1.一种镜片真空镀膜用的坩埚装置，其特征在于包括转动盘(1)，所述转动盘(1)上设有环形的坩埚(2)，所述坩埚(2)由转动盘(1)带动转动；所述坩埚(2)上面设有环形的用于放置镀膜材料的放料槽(3)。
2.根据权利要求1所述的一种镜片真空镀膜用的坩埚装置，其特征在于所述坩埚(2)一侧设有电子枪(4)。