本实用新型涉及镜片镀膜领域，尤其涉及一种镜片真空镀膜用的坩埚装置。
背景技术：
镜片真空镀膜工艺过程包括对真空镀膜机抽真空，使真空室处于真空状态，再通过电子枪束流对真空室底部坩埚内的镀膜材料加热，镀膜材料在加热到一定的温度后，镀膜材料会产生升华，升华出的镀膜材料分子沉积在真空室上部的产品表面形成薄膜。
现有技术的坩埚上设有圆形或矩形的放料槽，在放料槽内放置镀膜材料。工作时，坩埚转动，坩埚一侧的电子枪对放料槽内的镀膜材料加热，使镀膜材料升华。然而，圆形或矩形的放料槽设置在坩埚上，放料槽之间有空隙，当空隙转到电子枪前面时，电子枪并不能对准镀膜材料加热，导致镀膜材料升华量随时间而变化，可能会造成镀膜不均匀，且造成了资源浪费，生产效率较低。
技术实现要素：
针对现有技术的不足，本实用新型所要解决的技术问题是如何使镀膜材料均匀蒸出，提高生产效率。
为解决上述技术问题，本实用新型所采用的技术方案是：
提供一种镜片真空镀膜用的坩埚装置，包括转动盘，所述转动盘上设有环形的坩埚，所述坩埚由转动盘带动转动；所述坩埚上面设有环形的用于放置镀膜材料的放料槽。
进一步地，所述坩埚一侧设有电子枪。
本实用新型能够取得以下有益效果：
本实用新型在环形的坩埚上设有环形的放料槽，蒸镀时电子枪能够均匀地对镀膜材料进行加热，改善了产品质量，提高了效率。
附图说明
图1是本实用新型的立体结构示意图。
具体实施方式：
以下将结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步的说明:
如图1所示的一种镜片真空镀膜用的坩埚装置，包括转动盘1，所述转动盘1上设有环形的坩埚2，所述坩埚2由转动盘1带动转动；所述坩埚2上面设有环形的用于放置镀膜材料的放料槽3。所述坩埚2一侧设有电子枪4。
本实用新型工作时，转动盘1带动坩埚2转动，电子枪4对放料槽3内的镀膜材料进行加热。由于放料槽3是环形结构，坩埚2转动时任何时候放料槽3内的镀膜材料均位于电子枪4旁，能够均匀地使镀膜材料加热升华，改善了镜片的镀膜效果，提高了生产效率。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出的是，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也不超出本实用新型记载的范围。