真空镀膜方法和真空镀膜治具与流程

文档序号:12099353阅读:来源:国知局
技术总结
本发明涉及一种真空镀膜方法和真空镀膜治具,该方法包括:将由第一材质组成的第一部件和由第二材质组成的第二部件拼接形成成形体,成形体具有第一材质部分与第二材质部分,其中,第一材质和第二材质相异;将成形体固定安装在治具上,其中,治具包括治具底座,治具底座开设有容置槽,成形体的第一材质部分固定于治具底座上,成形体的第二材质部分至少部分放置于容置槽内;对固定在治具上的成形体进行真空镀膜处理。将两种材质的部件相拼接,对拼接后的成形体进行整体镀膜,由于成形体放置在治具上,治具能够传导聚集在成形体上的多余电荷,避免电荷在成形体上聚集,避免局部放电对成形体的损坏,从而使得成形体镀膜效果更佳。

技术研发人员:陈志斌;刘兵;杨伟;李维超
受保护的技术使用者:深圳市万普拉斯科技有限公司
文档号码:201610883786
技术研发日:2016.10.09
技术公布日:2017.03.22

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