅与显示区域的一部分邻接，即仅与显示区域的边缘的一部分邻接，而基本上不围绕或环绕显示区域。此外，显示区域可以具有任何形状，例如环状，并且显示区域本身可以被图案化以在其中具有一个或多个孔。相应地，过渡区域然后可以部分或全部与这种显示区域的一个或多个边缘邻接。

过渡层的第一和第二边缘之间的第二导体层的覆盖率的减小可以有利地使得显示元件的显示区域在视觉上不太醒目。换句话说，与第二导体层区域在显示区域的边缘处被突然切断的显示元件相比，显示元件和其外部区域或者显示区域和边界区域之间的视觉外观差异可能变得更加难以察觉。例如，在有限尺寸的显示元件集成在较大的透明基板之内或之上，显示元件仅覆盖这种基板的一部分的应用中，所述效果是有利的。

在图1的示例中，在过渡区域105中仅第二导体层120被图案化，从而具有变化的覆盖率。在其他实施方式中，代替第二导体层或除了第二导体层之外，第一导体层和/或发射层130的覆盖率可以被图案化，以便在过渡区域中具有变化的覆盖率。在一个实施方式中，该实施方式的一个示例示出在图2中，所有这三层的覆盖率可以在过渡区域的第一和第二边缘之间变化。

几层，即两层或更多层，在过渡区域中具有变化的覆盖率，可以进一步增加使显示区域，或者实际上为其在发射区域之外的区域，以及当不发光时的发射区域更不可见的所述有利效果。

在其他实施方式中，代替图1的示例中所示的孔，或者除了图1的示例中所示的孔之外，可以通过在过渡区域中图案化的层来实现显示元件的层的变化的覆盖率，从而具有离散的岛形物，这些岛形物的尺寸和/或分布程度从过渡区域的第一边缘向其第二边缘逐渐或逐步减小。这方面的一个示例在图2中示出。

在图1的示例中，第二导体层具有完全的覆盖率，因此在其第一边缘106处具有100％的覆盖率。完全覆盖率指的是在第一边缘处不存在图案化，而是仅在离第一边缘一定距离处开始图案化。另一方面，“完全覆盖率”并不需要在显示区域的整个外围或者甚至在存在与显示区域相邻的过渡区域的显示区域的整个长度上存在这种覆盖率。而是，这种覆盖率也可以只存在于显示区域的一部分圆周上，或者只存在于过渡区域的一部分长度上。

孔和岛形物，作为用于调整显示元件的层的覆盖率的特征，可以具有任何合适的形状。它们可以是圆形、矩形、五边形等。或者它们可以具有任何其它合适的形状，这例如取决于用于图案化该层的设备和工艺。

图2的显示元件200不同于图1的显示元件，首先在于它是薄膜有机发光二极管oled显示元件。关于过渡区域205中叠层203的各层的变化的覆盖率，下面讨论的原理和实施也可以应用于具有不同类型显示元件的其他实施方式中，例如薄膜电致发光显示元件中，其可以基本上与图1一致。反之亦然，上面参考图1讨论的在过渡区域中实现一个或多个层的变化覆盖率的原理可以用于基本上与图2一致的oled显示元件。

显示元件200的叠层203包括位于形成矩阵型显示元件的电极的第一和第二导体层210、220之间的发射层230和电流传输层250。oled的电流传输层也可以称为“导电/传导层”。在其他实施方式中，具有不同层配置的oled显示元件是可能的。例如，在发射层的相对两侧可以有空穴传输层和电子传输层。

所有发射层230(和电流传输层250)以及第一和第二导体层210、220在过渡区域205中被图案化，从而具有由其间的间隙236、216、226、256分隔开的离散的岛形物235、215、225、255。层的横截面的间隙可以相互连接，从而它们形成在该层中延伸的更大的连续空间。在图2的示例中，不同层的岛形物和间隙具有相同的尺寸，并且彼此上下对齐。在其他实施方式中，不同的布置是可能的。

离散岛形物的尺寸朝着过渡区域的第二边缘减小。由此，这些层在第一边缘处具有第一覆盖率、在第二边缘处具有低于第一覆盖率的第二覆盖率和在过渡区域205的第一和第二边缘之间的几个中间覆盖率，所述几个中间覆盖率介于第一和第二覆盖率之间。

因此，与图1的示例的孔不同，在图2的示例中，离散岛形物被用作通过其来调整过渡区域中不同层的覆盖率的特征。

在其他实施方式中，代替岛形物的尺寸或除岛形物的尺寸之外，可以使它们的分布程度在过渡区域的第一和第二边缘之间减小。

离散岛形物和/或它们之间保留的间隙的尺寸可以有利地确定为在所讨论的应用的通常观察距离处，它们对于人眼是不可见的。换句话说，它们的尺寸低于人眼的平均角度分辨率。例如，岛形物可以具有的直径，和/或岛形物之间保留的间隙可以具有的宽度在30μm至500μm的范围内，例如在100μm至500μm的范围内。

在其他实施方式中，上面参考图2讨论的其中层的变化覆盖率是通过离散岛形物实现的任何布置，可以用于电致发光显示元件或具有第一和第二导体层以及它们之间的发射层的任何其他显示元件类型。另一方面，上面参照图1讨论的其中层的变化覆盖率是通过通孔层实现的任何布置，可以用在有机发光二极管显示元件中，或者用在具有第一和第二导体层以及它们之间的发射层的任何其他显示元件类型中。

此外，关于过渡区域中具有变化的覆盖率的层，可能的实施方式不限于图1和图2的那些示例。在各种实施方式中，在透明薄膜显示元件的过渡区域中，可能存在具有孔和/或离散岛形物的图案，从而得到(i)仅第二导体层；ii)第二导体层和第一导体层；iii)第二导体层和发射层；iv)第二导体层、第一导体层和发射层；v)仅第一导体层；v)第一导体层和发射层；或者vi)仅发射层在过渡区域中的变化的覆盖率。在任何这样的实施方式中，显示元件可以是电致发光显示元件、有机发光二极管显示元件，或具有第一导体层、第二导体层和位于第一和第二导体层之间的发射层(其被配置为当电流流过在第一和第二导体层之间的该发射层时发光)的任何其他合适类型的显示元件。

在一些实施方式中，显示元件的一个或多个介电层在显示元件的过渡层中具有变化的覆盖率也是可能的。

与图1和图2的示例不同，在图3的示例中，显示元件300是分段式显示元件，其第二导体层320在图3的正视图中是可见的。

图3的显示元件300可以是无机电致发光显示元件、有机发光二极管显示元件或具有第一导体层、第二导体层以及位于第一和第二导体层之间的发射层(该发射层被配置为当电流流过在第一和第二导体层之间的该发射层时发光)的任何其他合适类型的显示元件。

具有第二导体层320的叠层形成在透明衬底板304上。

因此，代替相交的导体迹线，显示元件300的电极由第二导体层320的导体段326和第一导体层的互补导体段(在图3中不可见)形成。这些导体段以字母、数字及其部分的形式限定了显示元件的分段式发射区域302。在显示区域301中还存在导体迹线321，其仅用于导体段的电连接路径以使得导体段能够与外部电源连接。

在显示区域301中，在发射区域之外，第二导体层320包括填充导体迹线之外的大部分显示区域面积的无源导体元件322。

导体图案(即导体迹线、导体段和无源导体元件)通过狭窄间隙彼此分开，以防止它们之间短路。由于阐明这些导体图案的形状所需的线宽，图3中的这些间隙是不可区分的。

除了不围绕导体迹线321被引导到显示区域外部的区域之外，过渡区域305围绕显示区域直到位于显示元件边缘的连接器布置360。边界区域308相应地围绕过渡区域。

在过渡区域305中，第二导体层320中包括其中的通孔324，孔的尺寸从过渡区域的第一边缘306向第二边缘307增加。由此，第二边缘307处或第二边缘307附近的第二导体层的覆盖率低于过渡区域305的第一边缘306处或第一边缘306附近的第二导体层的覆盖率。位于第一和第二边缘之间的这些覆盖率极值之间存在几个等级的中间覆盖率。覆盖率可以被认为是逐步地或基本上连续地(因此是逐渐地)改变。

在图3的示例中，在边界区域308中，第二导体层的覆盖率为零。

在其他实施方式中，上面参考图1和图2讨论的任何替代图案化布置可以存在于显示元件的第二导体层中，以调整其在过渡区域中的覆盖率。例如，具有变化的分布程度的孔，或者代替孔，具有变化的尺寸和/或分布程度的离散岛形物，可以用作调整过渡区域中第二导体层的覆盖率的特征。

以上，讨论了第二导体层320的配置。在图3中不可见的第一导体层和/或发射层可以具有相似或相应的配置。例如，它们可以在过渡区域中具有孔，与第二导体层的孔对齐。在其他实施方式中，代替第二导体层，可以仅第一导体层和/或发射层在显示元件的过渡区域中有变化的覆盖率。

图4的窗口面板470包括透明显示元件400，该透明显示元件400可以与上面参考图1讨论的任何一个相对应。在其他实施方式中，窗口面板可以实施有根据上面参考图2和图3讨论的任何一个透明显示元件。

透明显示元件400附着在透明基板471上，并且层压在透明基板和透明盖板472之间。基板和盖板延伸到显示元件的显示区域401和过渡区域405的外部。

在其他实施方式中，窗口面板可以在没有盖板的情况下实施。在又一些其他实施方式中，窗口面板可以在没有任何透明基膜，而是透明显示元件附着在透明盖板上的情况下实施。

在图4的示例中，附着和层压通过光学透明粘性(opticallyclearadhesive，oca)材料的第一和第二层473、474来实现。在其他实施方式中，其他附着和层压配置是可能的。

任何基板和盖板可以包括任何合适的透明塑料或玻璃材料，例如上面讨论的作为透明显示元件的透明衬底的可能材料中的任何材料。

在一个实施方式中，窗口面板实施为诸如公共汽车、拖拉机、汽车或卡车的车辆的窗户或挡风玻璃。在其他实施方式中，窗口面板例如可以实施为平视显示器(hud)布置、建筑物窗口、广告窗口或用户界面面板的窗口面板。

代替透明窗口面板，透明显示元件附着在不透明基板上的实施方式是可能的。

以上，主要讨论了透明显示元件的结构和材料方面及其应用。在下文中，更多的重点将放在与透明显示元件相关的制造方面。以上讨论的与结构和材料方面相关的实施方式、定义、细节和优点在细节上经必要的修改后适用于以下讨论的方法方面。反之亦然。

以下讨论的方法可以用于制造上面讨论的任何透明显示元件。另一方面，以上讨论的透明显示元件代表可以通过以下讨论的方法制造的各种透明显示元件的示例。

图5的方法500可用于制造具有至少一个发射区域的显示区域，以及具有与显示区域邻接的第一边缘和与第一边缘相对的第二边缘的过渡区域的透明薄膜显示元件。在该方法中形成的显示元件例如可以是无机电致发光显示元件或有机发光二极管oled显示元件。

图5的方法500包括在合适的透明衬底上形成操作显示元件层的叠层。形成所述叠层包括在步骤501中，在衬底上形成第一导体层。其它类型的层形成工艺的任何合适的沉积，例如溅射或原子层沉积(atomiclayerdeposition，ald)，可以用于所述形成。

“原子层沉积ald”指的是一种能够精确和受控地生产纳米级厚度的薄膜涂层的薄膜技术。ald也可以称为原子层外延(atomiclayerepitaxy，ale)。在ald工艺中，衬底交替暴露于至少两种前体，每次一种前体，以通过交替重复衬底表面(在后面的阶段，自然是衬底上已经形成的涂层的表面)和前体之间的基本上自限制的表面反应在衬底上形成涂层。结果，沉积的材料一分子层接一分子层地“生长”在衬底上。

在步骤502中，在第一导体层上形成发射层。同样，可以使用任何合适的工艺，例如溅射。

在步骤503中，例如使用形成第一导体层的相同工艺，在发射层上形成第二导体层。

在另一层或一些其它现有结构上形成层并不需要直接在另一层或结构上形成，即因此与另一层或结构直接接触，而是在它们之间可以具有任何合适的中间层和结构。

作为该方法的一个重要特征，包括第一和第二导体层以及发射层的组中的至少一层被形成为在过渡区域中具有位于第一边缘处的第一覆盖率、位于第二边缘处低于第一覆盖率的第二覆盖率以及位于第一和第二边缘之间的位置处介于第一和第二覆盖率之间的中间覆盖率。

过渡区域中至少一层的所述不同覆盖率可以通过任何合适的图案化技术来实现。例如，可以使用电致发光或oled显示元件的图案化电极通常使用的相同光刻工艺来图案化导体层。这种图案化工艺可以包括几个阶段，例如清洁、干燥、光致抗蚀剂涂覆、预烘焙、曝光、显影、蚀刻和具有清洁/干燥步骤的剥离。例如，用于导体层材料ito的光刻图案化可以使用利用了湿法化学工艺的自动化光刻在线工具来进行。所选择的蚀刻剂(例如可以是hcl酸和hno3酸的混合物)去除需要去除的导体层区域。

另一方面，例如，作为发射层的电致发光显示元件的发光层也可以光刻图案化。例如，可以使用类似于通常已知的用于图案化导体层的湿法化学工艺。用于溶解发光层(通常是zns)的合适蚀刻剂包括hcl酸或hcl酸和hno3酸的混合物。在一些实施方式中，可以在发光层和光致抗蚀剂之间使用粘合促进层。用于这种粘合促进层的合适材料的一个示例是al2o3。这种粘合促进层的厚度优选为1nm-50nm，更优选为5nm-15nm，最优选为8nm-12nm。一种用于溶解这种粘合促进层的合适蚀刻剂是h3po4酸。

可以执行制造方法的这些操作，和/或制造方法可以包括任何适当的进一步操作，以便根据以上参考图1至图4讨论的任何操作来制造透明薄膜显示元件或窗口面板。

应当注意，本发明不限于上述实施方式和示例。而是，本发明的实施方式可以在权利要求的范围内自由变化。

应当理解，上述好处和优点可以涉及一个实施方式或示例，或者可以涉及几个实施方式或示例。实施方式和示例不限于那些解决任何或所有所述问题的实施方式和示例，或者那些具有任何或所有所述好处和优点的实施方式和示例。还应当理解，对“一个”项目的引用是指这些项目中的一个或多个。

术语“包括”在本说明书中用于表示包括随后的特征或动作，而不排除存在一个或多个附加特征或动作。