技术总结
本实用新型公开了一种行走式打磨装置，包括一基架和一打磨终端，所述的打磨终端通过一行走机构设置在基架上。由于本实用新型中打磨终端通过行走机构设置在基架上，因此可以根据需要方便、灵活的移动打磨终端至适宜的位置，方便使用。
技术研发人员：潘长华;肖同桂;张四军;陈正佳;黄小波;钟清林;欧德胜;何进爵;赖健;钟如勤;李红;潘碧容;赵文耀;王伟;陈健;陈武明;李永振;黄关山;周晓红;李芳;刘敏;綦镜;张庆;曾巍
受保护的技术使用者：中山市迪米尔机电设备有限公司
文档号码：201621376569
技术研发日：2016.12.14
技术公布日：2017.08.25