色阻掩膜板及其使用方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及液晶显示技术领域，特别涉及一种色阻掩膜板及其使用方法。
【背景技术】
[0002]液晶显示器以体积小、重量轻等优点，广泛应用于各种领域。显示面板是液晶显示器的主要组成部分，显示面板主要结构包括阵列基板、与阵列基板对应设置的彩膜基板、设置于阵列基板与彩膜基板之间的液晶层。其中，液晶显示器能呈现彩色影像主要是基于彩膜基板中的RGB色阻。
[0003]在进行RGB色阻涂布之前，需要先制作色阻测试片，以测试RGB色阻的曝光特性、膜厚、色域以及色坐标等参数。测试通过后，再使用色阻掩膜板在彩膜基板上制作RGB色阻。这样需要使用两块掩膜板进行两次对位操作才能完成RGB色阻的制作，造成彩膜基板的制作成本较高。
[0004]故，有必要提供一种色阻掩膜板及其使用方法，以解决现有技术所存在的问题。
【发明内容】
[0005]有鉴于此，本发明提供一种可降低彩膜基板的制作成本的色阻掩膜板及其使用方法；以解决现有的彩膜基板的制作成本较高的技术问题。
[0006]为解决上述技术问题，本发明实施例提供了以下技术方案:
[0007]本发明提供一种色阻掩膜板，用于使用光刻机制作色阻测试片，其特征在于，包括:
[0008]对位测试标识区域，包括多个等间距的对位测试标识；
[0009]对位涂布标识区域，包括多个等间距的对位涂布标识，其中所述对位涂布标识和所述对位测试标识配合对测试色阻的涂布区域进行定位；以及
[0010]图样掩膜区域，包括多个用于涂布所述测试色阻的掩膜图样；
[0011]其中所述对位测试标识和所述对位涂布标识一一对应；根据相邻像素的间距以及所述光刻机的单次曝光区域的边长确定相邻的所述对位涂布标识之间的间距，以及相邻的所述对位测试标识之间的间距；根据相邻像素的间距确定所述对位涂布标识和相应的所述对位测试标识的间距。
[0012]在本发明所述的色阻掩膜板中，所述对位测试标识的图样与所述对位涂布标识的图样不同。
[0013]在本发明所述的色阻掩膜板中，相邻的所述对位涂布标识之间的间距大于等于所述光刻机的单次曝光区域的边长，相邻的所述对位测试标识之间的横向间距大于等于所述光刻机的单次曝光区域的边长，相邻的所述对位测试标识之间的纵向间距等于所述相邻像素的纵向间距。
[0014]在本发明所述的色阻掩膜板中，所述对位涂布标识和相应的所述对位测试标识的间距满足:
[0015]d = num*n*p ；
[0016]其中d为对位涂布标识和相应的对位测试标识的间距，num为所述对位涂布标识区域中的所述对位涂布标识的数量，P为相邻像素的间距，η为大于I的任意正整数，d大于所述光刻机的单次曝光区域的边长。
[0017]在本发明所述的色阻掩膜板中，所述对位涂布标识包括红色对位涂布标识、蓝色对位涂布标识以及绿色对位涂布标识；
[0018]所述对位测试标识包括红色对位测试标识、蓝色对位测试标识以及绿色对位测试标识O
[0019]在本发明所述的色阻掩膜板中，所述对位涂布标识包括红色对位涂布标识、蓝色对位涂布标识、绿色对位涂布标识以及黄色对位涂布标识；
[0020]所述对位测试标识包括红色对位测试标识、蓝色对位测试标识、绿色对位测试标识以及黄色对位测试标识。
[0021]本发明还提供一种色阻掩膜板的使用方法，用于使用光刻机制作色阻测试片，其中所述色阻掩膜板包括:
[0022]对位测试标识区域，包括多个等间距的对位测试标识；
[0023]对位涂布标识区域，包括多个等间距的对位涂布标识，其中所述对位涂布标识和所述对位测试标识配合对测试色阻的涂布区域进行定位；以及
[0024]图样掩膜区域，包括多个用于涂布所述测试色阻的掩膜图样；
[0025]其中所述对位测试标识和所述对位涂布标识一一对应；根据相邻像素的间距以及所述光刻机的单次曝光区域的边长确定相邻的所述对位涂布标识之间的间距，以及相邻的所述对位测试标识之间的间距；根据相邻像素的间距确定所述对位涂布标识和相应的所述对位测试标识的间距；
[0026]所述色阻掩膜板的使用方法包括:
[0027]使用所述色阻掩膜板的所述对位测试标识区域的所述对位测试标识，对所述色阻测试片的边缘的测试色阻层进行图形化处理，以在所述色阻测试片的边缘形成所述测试色阻构成的基板对位测试标识；以及
[0028]根据所述基板对位测试标识以及所述对位涂布标识，使用所述色阻掩膜板的所述图样掩膜区域的所述掩膜图样，对所述色阻测试片的中部的测试色阻层进行图形化处理，以在所述色阻测试片的中部形成所述测试色阻构成的测试色阻图案。
[0029]在本发明所述的色阻掩膜板的使用方法中，所述对位涂布标识包括红色对位涂布标识、蓝色对位涂布标识以及绿色对位涂布标识；
[0030]所述对位测试标识包括红色对位测试标识、蓝色对位测试标识以及绿色对位测试标识；
[0031]所述色阻掩膜板的使用方法包括:
[0032]涂布测试红色色阻层；
[0033]使用所述色阻掩膜板的所述对位测试标识区域的所述红色对位测试标识、所述蓝色对位测试标识以及所述绿色对位测试标识，对所述色阻测试片的边缘的测试红色色阻层进行图形化处理，以在所述色阻测试片的边缘形成所述测试色阻构成的基板红色对位测试标识、基板蓝色对位测试标识以及基板绿色对位测试标识；
[0034]使用所述色阻掩膜板的所述图样掩膜区域的所述掩膜图样，对所述色阻测试片中部的测试红色色阻层进行图形化处理，以在所述色阻测试片的中部形成测试红色色阻图案；
[0035]涂布测试蓝色色阻层；
[0036]根据所述基板蓝色对位测试标识以及所述蓝色对位涂布标识，对色阻掩膜板的位置进行调整；
[0037]使用所述色阻掩膜板的所述图样掩膜区域的所述掩膜图样，对所述色阻测试片中部的测试蓝色色阻层进行图形化处理，以在所述色阻测试片的中部形成测试蓝色色阻图案；
[0038]涂布测试绿色色阻层；
[0039]根据所述基板绿色对位测试标识以及所述绿色对位涂布标识，对色阻掩膜板的位置进行调整；
[0040]使用所述色阻掩膜板的所述图样掩膜区域的所述掩膜图样，对所述色阻测试片中部的测试绿色色阻层进行图形化处理，以在所述色阻测试片的中部形成测试绿色色阻图案。
[0041]在本发明所述的色阻掩膜板的使用方法中，所述对位测试标识的图样与所述对位涂布标识的图样不同；
[0042]相邻的所述对位涂布标识之间的间距大于等于所述光刻机的单次曝光区域的边长，相邻的所述对位测试标识之间的横向间距大于等于所述光刻机的单次曝光区域的边长，相邻的所述对位测试标识之间的纵向间距等于所述相邻像素的纵向间距。
[0043]在本发明所述的色阻掩膜板的使用方法中，所述对位涂布标识和相应的所述对位测试标识的间距满足:
[0044]d = num*n*p ；
[0045]其中d为对位涂布标识和相应的对位测试标识的间距，num为所述对位涂布标识区域中的所述对位涂布标识的数量，P为相邻像素的间距，η为大于I的任意正整数，d大于所述光刻机的单次曝光区域的边长。
[0046]相对于现有技术，本发明的色阻掩膜板及其使用方法，通过在同一掩膜板上同时设置具有对位涂布标识的对位涂布标识区域以及具有对位测试标识的对位测试标识区域，同时根据相邻像素的间距确定对位涂布标识和相应的对位测试标识的间距；从而可有效的降低彩膜基板制作成本；解决了现有的彩膜基板的制作成本较高的技术问题。
【附图说明】
[0047]为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面对实施例中所需要使用的附图作简单的介绍。下面描述中的附图仅为本发明的部分实施例，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获取其他的附图。
[0048]图1为本发明的色阻掩膜板的优选实施例的结构示意图；
[0049]图2A为使用本发明的色阻掩膜板制作色阻测试片的制作示意图之一；
[0050]图2B为使用本发明的色阻掩膜板制作色阻测试片的制作示意图之二 ；
[0051]图2C为使用本发明的色阻掩膜板制作色阻测试片的制作示意图之三；
[0052]图3为本发明的色阻掩膜板的使用方法的流程图。
【具体实施方式】
[0053]请参照附图中的图式，其中相同的组件符号代表相同的组件。以下的说明是基于所例示的本发明具体实施例，其不应被视