1.一种NiO纳米结构阵列材料，其特征在于：包括衬底和设置在衬底上的NiO层；所述NiO层为形貌均一、六角堆积排列的球壳状纳米结构阵列。
2.根据权利要求1所述的NiO纳米结构阵列材料，其特征在于：所述的衬底为氧化铟锡导电玻璃衬底。
3.根据权利要求1所述的NiO纳米结构阵列材料，其特征在于：所述的NiO层球壳状纳米单元的高度为480~540nm。
4.一种NiO纳米结构阵列材料，其特征在于：包括以下步骤：
S1，清洗玻璃衬底和氧化铟锡导电玻璃衬底；
S2，利用自组装方法在S1清洗的玻璃衬底制备聚苯乙烯单层薄膜；
S3，用S1清洗的氧化铟锡导电玻璃衬底捞起S2制备的聚苯乙烯单层薄膜，在室温下自然干燥，形成单层胶体晶体模板；
S4，将S3制备的单层胶体晶体模板置于干燥箱中热处理；
S5，将S4热处理的模板取出后置于磁控溅射仪中，进行溅射镀膜；
S6，将S5溅射镀膜的模板取出后置于马弗炉加热，去除聚苯乙烯模板，形成球壳状结构的NiO纳米阵列材料。
5.根据权利要求4所述的一种NiO纳米结构阵列材料的制备方法，其特征在于：所述步骤S1具体的步骤为：
SA1，将玻璃衬底依次置于丙酮、乙醇和去离子水中分别超声清洗30分钟；
SA2，将玻璃衬底置于浓硫酸与双氧水体积比为3:1的混合液中浸泡8小时，然后超声清洗60分钟，再用去离子水反复清洗；
SA3，将玻璃衬底置于氨水、双氧水、去离子水体积比为1:1:3的混合液中超声清洗60分钟，用去离子水清洗多次后待用；
SA4，氧化铟锡导电玻璃衬底依次在丙酮、乙醇和去离子水中分别超声清洗30分钟，置于去离子水中待用。
6.根据权利要求4所述的一种NiO纳米结构阵列材料的制备方法，其特征在于：所述步骤S2的气液界面自组装法，具体的步骤为：将S1清洗的玻璃衬底置于培养皿中央，向培养皿中缓慢加水，水面略高于玻璃片表面，但不没过玻璃片，然后将直径为1微米、质量百分比为10%的聚苯乙烯微球与乙醇和去离子水按照体积比1:4:4配成混合液，用移液器取20 微升聚苯乙烯微球的混合液滴在玻璃片上，混合液迅速从玻璃片上扩散至水面，并在水面自组装形成聚苯乙烯单层薄膜。
7.根据权利要求4所述的一种NiO纳米结构阵列材料的制备方法，其特征在于：所述步骤S4中干燥箱温度为100度，处理5分钟。
8.根据权利要求4所述的一种NiO纳米结构阵列材料的制备方法，其特征在于：所述步骤S5中磁控溅射靶材为Ni靶，真空度为5×10-7托，溅射气体为高纯氩气，溅射功率为80 W，溅射时间为1000-3000 s。
9.根据权利要求4所述的一种NiO纳米结构阵列材料的制备方法，其特征在于：所述步骤S6中马弗炉温度为400度，处理120分钟。
10.一种使用权利要求1—3中任一项或使用权利要求4-9制备的NiO纳米结构阵列材料制成的电致变色器件。