摄影电影;光学设备的制造及其处理,应用技术
  • 一种办公室用打印机墨粉环保处理装置的制作方法
    本发明涉及一种办公室设备,具体是一种办公室用打印机墨粉环保处理装置。目前在办公室的工作过程中大多数都会使用到打印机,但是就目前打印机的使用隐患来说,多数打印机不能避免会散失一部分墨粉,然而墨粉中大多含有有害人体健康的硒粉,因此为了解决上述一些办公室健康问题,但是目前人们在处理办公室墨粉的...
  • 显影盒的制作方法
    本发明涉及电子照相成像领域,尤其涉及一种可适用于电子照相成像设备中的显影盒。电子照相成像是利用加载有成像信息的激光照射光敏件表面,在光敏件表面形成静电潜像,再利用显影剂将静电潜像显影,然后再由光敏件将显影后的静电潜像转移至成像介质,最后被定影固化的过程。常见的,用于显影静电潜像的显影剂被存...
  • 一种接近式光刻机实时调平系统及调平方法与流程
    本发明属于微细结构制作设备中光刻机的调平,具体涉及一种接近式光刻机的实时调平系统及调平方法。光学光刻一直作为大规模集成电路工业制造技术的基础,随着高集成度电路以及相关器件的研发,IC特征尺寸越来越小,高分辨率光刻技术得到了长足的发展。由于传统光学系统无法传输倏逝波,因此其分辨力受限...
  • 用于面板冷却装置的缓冲箱、面板冷却装置的制作方法
    本发明属于面板制作,具体地讲,涉及一种用于面板冷却装置的缓冲箱、面板冷却装置。在显示面板制作中,光阻剂是必需用品。光阻剂主要由树脂(Resin)、感光剂(Sensitizer)及溶剂(Solvent)等不同的成分混合而成,VCD(VacuumDry,即真空干燥)工艺的主要作用是将...
  • 一种超薄ITO玻璃生产线及生产方法与流程
    本发明涉及超薄玻璃生产技术,尤其是一种超薄ITO玻璃生产线及生产方法。触摸屏的基本生产流程为:已镀ITO导电膜的玻璃由清洗机进入,经各机台完成相应的工艺后完成导电膜图形制作,最终进入收料机内的篮具内完成生产,但对超薄型的ITO玻璃而言,现有的生产工艺存在有如下问题:1、由于是超薄玻璃,其自...
  • 一种基于CCD相干因子检测装置的最佳像面调校方法与流程
    本发明涉及到光学投影曝光光刻的透镜轴向CCD离焦情况的检测装置,尤其是能实现装置中CCD在透镜轴向最佳像面的校准。集成电路制造中利用光化学反应原理,将电路图形传递到单晶表面或介质层上,形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术,称为光刻技术。集成电路规模从60年代的每个芯片上只有几十个晶体管到现...
  • 准分子激光光刻照明系统相干因子的校准方法与流程
    本发明涉及准分子激光光刻照明系统相干因子测量装置,该方法很好的实现了测量装置中CCD感光面与透镜焦平面存在一定夹角的校准。集成电路制造中利用光学—化学反应原理和化学、物理刻蚀方法,将掩模图形转移到单晶表面上,形成有效功能图形的工艺技术,称为光刻技术。光学曝光光刻,由于具有成本低、分辨率高、...
  • 一种基于白光干涉间隙检测和超精密对准套刻技术的分离式近场微纳光刻方法和装置与流程
    本发明涉及近场微纳光刻加工,更具体地,涉及一种基于白光干涉精密间隙检测和超精密对准套刻技术的分离式近场微纳光刻方法和装置,可实现分离式超分辨微纳光刻。随着IC产业的高速发展,电子产品集成电路小型化以及存储密度越来越高,因此迫切需要研制出具有高效、低成本、大面积、可控性好的加工技术和...
  • 一种OGS结构的手机图案印刷方法及装置与流程
    本发明涉及手机设计领域,尤其涉及一种手机图案印刷方法及装置。由于不同客户的个性化需求,往往需要在手机上印刷不同的图案,如不同LOGO和定制的花纹图案等。传统的印刷工艺中采用丝印进行印刷,但是丝印存在较大的丝印误差,如果需要较小的缝隙间进行印刷,如在手机IR孔和指示灯之间印刷LOGO,则需要...
  • 基于柔性铰链结构的超分辨光刻方法和装置与流程
    本发明涉及纳米加工,具体涉及一种基于柔性铰链结构的超分辨光刻方法和装置。众所周知,SP光刻技术作为近场光刻模式,工作距比较短,不同分辨率的工作距只有百纳米到几纳米。为了满足工作距要求,在曝光时通常需要通过吹气加压和真空吸紧等方式使掩模与基片尽可能的贴紧调平。现有贴紧调平技术中,多采...
  • 一种声表面波滤波器应用泛曝光的双层胶剥离工艺的制作方法
    本发明涉及电学及纳米加工,特别是一种声表面波滤波器应用泛曝光的双层胶剥离工艺。随着新一代移动通讯时代到来,声表面波滤波器(SAWF)广泛的应用在射频移动通信中,声表面波芯片工艺正高速发展,工艺的新研究、新发现已成为重要侧重点。传统的双层胶剥离工艺由于使用了上窄下宽的累“倒梯形”结构...
  • 一种超衍射极限纳米图形的制作方法与流程
    本发明涉及纳米光刻,特别的是涉及一种激光直写设备在衬底上制备超衍射极限纳米图形的方法。纳米光刻是微纳加工非常重要的一个步骤,它利用光化学反应将电路的图形转移到衬底(例如砷化镓衬底,硅衬底)。由于光具有亚微米级的波长,因此光学光刻可以实现微米级精密的微纳结构加工。随着纳米加工工艺的要...
  • 本发明涉及显示面板制造领域,尤其涉及一种涂布机及其刮拭装置。现有技术TFTLCD行业中,涂布机是不可或缺的一个设备,涂布机将光阻均匀的涂布基板上,从而进行后续的光阻曝光,显影等制程,完成光罩图像的转刻。其中:涂布机吐出光阻的机构被称为口金,口金由高精密加工的材质构成。口金的清洁度对涂布的...
  • 本发明涉及一种激光直接成像正性感光水溶性阻焊干膜及用途。干膜光致抗蚀剂自1958年开发以来,便被广泛应用于现代电子工业,随着科技的不断进步,企业对高精度线路板的要求以及需求量都大幅度增加,同时也对干膜抗蚀剂提出了新的要求。目前,市场上已经涌现出一批性能优异的干膜光致抗蚀剂,专利CN...
  • 微型掩膜版、掩膜版装置及激光头的制作方法
    本公开一般涉及激光封装领域,尤其涉及微型掩膜版、掩膜版装置及激光头。在显示器件的封装领域,现有技术是在4.8mm厚度的玻璃上制作掩膜版,其上设置有与密封胶封装图形对应的透光区,激光透过掩膜版的透光区对密封胶进行激光烧结而实现封装。使用上述掩膜版进行封装时,需要将掩膜版与被封装面板进行对位,...
  • 光学系统的制作方法
    本申请是申请日为2011年12月14日、发明名称为“光学系统、成像装置及用于制造光学系统的方法”、申请号为:201180067797.1的中国发明专利申请的分案申请。本发明涉及具有减振功能的光学系统、具有该光学系统的成像装置,以及制造该光学系统的方法。到目前为止,已经提出了将具有减...
  • 一种性能稳定的电致变色薄膜及其制备方法与流程
    本发明属于表面工程,具体涉及一种性能稳定的电致变色薄膜及其制备方法。电致变色技术可广泛应用于建筑窗、汽车防眩后视镜、飞机舷窗、航天器热控领域。将电致变色应用在能源领域达到节约能耗的效果,极具社会意义和商业价值。现有的无机材料全固态电致变色薄膜一般为阳极着色和阴极着色材料互补的五层结...
  • GOA电路的信号走线结构以及阵列基板、液晶显示面板的制作方法
    本发明涉及显示器,尤其涉及一种GOA电路的信号走线结构,还涉及包含所述GOA电路的信号走线结构的阵列基板和液晶显示面板。近些年来,液晶显示器的发展呈现出了高集成度,低成本的发展趋势。其中一项非常重要的技术就是GOA(GateDriveronArray,阵列基板行驱动)的技术量...
  • 一种显示面板及显示装置的制作方法
    本申请涉及显示,尤其涉及一种显示面板及显示装置。显示面板的阵列基板上设置有纵横交错的扫描信号线和数据信号线,扫描信号线和数据信号线之间设置有像素单元,每个像素单元内设置有薄膜晶体管(TFT,ThinFilmTransistor)和像素电极。如图1所示,图1为现有技术中阵列基板的...
  • 一种三层叠加结构的彩色电子纸显示装置的制作方法
    本发明属于电子纸,尤其涉及一种三层叠加结构的彩色电子纸显示装置。胆甾液晶型彩色电子纸是采用单层或三层叠加以PM(无源矩阵,PassiveMatrix)驱动来实现全彩色图像呈现的一种显示方式,这些技术方案是通过胆甾型液晶材料具有独特的布拉格反射,调整胆甾型液晶分子的螺距和双折射率确定...
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