专利名称：薄膜图案层的制造方法
技术领域：
本发明涉及一种薄膜图案层的制造方法。
背景技术：
目前制造薄膜图案层的方法主要包括光微影法及喷墨法。
光微影法该方法是通过在预备形成所需薄膜图案层的基板上，涂敷光阻材料，利用具有预定图案的光罩对光阻材料进行曝光及显影，或加上蚀刻制程，而形成具有预设图案的薄膜图案层。该光微影法需要真空装置等大型设备或复杂的制程，并且，此方法材料的使用效率较低，因而造成制造成本高。
喷墨法采用喷墨装置将形成薄膜图案层的墨水喷射在基板的一定位置，墨水干燥后形成预定薄膜图案层。
传统喷墨方法制作薄膜图案层时，一般是先在基板上形成挡墙，然后将墨水喷射在挡墙之间的区域，墨水干燥后固定在挡墙之间形成薄膜图案层。但是，该挡墙的高度高于液体墨水的高度，而墨水干燥后两者差别更大，因此，需要以研磨或者蚀刻等方式将挡墙高出墨水的部分磨平，以达到所需要的平坦度要求。此外，由于挡墙与墨水之间的毛细作用，墨水会向挡墙壁上攀爬，墨水干燥后会导致靠近挡墙处的薄膜图案层厚度较大，而中间的薄膜图案层厚度较薄，从而使薄膜图案层表面凹凸不平。
发明内容有鉴于此，有必要提供一种可提高薄膜图案层平坦度的薄膜图案层的制造方法。
一种薄膜图案层的制造方法，包括下列步骤提供一个具有若干高台的基板；在选定的高台表面涂布墨水；干燥墨水形成图案层。
与现有技术相比，该薄膜图案层的制造方法无须制作挡墙，而是将墨水直接喷射在高台表面，借助高台表面张力及内聚力的作用，使墨水干燥后固定在高台上，无须研磨即可实现所需要薄膜图案层的平坦度。
图1是本发明实施例薄膜图案层的制造方法的流程图。
图2是提供基板的示意图。
图3是形成高台材料层的示意图。
图4是形成高台的示意图。
图5是形成图案层的示意图。
具体实施方式
如图1所示，其是本发明实施例薄膜图案层的制造方法的流程图，该方法主要包括下列步骤提供一基板；于该基板上形成若干高台；在选定的高台表面涂布墨水；干燥墨水形成图案层。
下面结合图2至图5对该薄膜图案层的制造方法进行详细说明。
如图2所示，为提供一基板10，该基板10可选用但不限于玻璃基板、硅晶圆基板、金属板或者塑胶基板等。基板10的面积根据具体产品而有所不同。
如图3所示，在基板10的上表面形成一高台材料层11，根据所采用材料不同而有以下不同的形成方法。
第一种是采用感光树脂材料，如压克力树脂系光阻或环氧丙烯酸酯系光阻、聚酯丙烯酸酯系光阻、聚氨基甲酸酯丙烯酸酯系光阻等改质压克力树脂系光阻、聚亚醯胺系光阻、硅氧烷系光阻或者氟系光阻，可藉由裂缝涂布(SlitCoat)、旋转涂布(Spin Coat)、裂缝旋转涂布(Slit and Spin Coat)或者干膜涂布法(Dry Film Lamination)将树脂材料涂布在基板10的表面形成高台材料层11。
第二种是采用非感光性材料，如铟锡氧化物、铟锌氧化物、氧化锌、镉锡氧化物、金属铝等，可藉由真空溅镀或者蒸镀技术形成高台材料层11。
如图4所示，是在基板10上形成高台12。由于感光性树脂材料制成的高台材料层11本身具有感光性，可直接通过光罩对其进行曝光并显影，除去不必要的高台材料层11形成若干图案化的高台12。通过此步骤，可将光罩上的图案完全转移到该高台12上。
由于铟锡氧化物、铟锌氧化物、氧化锌、镉锡氧化物、金属铝等不具感光性，因此，需要在高台材料层11上形成一层光阻层，然后藉由光罩去除光阻层的不必要部份，再利用蚀刻方式将未覆盖光阻层的高台材料层11除去，最后，利用去除剂将光阻层完全除去，以形成若干高台12。
可以理解，该高台12也可以与基板10一体成型，基板10的表面规则地凹凸不平，凸出部份即为高台12，因此，可省略上述形成高台12的步骤。该种方法通常采用塑胶基板，以射出成型方式完成基板10与高台12的一体成型。
如图5所示，利用喷墨装置，例如热泡式喷墨装置或者压电式喷墨装置，将所需要的墨水喷射在所选定的高台12的表面。由于高台12表面张力及内聚力的作用，墨水会黏附在高台12上，然后利用固化装置将该墨水固化以形成图案层13，比如采用真空装置、加热装置或者发光装置(常见为紫外线发光装置)或者其中两者或者三者兼采用之，而使墨水固化在高台12上。
然后，使喷墨装置与基板10之间发生相对运动，以使所有被选定的高台12上均形成图案层13。
若要实现多层图案层，可重复图5所示的步骤，涂布墨水，然后固化墨水，直至完成多层图案层的涂布。
同时，若需要也可增加一制程，直接利用喷墨装置在高台12之间的区域喷入另一种材料作为高台12之间的分隔，该材料常见为黑色碳黑墨水。
形成图案层13后，为了加强薄膜图案层13的防湿性、防污染性、抗氧化性等，可在图案层13上形成一保护层。该保护层一般采用高可靠性的透明材料制成，如聚亚醯胺树脂系、环氧树脂系、压克力树脂系、聚乙烯醇树脂系等。
该薄膜图案层的制造方法可适用在制造彩色滤光片、有机发光二极管等采用喷墨涂布制程的产品。在制造彩色滤光片的过程中，可用此方法分别完成红、绿、蓝三基色层的制造。而在有机发光二极管制造中，此方法制作导电层、发光层及电子电洞传输层等。但是，在制造各种产品的薄膜图案层所需的墨水会有所不同。
另外，本领域技术人员还可以在本发明精神内做其它变化，当然，这些依据本发明精神所做的变化，都应包含在本发明所要求保护的范围之内。
权利要求
1.一种薄膜图案层的制造方法，包括下列步骤提供一个具有若干高台的基板；在选定的高台表面上涂布墨水；干燥墨水形成图案层。
2.如权利要求1所述的薄膜图案层的制造方法，其中该高台与基板一体成型。
3.如权利要求2所述的薄膜图案层的制造方法，其中该高台与基板采用射出成型一体成型。
4.如权利要求1所述的薄膜图案层的制造方法，其中该高台的形成步骤包括在一平板上形成一高台材料层；利用光罩曝光显影去除不必要的高台材料层以形成若干高台。
5.如权利要求4所述的薄膜图案层的制造方法，其中该高台材料层的材料为感光性树脂。
6.如权利要求5所述的薄膜图案层的制造方法，其中该高台材料层为压克力树脂系光阻、改质压克力树脂系光阻、聚亚醯胺系光阻、硅氧烷系光阻或氟系光阻。
7.如权利要求5所述的薄膜图案层的制造方法，其中藉由旋转涂布、裂缝涂布、裂缝旋转涂布或者干膜涂布法形成高台材料层。
8.如权利要求1所述的薄膜图案层的制造方法，其中该高台的形成过程包括在平板形成一高台材料层；在该高台材料层上形成光阻层；利用光罩曝光去除不必要的光阻层；去除未覆盖光阻层的高台材料层；去除剩余的光阻层形成若干高台。
9.如权利要求8所述的薄膜图案层的制造方法，其中该高台材料层的材料为铟锡氧化物、铟锌氧化物、氧化锌、铟镉氧化物或者铝。
10.如权利要求1所述的薄膜图案层的制造方法，其是采用喷墨装置涂布墨水。
11.如权利要求10所述的薄膜图案层的制造方法，进一步包括使喷墨装置与基板相对运动，完成所有选定的高台上的涂布。
12.如权利要求10所述的薄膜图案层的制造方法，其中该喷墨装置为热泡式或者压电式喷墨装置。
13.如权利要求1所述的薄膜图案层的制造方法，其是采用真空装置、加热装置或者发光装置固化墨水。
14.如权利要求1所述的薄膜图案层的制造方法，进一步包括形成覆盖薄膜图案层的保护层的步骤。
15.如权利要求14所述的薄膜图案层的制造方法，其中该保护层的材料为透明物质。
16.如权利要求15所述的薄膜图案层的制造方法，其中该保护层的材料为聚亚醯胺树脂系、环氧树脂系、压克力树脂系或聚乙烯醇树脂系。
17.如权利要求1所述的薄膜图案层的制造方法，其中该基板为玻璃基板、硅晶圆基板、金属基板或者塑胶基板。
18.如权利要求1所述的薄膜图案层的制造方法，其进一步包括在高台之间填充材料。
19.如权利要求18所述的薄膜图案层的制造方法，其是利用喷墨装置在高台之间填充材料。
全文摘要
本发明涉及一种薄膜图案层的制造方法，该方法包括下列步骤提供一个具有若干高台的基板；在选定的高台表面涂布墨水；干燥墨水形成图案层。
文档编号B41J2/01GK101021687SQ200610007549
公开日2007年8月22日 申请日期2006年2月15日 优先权日2006年2月15日
发明者周景瑜 申请人:虹创科技股份有限公司