一种智能穿戴设备的纳米防水膜的制备方法与流程

文档序号:12585295阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种智能穿戴设备的纳米防水膜的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:

1)对待镀膜的智能穿戴设备表面进行清洗,然后烘干,烘干温度为20-25℃,烘干时间为25-30min;

2)将待镀膜的智能穿戴设备放入真空镀膜室,加热并抽真空;

3)将镀膜原材料放入蒸发室,继续抽真空,镀膜原材料加热升华;

4)连通蒸发室与裂解室,镀膜原材料升华进入裂解室裂解成活性单体;

5)活性单体进入真空镀膜室,最后沉积在智能穿戴设备的表面,得到防水膜层。

2.根据权利要求1所述的一种智能穿戴设备的纳米防水膜的制备方法,其特征在于:所述步骤1)中的清洗使用清洗剂为无水乙醇和NY-120号汽油按照体积比为1:1混合的混合物。

3.根据权利要求1所述的一种智能穿戴设备的纳米防水膜的制备方法,其特征在于:所述步骤1)中的烘干时间为25℃,烘干时间为30min。

4.根据权利要求1所述的一种智能穿戴设备的纳米防水膜的制备方法,其特征在于:所述镀膜原材料为聚对二甲苯类型粉体,聚对二甲苯类型粉体包括有N粉、C粉和D粉,所述N粉、C粉和D粉的重量比为1.5:3:2。

5.根据权利要求1所述的一种智能穿戴设备的纳米防水膜的制备方法,其特征在于:所述步骤3)中的升华温度为135℃-140℃,蒸发压力为28-32Pa。

6.根据权利要求1所述的一种智能穿戴设备的纳米防水膜的制备方法,其特征在于:所述步骤4)中的裂解温度为675℃-680℃,裂解压力为10-11Pa。

7.根据权利要求1所述的一种智能穿戴设备的纳米防水膜的制备方法,其特征在于:所述步骤5)中待镀膜的智能穿戴设备表面温度为35℃-40℃,镀膜压力为5-5.5Pa。

8.根据权利要求1所述的一种智能穿戴设备的纳米防水膜的制备方法,其特征在于:所述防水膜层的厚度为15-20μm。

9.根据权利要求1所述的一种智能穿戴设备的纳米防水膜的制备方法,其特征在于:所述步骤2)中当蒸发室的温度达到120℃时打开冷泵进行抽真空。

10.根据权利要求1所述的一种智能穿戴设备的纳米防水膜的制备方法,其特征在于:所述步骤3)中放镀膜原材料前,抽真空用的冷泵的温度至少达到-30℃以下。

当前第2页1 2 3 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1