1.一种形成光刻胶浮雕像的方法,所述方法包括:
(a)在基材上涂覆包括树脂的减反射涂料组合物,所述树脂包括1)共价连接的交联剂组分和2)对应于下列式的化合物:
其中所述基团R1OOC(CH2)n-、R2-和R3OOC(CH2)m-中至少两个是不同的酸或酯基团;和
R1、R2和R3各自独立地是氢或非氢取代基;和
n和m可以相同或不同,各自是一个整数;
所述化合物具有卤素取代基;
(b)在上述涂料组合物层上涂覆光刻胶组合物;和
(c)曝光和显影所述光刻胶层,从而制得光刻胶浮雕像,
所述树脂包含聚酯键,
所述树脂是由具有下式的一个或多个化合物形成的:
其中所述基团R1OOC(CH2)n-、R2-和R3OOC(CH2)m-中至少两个是不同的酸或酯基团;和
R1、R2和R3各自独立地是氢或非氢取代基;和
n和m可以相同或不同,各自是一个整数。
2.如权利要求1所述的方法,其中所述减反射组合物在涂覆所述光刻胶组合物之前被交联。
3.如权利要求1或2所述的方法,其中所述化合物具有氟取代基。
4.如权利要求1所述的方法,其中所述交联剂组分包含反应性羟基、氮、羧基和/或环氧基团。