与外涂光刻胶一起使用的涂料组合物的制作方法

文档序号:14685552发布日期:2018-06-14 17:39阅读:来源:国知局
技术特征:

1.一种形成光刻胶浮雕像的方法,所述方法包括:

(a)在基材上涂覆包括树脂的减反射涂料组合物,所述树脂包括1)共价连接的交联剂组分和2)对应于下列式的化合物:

其中所述基团R1OOC(CH2)n-、R2-和R3OOC(CH2)m-中至少两个是不同的酸或酯基团;和

R1、R2和R3各自独立地是氢或非氢取代基;和

n和m可以相同或不同,各自是一个整数;

所述化合物具有卤素取代基;

(b)在上述涂料组合物层上涂覆光刻胶组合物;和

(c)曝光和显影所述光刻胶层,从而制得光刻胶浮雕像,

所述树脂包含聚酯键,

所述树脂是由具有下式的一个或多个化合物形成的:

其中所述基团R1OOC(CH2)n-、R2-和R3OOC(CH2)m-中至少两个是不同的酸或酯基团;和

R1、R2和R3各自独立地是氢或非氢取代基;和

n和m可以相同或不同,各自是一个整数。

2.如权利要求1所述的方法,其中所述减反射组合物在涂覆所述光刻胶组合物之前被交联。

3.如权利要求1或2所述的方法,其中所述化合物具有氟取代基。

4.如权利要求1所述的方法,其中所述交联剂组分包含反应性羟基、氮、羧基和/或环氧基团。

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