一种纳米印章的制备工艺的制作方法

文档序号:10709436阅读:374来源:国知局
一种纳米印章的制备工艺的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种纳米印章的制备工艺,包括以下步骤:(1)对母板进行表面处理;(2)在母板上进行聚二甲基硅氧烷复合片的制备;(3)聚二甲基硅氧烷复合片的脱模。本发明具有工艺简单,效率高,能对母板上的图案进行高保真复制的优点。
【专利说明】
一种纳米印章的制备工艺
技术领域
[0001 ]本发明涉及微加工领域,具体涉及一种纳米印章的制备工艺。
【背景技术】
[0002]传统的电子束加工纳米压印印章,刻蚀时去除速率慢,样品会受到一定程度的损伤,同时产率低,制备出来的产品不理想。

【发明内容】

[0003]发明目的:本发明的目的是为了解决现有技术中的不足,提供一种纳米印章的制备工艺,具有工艺简单,效率高,能对母板上的图案进行高保真复制的优点。
[0004]技术方案:一种纳米印章的制备工艺,包括以下步骤:
[0005](I)对母板进行表面处理:将母板放入丙酮中,在超声池中振动4-6min,将母板取出,放入乙醇中,在超声池中再振动4-6min,将母板取出,最后放入去离子水中,在超声池中再振动2-4m i η,取出母板;
[0006](2)在母板上进行聚二甲基硅氧烷复合片的制备:在母板上刷上脱模剂,待脱模剂成膜后,将聚二甲基硅氧烷生胶,在其中加入纳米中间体和溶剂,进行超声震荡3_6min,脱气25-35min后,浇到母板上,用针尖去除气泡,将母板进行旋转,从而在母板上形成聚二甲基硅氧烷纳米预聚体,固化20-26h;聚二甲基硅氧烷与固化剂按8-12:1的质量比混合,搅拌均匀,在真空条件下脱气25-35min后,浇到母板上,用针尖去除气泡,将母板进行旋转,从而在聚二甲基硅氧烷纳米片上形成聚二甲基硅氧烷预聚体,固化40-45h;将聚二甲基硅氧烷生胶,在其中加入纳米中间体和溶剂,进行超声震荡3_6min,脱气25_35min后,饶到母板上,用针尖去除气泡,将母板进行旋转,从而在母板上形成聚二甲基硅氧烷纳米预聚体,在聚二甲基硅氧烷片上再次形成聚二甲基硅氧烷纳米预聚体,固化20-26h,形成聚二甲基硅氧烷复合片;
[0007](3)聚二甲基硅氧烷复合片的脱模:将聚二甲基硅氧烷复合片从母板上揭开,即得聚二甲基硅氧烷印章。
[0008]进一步的,脱模剂为二甲基硅油。
[0009]进一步的,步骤(2)中母板旋转均通过用胶台进行,转速为1000-1200r/min。
[0010]本发明与现有技术相比具有以下优点:本发明提供的纳米印章的制备工艺无需逐行扫描刻蚀,只需曝光一次,即可在大面积上形成图案,降低了制造成本;同时操作步骤简单,使用方便、灵活,提高压印效率,有利于推广应用;采用二甲基硅油为脱模剂,具有良好的润滑性和防韧性能,具有良好的喷出性并能使脱模部件的表面具有良好的光洁性;采用甩胶台进行旋转工作,可以较好的控制转速,同时使得聚二甲基硅氧烷在离心力的作用下加速流动,使其充分填充母板上的空腔,从而能对母板上的图案进行高保真复制。
【具体实施方式】
[0011]为了加深本发明的理解,下面我们将对本发明作进一步详述,以下实施例仅用于解释本发明,并不构成对本发明保护范围的限定。
[0012]—种纳米印章的制备工艺,其特征在于:包括以下步骤:
[0013](I)对母板进行表面处理:将母板放入丙酮中,在超声池中振动4-6min,将母板取出,放入乙醇中,在超声池中再振动4-6min,将母板取出,最后放入去离子水中,在超声池中再振动2-4m i η,取出母板;
[0014](2)在母板上进行聚二甲基硅氧烷复合片的制备:在母板上刷上脱模剂,待脱模剂成膜后,将聚二甲基硅氧烷生胶,在其中加入纳米中间体和溶剂,进行超声震荡3_6min,脱气25-35min后,浇到母板上,用针尖去除气泡,将母板进行旋转,从而在母板上形成聚二甲基硅氧烷纳米预聚体,固化20-26h;聚二甲基硅氧烷与固化剂按8-12:1的质量比混合,搅拌均匀,在真空条件下脱气25-35min后,浇到母板上,用针尖去除气泡,将母板进行旋转,从而在聚二甲基硅氧烷纳米片上形成聚二甲基硅氧烷预聚体,固化40-45h;将聚二甲基硅氧烷生胶,在其中加入纳米中间体和溶剂,进行超声震荡3_6min,脱气25_35min后,饶到母板上,用针尖去除气泡,将母板进行旋转,从而在母板上形成聚二甲基硅氧烷纳米预聚体,在聚二甲基硅氧烷片上再次形成聚二甲基硅氧烷纳米预聚体,固化20-26h,形成聚二甲基硅氧烷复合片;
[0015](3)聚二甲基硅氧烷复合片的脱模:将聚二甲基硅氧烷复合片从母板上揭开,即得聚二甲基硅氧烷印章。
[0016]其中,脱模剂为二甲基硅油,步骤(2)中母板旋转均通过甩胶台进行,转速为1000-1200r/mino
[0017]本发明提供的纳米印章的制备工艺无需逐行扫描刻蚀,只需曝光一次,即可在大面积上形成图案,降低了制造成本;同时操作步骤简单,使用方便、灵活,提高压印效率,有利于推广应用;采用二甲基硅油为脱模剂,具有良好的润滑性和防韧性能,具有良好的喷出性并能使脱模部件的表面具有良好的光洁性;采用甩胶台进行旋转工作,可以较好的控制转速,同时使得聚二甲基硅氧烷在离心力的作用下加速流动,使其充分填充母板上的空腔,从而能对母板上的图案进行高保真复制。
[0018]上述【具体实施方式】,仅为说明本发明的技术构思和结构特征,目的在于让熟悉此项技术的相关人士能够据以实施,但以上内容并不限制本发明的保护范围,凡是依据本发明的精神实质所作的任何等效变化或修饰,均应落入本发明的保护范围之内。
【主权项】
1.一种纳米印章的制备工艺,其特征在于:包括以下步骤: (1)对母板进行表面处理:将母板放入丙酮中,在超声池中振动4-6min,将母板取出,放入乙醇中,在超声池中再振动4-6min,将母板取出,最后放入去离子水中,在超声池中再振动2-4min,取出母板; (2)在母板上进行聚二甲基硅氧烷复合片的制备:在母板上刷上脱模剂,待脱模剂成膜后,将聚二甲基硅氧烷生胶,在其中加入纳米中间体和溶剂,进行超声震荡3_6min,脱气25-35min后,浇到母板上,用针尖去除气泡,将母板进行旋转,从而在母板上形成聚二甲基硅氧烷纳米预聚体,固化20-26h;聚二甲基硅氧烷与固化剂按8-12:1的质量比混合,搅拌均匀,在真空条件下脱气25-35min后,浇到母板上,用针尖去除气泡,将母板进行旋转,从而在聚二甲基硅氧烷纳米片上形成聚二甲基硅氧烷预聚体,固化40-45h;将聚二甲基硅氧烷生胶,在其中加入纳米中间体和溶剂,进行超声震荡3-6min,脱气25-35min后,浇到母板上,用针尖去除气泡,将母板进行旋转,从而在母板上形成聚二甲基硅氧烷纳米预聚体,在聚二甲基硅氧烷片上再次形成聚二甲基硅氧烷纳米预聚体,固化20-26h,形成聚二甲基硅氧烷复合片; (3)聚二甲基硅氧烷复合片的脱模:将聚二甲基硅氧烷复合片从母板上揭开,即得聚二甲基硅氧烷印章。2.根据权利要求1所述的一种纳米印章的制备工艺,其特征在于:所述脱模剂为二甲基硅油。3.根据权利要求1所述的一种纳米印章的制备工艺,其特征在于:所述步骤(2)中母板旋转均通过用胶台进行,转速为I OOO-ι 200r/min。
【文档编号】B41C1/00GK106079845SQ201610430455
【公开日】2016年11月9日
【申请日】2016年6月17日
【发明人】王晶
【申请人】无锡英普林纳米科技有限公司
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